中国博士后科学基金(2005037243)
- 作品数：2 被引量：24H指数：2
- 相关作者：刘郁杨范晓东孔杰王生杰张国彬更多>>
- 相关机构：西北工业大学西安交通大学更多>>
- 发文基金：中国博士后科学基金国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学机械工程更多>>
- 紫外光固化超支化聚硅氧烷的合成及其光固化动力学研究被引量：22
- 2007年
- 利用γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲基硅氧烷的受控水解反应即A2-B3单体对法来制备超支化聚硅氧烷,并对合成出的聚合物通过FT-IR、1H-NMR和多角度激光光散射技术(MALLS)进行了表征.结果表明,所得聚合物具有超支化结构且分子中含有大量活性官能团,从而可以实现紫外光引发固化.通过等温差示光量热实验(DPC)研究了聚合物结构、引发剂用量、光强度和聚合温度对聚合物光固化行为的影响规律,并得到了其中一种聚合物的光固化动力学参数,光固化反应总级数约为3,表观活化能为16.9kJ/mol.
- 张国彬范晓东刘郁杨孔杰王生杰
- 关键词：水解光固化动力学
- 压印光刻对准中阻蚀胶层的设计及优化被引量：2
- 2006年
- 针对高速旋涂造成标记区阻蚀胶薄膜覆盖不对称和压印曝光造成标记区薄膜聚合的问题,利用压印光刻压印曝光固化脱模的工艺原理,提出了用压印预处理标记表面薄膜来优化阻蚀胶层厚度和形貌的工艺方法.该方法采用下压力约束薄膜,使阻蚀胶在标记区的栅格间重新分布,从而削弱了覆盖膜的不对称性,获得了相应的薄膜厚度.采用旋涂厚度为1.1μm的覆盖膜对压印预处理工艺方法进行了试验,发现下压力大于0.48 MPa时,薄膜结构具有较好的对称性,下压力为1.12 MPa时,对准信号的对比度达到最大.试验结果表明,压印预处理对于压印光刻系统具有较好的工艺适应性,利用该方法优化标记区的阻蚀胶层不仅能够有效削弱覆盖膜不对称和压印曝光的影响,而且对准精度可满足100 nm压印光刻的要求.
- 邵金友丁玉成卢秉恒王莉刘红忠
- 关键词：压印光刻
