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陕西省教育科学规划课题(SGH12433)

作品数:7 被引量:2H指数:2
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相关领域:理学一般工业技术化学工程文化科学更多>>

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 5篇理学
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇化学工程

主题

  • 6篇碳纳米管
  • 6篇纳米
  • 6篇纳米管
  • 4篇PECVD
  • 3篇SEM
  • 2篇形貌
  • 2篇扫描电镜
  • 2篇催化
  • 2篇催化剂
  • 1篇氮气
  • 1篇电镜
  • 1篇射电
  • 1篇碳源
  • 1篇透射电镜
  • 1篇拉曼
  • 1篇拉曼光谱
  • 1篇光谱
  • 1篇TEM

机构

  • 6篇渭南师范学院

作者

  • 6篇席彩萍

传媒

  • 2篇材料开发与应...
  • 1篇应用化工
  • 1篇江西科学
  • 1篇纺织高校基础...
  • 1篇西安工程大学...

年份

  • 6篇2013
7 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
氮气对碳纳米管生长的影响被引量:2
2013年
采用等离子体增强化学气相沉积技术(PECVD),以C2H2、H2和N2为反应气体,制备出碳纳米管薄膜.并利用扫描电镜对其进行表征.结果表明,氮气流量对碳纳米管薄膜的生长起着重要作用,当氮气流量为10sccm时,能获得定向性良好、分布均匀、密度适中的碳纳米管.
席彩萍
关键词:碳纳米管PECVD氮气
催化剂刻蚀方式对碳纳米管形貌的影响
2013年
采用等离子体增强化学气相沉积技术,以C2H2、H2和N2为反应气体,制备出碳纳米管薄膜.利用扫描电镜(SEM)和拉曼光谱仪对其进行表征.结果表明,催化剂刻蚀方式对碳纳米管薄膜的生长起着重要作用,获得定向性好、密度适中、杂质缺陷少的碳纳米管的最合适的刻蚀方式为热刻蚀.
席彩萍
关键词:碳纳米管拉曼光谱
刻蚀时间对碳纳米管形貌的影响被引量:2
2013年
采用等离子体增强化学气相沉积技术,以C2H2、H2和N2为反应气体,制备出碳纳米管薄膜。利用扫描电镜(SEM)和拉曼光谱仪对其进行表征,研究刻蚀时间对碳纳米管形貌的影响。结果表明:催化剂刻蚀时间对碳纳米管薄膜的生长起着重要作用,刻蚀时间为10 min时可获得定向性好、密度适中、杂质缺陷少的碳纳米管。
席彩萍
关键词:碳纳米管
PECVD技术制备碳纳米管的研究
2013年
碳纳米管的制备方法有电弧法、激光蒸发法、化学气相沉积法(CVD法)、火焰法、水热法和模板法等。主要介绍了等离子体化学气相沉积法制备碳纳米管,并对此方法制备的碳纳米管形貌进行了表征,最终优化出最佳的实验工艺。
席彩萍
关键词:碳纳米管PECVD催化剂
氢气流量对碳纳米管生长的影响
2013年
采用等离子体增强化学气相沉积技术,以C2H2、H2和N2为反应气体,制备出碳纳米管薄膜。利用扫描电镜和拉曼光谱仪对其进行表征。结果表明:氢气流量对碳纳米管薄膜的生长起着重要作用,获得分布均匀、密度适中、杂质缺陷少的碳纳米管的最佳氢气流量为30 sccm。
席彩萍
关键词:碳纳米管PECVD
碳源流量对PECVD制备碳纳米管形貌的影响被引量:2
2013年
采用等离子体增强化学气相沉积技术,以C2H2、H2和N2为反应气体,制备碳纳米管薄膜。利用扫描电镜、透射电镜和拉曼光谱仪对其进行表征。结果表明,碳源气体流量对碳纳米管薄膜的生长起着重要作用,获得分布均匀、密度适中、杂质缺陷少的碳纳米管的最佳碳源流量为30 sccm。
席彩萍
关键词:碳纳米管
共1页<1>
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