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国家留学基金([2002]3034)

作品数:2 被引量:3H指数:1
相关作者:杭凌侠李建超徐均琪更多>>
相关机构:悉尼大学西安工业学院更多>>
发文基金:国家留学基金中国人民解放军总装备部预研基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 1篇等离子体
  • 1篇应力
  • 1篇应力研究
  • 1篇射频
  • 1篇解析模型
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇类金刚石
  • 1篇类金刚石薄膜
  • 1篇非平衡磁控溅...
  • 1篇DLC薄膜
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 2篇悉尼大学
  • 1篇西安工业学院

作者

  • 2篇杭凌侠
  • 1篇徐均琪
  • 1篇李建超

传媒

  • 1篇真空
  • 1篇光电工程

年份

  • 1篇2006
  • 1篇2005
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
非平衡磁控溅射DLC薄膜应力研究被引量:3
2005年
类金刚石(DLC) 薄膜可用作红外增透保护膜,高的薄膜残余应力造成薄膜附着力下降是目前应用中存在的主要问题之一.本文从DLC薄膜作为红外增透保护膜的需求出发,采用非平衡磁控溅射技术生长DLC薄膜.实测了薄膜的残余应力,分析研究了薄膜残余应力在不同工艺条件下的变化情况.探讨了薄膜残余应力与薄膜厚度、光学透过率、离子能量、沉积速率以及能流密度之间的关系.研究结果表明,薄膜残余应力平衡值在0.9~2.2GPa之间,相应的单面镀膜样片的透过率在4μm波长处为69% ~ 63%,随工艺的不同而变化.工艺优化后薄膜残余应力显著下降.硅基底上薄膜与基底剥离的力的临界值大于2160GPa·nm,最大薄膜厚度≥ 2400nm;锗基底上最大薄膜厚度≥ 2000nm,可以满足整个红外波段的需求.
杭凌侠Y.YIN 徐均琪李建超
关键词:应力类金刚石薄膜非平衡磁控溅射
射频等离子系统中微弧放电的解析模型
2006年
最近我们在实验中发现:射频等离子体系统中的高电位可以引发微弧放电,这种微弧放电现象不是发生在射频系统的输入极上而是发生在接地极上。这种相对于电极呈非对称分布的微弧放电现象不是我们期待的结果,也不能用现有的理论来解释它。本文在Ch ild-L angm u ir鞘层模型理论和电流连续性理论的基础上,推导建立了一个用于表述射频等离子体系统中的这种非对称型微弧放电现象的解析模型。从我们的推导过程可以发现鞘层内外的电位差取决于接地极鞘层面积与输入极鞘层面积之比。当接地极的鞘层面积大于输入极鞘层面积时,接地极鞘层电位差的最小值成为高电位,从而引发电弧放电。而输入极鞘层电位差的最小值不发生变化。这个模型和推导结果与实验现象和P IC仿真数据有较好的一致性。
Y.Yin杭凌侠
关键词:射频等离子体解析模型
共1页<1>
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