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国家自然科学基金(61204011)

作品数:12 被引量:21H指数:3
相关作者:韩军邢艳辉邓旭光张宝顺陈翔更多>>
相关机构:北京工业大学中国科学院电子科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金北京市自然科学基金中山市科技计划项目更多>>
相关领域:电子电信理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 12篇中文期刊文章

领域

  • 9篇电子电信
  • 3篇理学
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 4篇电子迁移率
  • 4篇迁移率
  • 4篇晶体管
  • 4篇高电子迁移率
  • 4篇高电子迁移率...
  • 3篇MOCVD
  • 2篇腔面
  • 2篇面发射
  • 2篇面发射激光器
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 2篇激光
  • 2篇激光器
  • 2篇发射激光器
  • 2篇ALGAN/...
  • 2篇ALGAN/...
  • 2篇ALN
  • 2篇GAN
  • 2篇垂直腔
  • 2篇垂直腔面

机构

  • 11篇北京工业大学
  • 5篇中国科学院
  • 2篇电子科技大学

作者

  • 6篇邢艳辉
  • 6篇韩军
  • 5篇邓旭光
  • 3篇张宝顺
  • 2篇朱彦旭
  • 2篇于宁
  • 2篇孙捷
  • 2篇李建军
  • 2篇李影智
  • 2篇崔明
  • 2篇汪加兴
  • 2篇王红航
  • 2篇杜志娟
  • 2篇刘飞飞
  • 2篇王岳华
  • 2篇宋会会
  • 2篇邓军
  • 2篇陈翔
  • 2篇范亚明
  • 1篇徐晨

传媒

  • 3篇光电子.激光
  • 3篇发光学报
  • 3篇半导体光电
  • 1篇半导体技术
  • 1篇物理学报
  • 1篇Chines...

年份

  • 2篇2019
  • 1篇2018
  • 3篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 2篇2013
  • 1篇2012
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
980nm垂直腔面发射激光器的外延生长被引量:3
2015年
模拟了垂直腔面发射激光器(VCSEL)的反射谱和量子阱增益谱,采用金属有机物化学气相沉积设备外延生长了980nm的垂直腔面发射激光器,制作了氧化孔径为14μm的内腔式氧化限制型VCSEL器件,其阈值电流为3.3mA,阈值电压为1.8V,斜率效率为0.387W/A,室温直流电流为22.8mA时,输出光功率为5mW。
崔明韩军邓军李建军邢艳辉陈翔朱启发
关键词:金属有机物化学气相沉积
氧化后退火技术对SiO2/4H-SiC界面态密度的影响被引量:3
2018年
采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)低温处理和高温快速退火的技术,研究了退火条件对SiO2/4H-SiC界面态密度的影响。在n型4H-SiC外延片上高温干氧氧化50 nm厚的SiO2层并经N2原位退火,随后在PECVD炉中对样品进行350℃退火气氛为PH3,N2O,H2和N2的后退火处理,之后进行高温快速退火,最后制备Al电极4H-SiC MOS电容。I-V和C-V测试结果表明,各样品的氧化层击穿场强均大于9 MV/cm,PH3处理可以降低界面有效负电荷和近界面氧化层陷阱电荷,但PH3处理样品的界面态密度比N2O处理的结果要高。经N2O氛围PECVD后退火样品在距离导带0.2和0.4 eV处的界面态密度分别约为1.7×10^12和4×10^11eV^-1·cm^-2,有望用于SiC MOSFET器件的栅氧处理。
杨涛涛韩军林文魁曾春红张璇孙玉华张宝顺鞠涛
关键词:4H-SICMOS电容C-V测试界面态密度
界面处理对AlGaN/GaN MIS-HEMTs器件动态特性的影响被引量:1
2019年
研究不同界面处理对AlGaN/GaN金属-绝缘层-半导体(MIS)结构的高电子迁移率晶体管(HEMT)器件性能的影响。采用N2和NH3等离子体对器件界面预处理,实验结果表明,N2等离子体预处理能够减小器件的电流崩塌,通过对N2等离子体预处理的时间优化,发现预处理时间10min能够较好地提高器件的动态特性,30min时动态性能下降。进一步引入AlN作为栅介质插入层并经过高温热退火后能够有效提高器件的动态性能,将器件的阈值回滞从411mV减小至111mV,动态测试表明,在900V关态应力下,器件的电流崩塌因子从42.04减小至4.76。
韩军赵佳豪赵杰邢艳辉曹旭付凯宋亮邓旭光张宝顺
关键词:电流崩塌ALGAN/GAN高电子迁移率晶体管
Understanding of surface pit formation mechanism of GaN grown in MOCVD based on local thermodynamic equilibrium assumption
2016年
Frank's theory describes that a screw dislocation will produce a pit on the surface,and has been evidenced in many material systems including GaN.However,the size of the pit calculated from the theory deviates significantly from experimental result.Through a careful observation of the variations of surface pits and local surface morphology with growing temperature and V/III ratio for c-plane GaN,we believe that Frank's model is valid only in a small local surface area where thermodynamic equilibrium state can be assumed to stay the same.If the kinetic process is too vigorous or too slow to reach a balance,the local equilibrium range will be too small for the center and edge of the screw dislocation spiral to be kept in the same equilibrium state.When the curvature at the center of the dislocation core reaches the critical value 1/r_0,at the edge of the spiral,the accelerating rate of the curvature may not fall to zero,so the pit cannot reach a stationary shape and will keep enlarging under the control of minimization of surface energy to result in a large-sized surface pit.
高志远薛晓玮李江江王勋邢艳辉崔碧峰邹德恕
关键词:GANMOCVD螺型位错
GaN HEMT器件结构的研究进展被引量:5
2015年
Ga N高电子迁移率晶体管(HEMT)具有大的禁带宽度、高电子饱和速度、异质结界面的高二维电子气浓度、高击穿电压以及高的热导率,这一系列特性使它在高频、高功率、高温等领域得到了广泛的认可。本文首先论述了制约氮化镓高电子迁移率晶体管器件性能提高所遇到的问题及解决方法;然后,着重从优化材料结构设计和器件结构设计的角度,阐述了氮化镓高电子迁移率晶体管器件在高频高功率领域的最新研究进展;最后,讨论了器件进一步发展的方向。
于宁王红航刘飞飞杜志娟王岳华宋会会朱彦旭孙捷
关键词:高电子迁移率晶体管氮化镓高频
多层Ti/Al电极结构对Ga N/AlGaN HEMT欧姆接触特性的影响被引量:1
2016年
研究了多层Ti/Al结构电极对GaN/AlGaN HEMT欧姆接触特性及表面形态的影响。采用传输线模型对各结构电极的比接触电阻率进行了测量,采用扫描电子显微镜对电极表面形态进行扫描。实验结果显示,在同样的退火条件下,随着Ti/Al层数的增加,比接触电阻率逐渐减小,表面形态趋于光滑;降低Ti/Al层的厚度会加剧Au向内扩散而增加比接触电阻率,但能稍微改善表面形态;Ti比例过高会影响Ti N的形成导致比接触电阻率增加,但能明显改善表面形态。
于宁王红航刘飞飞杜志娟王岳华宋会会朱彦旭孙捷
关键词:高电子迁移率晶体管欧姆接触比接触电阻率
退火对Ge掺杂SiO2薄膜的影响
2013年
用等离子体增强化学气相淀积制备了Ge掺杂SiO2薄膜,并对薄膜进行了不同温度的退火处理。采用棱镜耦合仪、原子力显微镜和傅里叶变换红外光谱分析技术研究了不同退火温度对Ge掺杂SiO2薄膜性质的影响。通过1 100℃退火处理后,正的折射率变化量和负的体积变化量随着GeH4流量增加而增大,Ge-O-Ge键增多;而通过900℃退火处理后,折射率没有随着GeH4流量增加而增大;薄膜的表面粗糙度随着退火温度升高而降低。研究结果表明,SiO2薄膜中Ge掺杂过量,其折射率反常下降;通过1 100℃退火处理后,折射率随着GeH4流量增加而增大,折射率的增大主要是由于薄膜密实化和Ge-O-Ge键的形成。
汪加兴韩军邢艳辉邓旭光王逸群邢政姜春宇方运
关键词:折射率退火
GaN薄膜电子声成像和电子背散射衍射研究被引量:1
2012年
采用扫描电声显微镜(SEAM)和电子背散射衍射(EBSD)对异质外延在Al2O3衬底上GaN界面区域成像测试分析。异质外延失配应力导致在Al2O3和GaN界面附近的微区晶格畸变在SEAM的声成像中可以清楚看到,而且受应力影响集中区域的微区衬度差异明显。利用EBSD色带图及质量参数分析了失配应力变化,晶格应变和弹性形变在200nm内可以得到释放。
邢艳辉李影智韩军邓旭光吉元徐晨沈光地
795nm单偏振稳定垂直腔面发射激光器的研究被引量:1
2019年
基于非对称氧化技术,引入氧化孔径横向光场损耗各向异性,使得TE/TM偏振光功率差进一步增加,TM偏振得到有效抑制,从而实现795nm垂直腔面发射激光器单偏振稳定输出。实验结果显示:当氧化孔径为7μm×5.5μm时,不同温度下偏振抑制比均在10dB以上,最高达到16.56dB;当氧化孔径为20μm×18μm时,偏振抑制比也可以达到15.96dB。最终,得到偏振抑制比为16dB、水平发散角为8.349°、垂直发散角为9.340°的单偏振稳定输出795nm垂直腔面发射激光器(VCSEL),为实现单偏振高光束质量VCSEL激光光源提供了实验基础。
梁津关宝璐胡丕丽张峰董晨王菲王志鹏
关键词:垂直腔面发射激光器单偏振
MOCVD生长双波长发光二极管
2014年
根据白光照明和可变换波长的光通信中对单芯片双波长发光二极管(LED)要求,在分析了反向偏置隧道结性质的基础上,设计了用反向偏置隧道结连接两个有源区的单芯片双波长LED,用金属有机化学气相沉积技术(MOCVD)在GaAs衬底上一次外延生长了同时发射两种波长的LED,其包含一个AlGaInP量子阱有源区和一个GaInP量子阱有源区,两个有源区由隧道结连接;通过后工艺制备了双波长LED器件,在20mA电流注入下,可以同时发射626nm和639nm两种波长,光强是127mcd,正向电压是4.17V。与传统的单有源区LED进行对比表明,双波长LED有较强的光强;对比单有源区LED的2.08V正向电压,考虑到双波长LED包含隧道结和两个有源区,隧道结上的压降很小。
韩军崔明李建军邓军邢艳辉
关键词:发光二极管(LED)双波长隧道结
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