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国家自然科学基金(60232090)
作品数:
1
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雷耀虎
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2010
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硬X射线相位光栅的设计与研制
被引量:2
2010年
针对在普通实验室和医院实现40—100keVX射线相衬成像的需求,考虑到成像系统参数、X射线源空间相干特性及光栅衍射效率,设计出硅基相位光栅结构参数.利用我们已发展的光助电化学刻蚀技术研制出直径为5英寸的相位光栅,其空间周期为5.6μm,线宽为2.8μm,深度为40—70μm.在理论分析的基础上,通过提高硅片两端有效工作电压和修正Lehmann电流密度公式,解决了实际刻蚀过程中出现的钻蚀问题.由实验结果可知,本方案对制作大面积高精度相位光栅十分有效。
刘鑫
雷耀虎
赵志刚
郭金川
牛憨笨
关键词:
X射线
相衬成像
相位光栅
硅刻蚀
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