您的位置： 专家智库 > >

中国博士后科学基金(20110491520)

作品数：1 被引量：23H指数：1
相关作者：朱小鹏雷明凯吴志立更多>>
相关机构：大连理工大学更多>>
发文基金：中国博士后科学基金国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇等离子体
  • 1篇脉冲
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇高功率脉冲
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射沉积
  • 1篇高功率

机构

  • 1篇大连理工大学

作者

  • 1篇吴志立
  • 1篇雷明凯
  • 1篇朱小鹏

传媒

  • 1篇中国表面工程

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
全选 清除 导出
排序方式：
高功率脉冲磁控溅射沉积原理与工艺研究进展被引量：23
2012年
高功率脉冲磁控溅射技术是一种峰值功率超过平均功率2个量级、溅射靶材原子高度离化的脉冲溅射技术,作为一种新的离子化物理气相沉积技术,已成为国际研究的热点,有关高功率脉冲放电、等离子体特性、薄膜及其工艺等方面的研究进展十分迅速。文中从高功率脉冲磁控溅射的原理出发,介绍10多年来高功率脉冲电源的发展,从高功率脉冲放电等离子体特性与放电物理、等离子体模型,以及沉积速率和薄膜特性等方面综述技术的研究进展。
吴志立朱小鹏雷明凯
关键词：等离子体
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0