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国家高技术研究发展计划(2007AA03Z558)

作品数:6 被引量:28H指数:3
相关作者:杨建锋鲁元刘萍乔冠军李永锋更多>>
相关机构:西安交通大学西北工业大学西安邮电大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:化学工程一般工业技术电气工程理学更多>>

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 3篇化学工程
  • 3篇一般工业技术
  • 2篇电气工程
  • 1篇理学

主题

  • 4篇氮化
  • 4篇陶瓷
  • 2篇氮化硅
  • 2篇氮化硅陶瓷
  • 2篇氮化硼
  • 2篇多孔
  • 2篇多孔氮化硅
  • 2篇多孔氮化硅陶...
  • 2篇碳热还原
  • 2篇热还原
  • 2篇六方氮化硼
  • 2篇复相
  • 2篇SI3N4/...
  • 2篇常压烧结
  • 1篇单晶
  • 1篇等离子
  • 1篇等离子喷涂
  • 1篇氧化铝
  • 1篇氧化钇
  • 1篇氧化锆

机构

  • 6篇西安交通大学
  • 1篇西北工业大学
  • 1篇盐城工学院
  • 1篇西安邮电大学

作者

  • 4篇杨建锋
  • 2篇李永锋
  • 2篇乔冠军
  • 2篇鲁元
  • 2篇刘萍
  • 1篇陆伟忠
  • 1篇李京龙
  • 1篇王向东
  • 1篇刘桂武
  • 1篇程基宽
  • 1篇金海云
  • 1篇于方丽
  • 1篇白宇
  • 1篇陕绍云
  • 1篇史忠旗
  • 1篇高积强
  • 1篇刘光亮
  • 1篇戴培赟
  • 1篇史永贵

传媒

  • 4篇硅酸盐学报
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇中国科技论文...

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 2篇2010
  • 1篇2009
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
α-Si_3N_4晶种对层状多孔氮化硅陶瓷性能的影响被引量:3
2009年
利用二氧化硅在氮气中的碳热还原反应,原位制备氮化硅多孔陶瓷。由于反应中存在大量的质量损失,烧结后可望形成高气孔的材料。通过改变原料中α-Si3N4晶种与二氧化硅和碳粉的相对含量,获得了气孔率可控的多孔氮化硅陶瓷。以此种控制多孔氮化硅气孔率的工艺为基础,制备三层层状多孔氮化硅陶瓷,考察中间层的成分和层间界面对层状多孔氮化硅陶瓷微观组织和力学性能的影响。当中间层与表面层的收缩率相差较大时,虽然是弱界面结合,但产生的界面残余应力对层状多孔氮化硅的力学性能非常有利;当中间层与表面层的收缩率和气孔率接近时,弱界面结合转变为强界面结合。所制备的三层层状多孔氮化硅陶瓷具有优异的力学性能。
鲁元杨建锋陆伟忠高积强陕绍云
关键词:材料学碳热还原反应
籽晶处理工艺对物理气相传输法生长SiC单晶的影响被引量:1
2010年
将块体SiC单晶中切割下的晶片经研磨、抛光和腐蚀不同工艺处理后作为籽晶,用物理气相传输法生长SiC晶体,生长时间为10min。用光学显微镜观察晶片生长前后的形貌,讨论了不同处理工艺籽晶对晶体生长的影响。结果表明,研磨和抛光可以去除晶体切割时产生的凹坑和划痕,但残留的研磨变质层和抛光导致的机械损伤层可诱导晶片在高温晶体生长时产生多晶成核,腐蚀可以去除研磨和抛光时产生的机械损伤层,用腐蚀后的晶片作为籽晶,生长的晶体表面光滑,并且能够很好地复制籽晶的结构。
戴培赟史永贵杨建锋刘光亮程基宽
关键词:碳化硅单晶晶体生长籽晶
多孔Si3N4/BN复相陶瓷的常压烧结制备被引量:3
2010年
以微米级Si3N4和h-BN粉末为原料,Yb2O3-Al2O3-Y2O3为烧结助剂,采用常压烧结工艺制备了BN体积含量为25%的多孔Si3N4/25%h-BN复相陶瓷。研究了Yb2O3添加量对Si3N4/25%BN复相陶瓷力学性能的影响,通过X射线衍射和扫描电子显微镜分析了复相陶瓷的物相组成和显微结构。结果表明:随着Yb2O3添加量增加,制备的Si3N4/25%BN复相陶瓷的气孔率逐渐增大,收缩率变小,相对密度减小。Yb2O3添加量为2%(质量分数)时,Si3N4/25%BN复相陶瓷的气孔率为15.1%,相对密度为72.8%;当Yb2O3添加量提高至15%时复相陶瓷的气孔率增加至32.1%,相对密度则降至60.3%。同时随着Yb2O3添加量增加,复相陶瓷的室温抗弯强度先增大后减小,Yb2O3含量为4%时,室温抗弯强度呈现最大值,可达264.3MPa。
李永锋刘萍王向东金海云乔冠军
关键词:六方氮化硼常压烧结
碳热还原-反应烧结法制备多孔氮化硅陶瓷被引量:21
2013年
以廉价的二氧化硅、炭黑和硅粉为起始原料,利用碳热还原–反应烧结法制备了高气孔率、孔结构均匀的多孔氮化硅陶瓷,考察了原料中硅粉含量对多孔氮化硅陶瓷微观组织和力学性能的影响。XRD分析表明烧结后的试样成分除了少量的-Si3N4相和晶间相Y2Si3O3N4外,其余都是β-Si3N4相;SEM分析显示微观组织由棒状β-Si3N4晶粒和均匀的孔组成。通过改变硅粉的含量,制备了不同气孔率,力学性能优异的多孔氮化硅陶瓷。
鲁元杨建锋李京龙
关键词:多孔氮化硅陶瓷气孔率
氟化钙对常压烧结Si3N4/BN复相陶瓷结构与性能的影响被引量:1
2012年
以微米级Si3N4和h-BN粉末为原料,CaF2–Al2O3–Y2O3为烧结助剂,采用常压烧结工艺制备了BN体积含量为25%的Si3N4/BN复相陶瓷。研究了CaF2添加量对Si3N4/BN复相陶瓷材料力学性能的影响,并通过X射线衍射和场发射扫描电镜分析了复相陶瓷的物相组成和显微组织。结果表明:随着CaF2添加量增加,制备的Si3N4/BN复相陶瓷材料气孔率逐渐增大,收缩率变小,相对密度减小。添加量为2%(质量分数)时,Si3N4/BN复相陶瓷的室温抗弯强度达145.5MPa。添加适量的CaF2可在Si3N4/BN复相陶瓷材料常压烧结过程中较大程度地破坏h-BN的卡片房式结构,将微米级的h-BN颗粒变成纳米级颗粒。
李永锋刘萍刘桂武史忠旗乔冠军
关键词:六方氮化硼常压烧结
纳米Al2O3–ZrO2涂层的制备与微观结构
2011年
用Al(NO3)3.9H2O、ZrOCl2.8H2O及NH4OH作为原料,采用溶胶–凝胶工艺制备出Al2O3–40%(质量分数)ZrO2纳米复合粉体。并以此粉体为原料,用等离子喷涂工艺在不锈钢基体上制备了Al2O3–40%ZrO2纳米涂层。采用X射线衍射、扫描电子显微镜及高分辨透射电子显微镜分析粉体及涂层的物相及微观结构。结果表明:当煅烧温度从900℃升高至1 200℃过程中,复合粉体中的θ-Al2O3逐渐向α-Al2O3转变,当煅烧温度达到1 200℃时,粉体中仅存在α-Al2O3。此外,单斜相二氧化锆(m-ZrO2)与四方相二氧化锆(t-ZrO2)共存于粉体中,并且m-ZrO2含量随煅烧温度及保温时间的增加而增加。喷涂后的Al2O3–40%ZrO2纳米涂层是由尺寸约为50 nm的晶粒及一些非晶相组成,晶粒的物相为α-Al2O3、γ-Al2O3及t-ZrO2。
于方丽白宇LEE Soowohn杨建锋
关键词:氧化铝氧化锆溶胶-凝胶法等离子喷涂
共1页<1>
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