黑龙江省教育厅资助项目(12521602)
- 作品数：5 被引量：3H指数：1
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- 相关领域：化学工程理学更多>>
- 吲哚方酸菁染料在表面活性剂水溶液中的光降解被引量：1
- 2012年
- 考察了4种含有不同N位取代基的对称吲哚方酸菁染料在阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)、阴离子表面活性剂十二烷基硫酸钠(SDS)和非离子表面活性剂曲拉通(TX-100)水溶液中的光降解行为,结果表明,表面活性剂对染料分子具有保护作用,其影响大小为CTAB>TX-100>SDS,分子中有羧基的染料受影响程度最大。在表面活性剂浓度较低时,染料光降解程度随着表面活性剂浓度的增加而增加,但形成胶束后,染料的光降解程度则随着表面活性剂浓度的升高而降低。
- 宋波王晓辉刘永强马文辉
- 关键词：菁染料表面活性剂光降解
- 甲苄基不对称三甲川菁染料的合成及光谱性能
- 2012年
- 以对肼基苯磺酸和3-甲基-2-丁酮为原料经催化合成2,3,3-三甲基-3H-吲哚-5-磺酸,进一步制得钾盐。经钾盐合成N-甲苄基取代吲哚季铵盐。采用一步法将钾盐与吲哚季铵盐缩合为一种不对称三甲川菁染料,并考查其光谱性能。所合成染料经C-18反相柱分离提纯,利用核磁共振氢谱进行了结构表征。
- 宋波房正薇郭晶丽姜婷婷
- 关键词：菁染料光谱性能
- 氰苄基方酸菁染料的合成及光谱性能被引量：1
- 2014年
- 以2,3,3-三甲基-3H-吲哚为原料,合成了N-氰基取代吲哚啉季铵盐。采用一步法将方酸与吲哚啉季铵盐缩合制得对称氰苄基方酸菁染料,采用重结晶法对合成染料进行分离提纯,利用核磁共振氢谱、红外光谱、质谱等对染料进行了结构表征。考了查染料的光谱性能。
- 高敬春姜婷婷陈辉王伟华宋波
- 关键词：光谱性能菁染料
- 非水溶氰苄基菁染料的合成及光谱性能被引量：1
- 2017年
- 以2,3,3-三甲基-3H-吲哚为原料,合成了N-氰苄基取代-2,3,3-三甲基-3H-吲哚啉季铵盐,然后分别与方酸和丙二醛缩苯胺盐酸盐缩合制得N-氰苄基方酸菁染料和N-氰苄基直链五甲川菁染料。通过核磁共振氢谱和质谱对化合物结构进行了表征,考察了染料在不同溶剂中的光谱性能。结果表明,染料的最大吸收波长和最大发射波长在质子性和非质子性溶剂中表现不同的位移规律,染料的光稳定性随N位取代基吸电子能力呈规律性变化。
- 宋波高静春姜海燕赵春艳马文辉赵冰王丽艳
- 关键词：光谱性能菁染料
- 一种吲哚苯乙烯半菁染料的合成及对Ag^+识别
- 2019年
- 合成以及表征了一种吲哚苯乙烯半菁染料Hcy-V,采用荧光发射光谱,在4-羟乙基哌嗪乙磺酸(HEPES,pH=7.40)水溶液中,研究了Hcy-V作为检测探针对Ag^+的识别能力。结果表明,与Ag^+作用后的荧光发射强度不受其它常见阳离子的干扰,该探针对Ag^+具有高选择性和灵敏性。
- 张兴旺张莹莹欧阳峰黄译文赵冰马洁宋波
- 关键词：荧光探针AG^+
