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山东省自然科学基金(ZR2011EMQ005)

作品数:2 被引量:0H指数:0
相关作者:吴海涛陈相逢孙斌李娟潘菲更多>>
相关机构:济南大学更多>>
发文基金:山东省自然科学基金更多>>
相关领域:电气工程电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程

主题

  • 2篇光刻
  • 2篇光刻工艺
  • 1篇阵列
  • 1篇正胶
  • 1篇瑞红
  • 1篇陶瓷
  • 1篇陶瓷基
  • 1篇介质陶瓷
  • 1篇溅射
  • 1篇SLC
  • 1篇叉指电极
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 2篇济南大学

作者

  • 2篇吴海涛
  • 1篇冯婷婷
  • 1篇潘菲
  • 1篇李娟
  • 1篇孙斌
  • 1篇陈相逢

传媒

  • 2篇产业与科技论...

年份

  • 2篇2012
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
国产苏州瑞红RZJ304光刻正胶应用工艺研究
2012年
本文以国产瑞红RZJ304正胶为载体,基于光刻工艺环节中各工艺参数要求,以线宽1、2、5微米的叉指电极为标准,重点研究各工艺参数如曝光强度、曝光时间以及显影时间等关键因素对光刻效果的影响程度;以此表征该类型光刻胶良好的光刻效果,为后续实际器件加工与应用奠定基础。
陈相逢李娟冯婷婷吴海涛
关键词:光刻工艺正胶叉指电极
陶瓷基单层电容器(SLC)阵列设计与加工工艺实验研究
2012年
本文以SLC单层电容应用背景为前提,以介质陶瓷研究为衬底,采用半导体制造工艺技术探索陶瓷基SLC的制备工艺。首先利用专业软件L-EDIT进行设计掩模版图形,完成SLC单层电容所需掩模版加工制作;然后充分探索SLC制备环节中光刻工艺关键技术与参数,摸索出光刻环节线宽精度到1μm的工艺过程最后探索磁控溅射技术各项参数,调整工艺,制备出与掩模版图形设计相符合的SLC单层电容阵列。
孙斌潘菲吴海涛
关键词:光刻工艺磁控溅射介质陶瓷
共1页<1>
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