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中国博士后科学基金(20110491520)
作品数:
1
被引量:23
H指数:1
相关作者:
朱小鹏
雷明凯
吴志立
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相关机构:
大连理工大学
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发文基金:
中国博士后科学基金
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相关领域:
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磁控溅射
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磁控溅射沉积
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高功率
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大连理工大学
作者
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吴志立
1篇
雷明凯
1篇
朱小鹏
传媒
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中国表面工程
年份
1篇
2012
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高功率脉冲磁控溅射沉积原理与工艺研究进展
被引量:23
2012年
高功率脉冲磁控溅射技术是一种峰值功率超过平均功率2个量级、溅射靶材原子高度离化的脉冲溅射技术,作为一种新的离子化物理气相沉积技术,已成为国际研究的热点,有关高功率脉冲放电、等离子体特性、薄膜及其工艺等方面的研究进展十分迅速。文中从高功率脉冲磁控溅射的原理出发,介绍10多年来高功率脉冲电源的发展,从高功率脉冲放电等离子体特性与放电物理、等离子体模型,以及沉积速率和薄膜特性等方面综述技术的研究进展。
吴志立
朱小鹏
雷明凯
关键词:
等离子体
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