湖北省高等学校优秀中青年科技创新团队计划项目(2004)
- 作品数：6 被引量：20H指数：3
- 相关作者：谢鹏汪建华孙蕾满卫东王传新更多>>
- 相关机构：武汉工程大学江汉大学更多>>
- 发文基金：湖北省高等学校优秀中青年科技创新团队计划项目教育部重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺化学工程理学一般工业技术更多>>
- 热丝CVD法制备金刚石管被引量：1
- 2008年
- 以钨丝作为基体,用氢气和丙酮作为反应气体,在热丝化学气相沉积装置中制备出了金刚石管,其生长速度达到了4μm/h.扫描电镜和激光拉曼光谱的测试结果表明制备出的金刚石管质量较好.
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- 关键词：金刚石薄膜
- 甲烷浓度对批量生产金刚石涂层刀片的影响被引量：7
- 2008年
- 采用微波等离子体CVD(MWCVD)法小批量地生产了金刚石涂层刀片,在金刚石薄膜沉积的过程中,研究了碳源浓度对沉积金刚石膜的均匀性的影响。用扫描电子显微镜(SEM)和激光拉曼光谱(Raman)对薄膜的表面形貌和质量进行了表征。结果表明较低的低甲烷浓度适合金刚石涂层刀片的批量生产。
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- 关键词：金刚石涂层硬质合金刀片微波等离子体化学气相沉积
- 微波等离子体CVD法制备金刚石薄膜涂层钻头
- 在微波等离子体CVD中,在直径为0.8mm硬质合金钻头上进行沉积金刚石涂层的研究。在沉积前,用硝酸(HNO:HO=1:4)腐蚀60s,以去除表面的Co。在金刚石涂层沉积过程中,钻头尖端在微波电磁场中产生辉光放电现象,导致...
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- 关键词：金刚石涂层钻头微波等离子体化学气相沉积硬质合金
- 文献传递
- 微波等离子体CVD法在非平面基体上生长金刚石膜被引量：1
- 2008年
- 介绍了在微波等离子体CVD装置中,用甲烷和氢气作为原料,在非平面基体(如钨丝、钻头、铣刀等)上生长金刚石薄膜的研究。在金刚石沉积过程中,由于"尖端效应",在基体的尖端很难沉积出金刚石膜。在采用金属丝屏蔽后,克服了"尖端效应",成功地在非平面基体上沉积出了金刚石膜。用扫描电镜(SEM)和激光拉曼光谱(Raman)分析了金刚石膜的形貌和质量。结果表明:非平面基体不同位置金刚石的晶形不同,晶粒比较细小,膜的质量较高。
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- 关键词：金刚石薄膜
- 基片位置对微波等离子体合成金刚石的影响被引量：4
- 2008年
- 用自制的微波功率为5kW的微波等离子体(MPCVD)装置、用H2/CH4/H2O作为反应气体在较高的沉积气压(12.0kPa)条件下,研究了基片放置在等离子体球边缘附近不同位置对CVD金刚石沉积和生长的影响。结果表明,CVD金刚石的形核和生长对环境的要求是不同的;在等离子体球边缘处不利于金刚石的形核,但有利于高质量金刚石的沉积。
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- 关键词：化学气相沉积金刚石微波等离子体
- 微波等离子体同质外延修复金刚石的研究被引量：9
- 2008年
- 用微波等离子体化学气相沉积法同质外延生长了有缺陷的金刚石颗粒。在同质外延之前,研究了温度因素对金刚石生长表面形貌的影响,研究表明适宜金刚石同质外延的温度范围非常窄,在1030℃左右;温度低于920℃,大尺寸的金刚石单晶颗粒就很难得到,二次形核现象变的很严重。在实验得出的优化温度条件下,对表面有缺陷的天然金刚石进行了同质外延生长,用扫描电子显微镜(SEM)观察发现,原来金刚石表面的裂缝被修复,外延生长速率达到10.3μm/h。
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- 关键词：金刚石微波等离子体化学气相沉积
- 微波等离子体CVD法制备金刚石薄膜涂层钻头被引量：2
- 2007年
- 在微波等离子体CVD中,在直径为0.8mm硬质合金钻头上进行沉积金刚石涂层的研究。在沉积前,用硝酸(HNO3:H2O=1:4)腐蚀60s,以去除表面的Co。在金刚石涂层沉积过程中,钻头尖端在微波电磁场中产生辉光放电现象,导致钻头尖端刃部很难获得金刚石涂层。通过使用金属丝屏蔽的方法改变钻头周围的微波电磁场分布,成功地采用微波等离子体CVD法在钻头上沉积出了金刚石涂层。用扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱仪(EDS)和激光拉曼光谱对基体和薄膜进行了表征。结果表明,金刚石薄膜表面比较光滑,晶粒尺寸较小,涂层质量良好;在铝基复合材料上钻孔测试表明,薄膜的附着力也较高。
- 谢鹏汪建华满卫东王传新孙蕾
- 关键词：金刚石涂层钻头微波等离子体化学气相沉积硬质合金
