您的位置: 专家智库 > >

国家自然科学基金(10875093)

作品数:36 被引量:75H指数:5
相关作者:马志斌曹为严垒沈武林汪建华更多>>
相关机构:武汉工程大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金湖北省高等学校优秀中青年科技创新团队计划项目更多>>
相关领域:理学化学工程核科学技术一般工业技术更多>>

文献类型

  • 36篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 18篇理学
  • 12篇化学工程
  • 6篇核科学技术
  • 5篇一般工业技术
  • 1篇天文地球
  • 1篇电气工程

主题

  • 15篇等离子体
  • 14篇金刚石膜
  • 12篇光谱
  • 10篇金刚石
  • 10篇刚石
  • 9篇发射光谱
  • 9篇ECR等离子...
  • 8篇刻蚀
  • 8篇CVD金刚石...
  • 5篇微波等离子体
  • 5篇离子温度
  • 5篇化学气相
  • 5篇ECR
  • 4篇氢等离子体
  • 4篇化学气相沉积
  • 4篇CVD金刚石
  • 4篇MPCVD
  • 3篇气相沉积
  • 3篇磁镜
  • 3篇磁镜场

机构

  • 35篇武汉工程大学

作者

  • 34篇马志斌
  • 9篇曹为
  • 8篇谭必松
  • 8篇严垒
  • 7篇沈武林
  • 7篇李国伟
  • 7篇汪建华
  • 6篇吴振辉
  • 6篇湛玉龙
  • 6篇吴俊
  • 6篇高攀
  • 5篇翁国峰
  • 5篇陶利平
  • 5篇吴建鹏
  • 5篇潘鑫
  • 4篇吴超
  • 4篇付秋明
  • 3篇吴利峰
  • 2篇张磊
  • 2篇邓煜恒

传媒

  • 7篇武汉工程大学...
  • 6篇金刚石与磨料...
  • 6篇强激光与粒子...
  • 4篇Plasma...
  • 3篇物理学报
  • 3篇光谱学与光谱...
  • 2篇人工晶体学报
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇光学学报
  • 1篇核聚变与等离...
  • 1篇硬质合金
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇第九届全国微...

年份

  • 1篇2016
  • 5篇2015
  • 4篇2014
  • 9篇2013
  • 5篇2012
  • 6篇2011
  • 3篇2010
  • 5篇2009
  • 1篇2008
36 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
非对称磁镜场ECR氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜
超光滑表面CVD金刚石膜器件的应用在现代社会中日益广泛,而生产出的CVD金刚石膜表面往往是粗糙不平的,需进行刻蚀、抛光等后序加工后,才能达到应用要求。本文提出一种新的CVD金刚石膜刻蚀方法——非对称磁镜场ECR氧等离子体...
谭必松马志斌吴振辉
石英玻璃管外表面抗腐蚀纳米金刚石薄膜的制备
2009年
在具有新型谐振腔的微波等离子体CVD装置上,利用乙醇和氢气为工作气体在石英玻璃管外表面沉积了均匀、致密的纳米金刚石薄膜。采用扫描电子显微镜、Raman光谱及X射线衍射表征了金刚石薄膜的质量;设计腐蚀实验检验了金刚石薄膜的抗腐蚀效果。结果表明:在反应气压为5.5 kPa、碳源浓度为8vol%、石英玻璃管温度为500℃的条件下,得到的纳米金刚石薄膜能有效增强石英玻璃管的抗腐蚀性能。
张磊马志斌吴利峰
关键词:石英玻璃管金刚石膜抗腐蚀
Breakdown Electric Field of Hot 30% CF_3I/CO_2 Mixtures at Temperature of 300–3500 K During Arc Extinction Process被引量:1
2016年
We calculated the uniform dielectric breakdown field strength of residual 30%CF_3I/CO_2 gas mixtures during the arc extinction process over the temperature range 300–3500 K at 0.1 MPa. The limiting reduced field strengths are decided by a balance of electron generation and loss based on chemical reactions estimated by the electron energy distribution function(EEDF), which employs the Boltzmann equation method with two-term expanding approximation in the steady-state Townsend(SST) condition. During the insulation recovery phase, the hot CF_3I/CO_2 gas mixtures have maximum dielectric strength at a temperature of about 1500 K. At room temperature 300 K, the electric strength after arc extinction(90.3 Td, 1 Td=10-21V·m2)is only 38% of the original value before arc(234.9 Td). The adverse insulation recovery ability of CF_3I/CO_2 gas mixtures in arc extinction hinders its application in electric circuit breakers and other switchgears as an arc quenching and insulating medium.
赵小令焦俊韬肖登明
氢等离子体处理金刚石成核面
2012年
通过用氢等离子体对微波等离子体化学气象沉积法在钼基体上制备的金刚石厚膜的成核面进行表面处理,并利用拉曼光谱、扫描电镜和X射线光电子能谱对处理前后金刚石成核面进行表征,比较了处理前后金刚石成核面金刚石相含量、表面粗糙组度,并分析了薄膜中钼原子的化合态及百分含量.结果表明:经过氢等离子体处理后的金刚石成核面的金刚石相含量提高,表面粗糙度增大,钼原子的百分含量由1.64%变为0.83%,且能有效还原成核面上钼的氧化物生成碳化钼和碳化二钼.
马志斌吴建鹏湛玉龙曹为李国伟潘鑫
关键词:氢等离子体
氧回旋离子束刻蚀化学气相沉积金刚石膜被引量:2
2012年
利用非对称磁镜场电子回旋共振等离子体产生的氧回旋离子束刻蚀了化学气相沉积金刚石膜,研究了工作气压和磁电加热电压对金刚石样品附近的离子温度和密度的影响,并分析了金刚石膜的刻蚀和机械抛光效果。结果表明:当工作气压为0.03Pa,磁电加热电压为200 V时,离子温度和密度最大,分别为7.38eV和23.8×1010cm-3。在此优化条件下刻蚀金刚石膜4h后,其表面粗糙度由刻蚀前的3.525μm降为2.512μm,机械抛光15min后,表面粗糙度降低为0.517μm,即金刚石膜经离子束刻蚀后可显著提高机械抛光效率。
吴俊马志斌沈武林
关键词:离子温度金刚石膜刻蚀
矩形压缩谐振腔内基底对电场影响的仿真模拟被引量:2
2013年
针对微波等离子体化学气相沉积金刚石过程中,矩形谐振腔中激发的等离子体稳定性和均匀性差的问题,提出通过用Ansoft软件对矩形压缩谐振腔进行模拟计算来优化设计谐振腔的方法.模拟中,假设除了微波输入端口以外,所有的边界都定义为理想电导体;微波能以平面波的形式,通过矩形波导被耦合到微波谐振腔内;再用高频结构仿真器联合求解满足模型条件的麦克斯韦方程组,得出谐振腔中的电场分布结果.分别模拟了基底深入谐振腔内高度为1.5、2、2.5、3、4mm和基底半径为11、13、15、17mm时,腔体内的电场分布.数值模拟结果表明,压缩谐振腔内的最大电场强度为817V/m左右,较压缩之前的电场强度增高了近一倍,且基底深入谐振腔高度为2mm,基底半径为13mm左右时,装置内电场强度较集中.
刘繁李国伟马志斌汪建华
关键词:谐振腔基底尺寸
高气压微波氢等离子体发射光谱诊断被引量:7
2010年
在2.45GHz,800W级的高气压微波等离子体放电系统中,通过测量不同微波功率和放电气压下氢等离子体的Balmer线系的发射光谱,从测量的谱线总展宽中卷积去掉具有高斯线形的Doppler展宽和仪器展宽得到谱线的Stark展宽,并通过Stark展宽测量氢等离子体的电子数密度和电场强度。结果表明:等离子体的电子数密度和电场强度随着放电气压的升高都是先增大后减小,随着微波功率的增加呈现逐渐增大的趋势。微波功率为800W时,气压在25kPa时电子数密度和电场强度都达到最大值,等离子体的电子数密度和内部的电场强度分别为3.55×1012cm-3及4.01kV/cm。
吴利峰马志斌翁国锋湛玉龙
关键词:发射光谱氢等离子体电场强度
非对称磁镜场ECR氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜
<正>超光滑表面CVD金刚石膜器件的应用在现代社会中日益广泛,而生产出的CVD金刚石膜表面往往是粗糙不平的,需进行刻蚀、抛光等后序加工后,才能达到应用要求。本文提出一种新的CVD金刚石膜刻蚀方法——非对称磁镜场ECR氧等...
谭必松马志斌吴振辉
文献传递
氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜的影响机理被引量:3
2014年
采用电子回旋共振(ECR)等离子体在不同的磁场位形和工作气压下刻蚀化学气相沉积(CVD)金刚石膜,运用双探针和离子灵敏探针法对等离子体进行了诊断,研究了等离子体参数对刻蚀效果的影响。结果表明:磁场由发散场向收敛场转变时,离子温度、电子温度和等离子体密度都随之增大,刻蚀效果逐渐增强;当工作气压由低气压向高气压变化时,等离子体参数先增大后减小,CVD金刚石膜表面粗糙度降低程度也出现了相同的趋势。
潘鑫马志斌李国伟曹为王传新付秋明
关键词:刻蚀CVD金刚石等离子体参数ECR等离子体
Measurement of Ion Parameters by Ion Sensitive Probe in ECR Plasma
2011年
Ion parameters in electron cyclotron resonance (ECR)microwave plasma were measuredby ion sensitive probe and were compared with the electron parameters obtained by doubleLangmuir probe.The effects of gas pressure and microwave power on the ion temperature anddensity were analyzed.The spatial distribution of the ion parameters was also investigated bythe ion sensitive probes with a tunable radial depth installed on different probe windows alongthe chamber axis.Results showed that the ion density measured by the ion sensitive probe wasin good agreement with the electron density measured by the double Langmuir probe.The influenceof gas pressure on the ion parameters was stronger than that of microwave power.With theincrease in working pressure,the ion temperature decreased monotonously with a decreasing ratelarger than that at higher pressure.The ion density first increased to a peak (42.3×1010cm-3)at f Pa and then decreased.The ion temperature and density increased little with the increasein the microwave power from 400 W to 800 W.The plasma far away from the resonant point isfound to be radially uniform.
谭必松马志斌沈武林吴振辉曹宏汪建华
关键词:LANGMUIR探针ECR等离子体微波等离子体电子回旋共振微波功率
共4页<1234>
聚类工具0