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国家部委资助项目(6139801)

作品数:8 被引量:15H指数:2
相关作者:张鹤鸣胡辉勇宣荣喜宋建军马建立更多>>
相关机构:西安电子科技大学中国电子科技集团公司第五研究所更多>>
发文基金:国家部委资助项目中央高校基本科研业务费专项资金陕西省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 8篇中文期刊文章

领域

  • 7篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇应变SI
  • 2篇阈值电压
  • 2篇集电结
  • 2篇SIGEHB...
  • 2篇SOI
  • 2篇HBT
  • 2篇SIGE
  • 1篇单轴
  • 1篇电流
  • 1篇延迟时间
  • 1篇异质结
  • 1篇异质结双极晶...
  • 1篇溶胶
  • 1篇散射
  • 1篇双极晶体管
  • 1篇铁电
  • 1篇铁电薄膜
  • 1篇凝胶法
  • 1篇解析模型
  • 1篇晶体管

机构

  • 8篇西安电子科技...
  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 8篇张鹤鸣
  • 6篇胡辉勇
  • 3篇宋建军
  • 3篇宣荣喜
  • 2篇王晓艳
  • 2篇马建立
  • 2篇王冠宇
  • 2篇戴显英
  • 2篇王斌
  • 2篇徐小波
  • 1篇舒钰
  • 1篇崔晓英
  • 1篇屈江涛
  • 1篇赵丽霞
  • 1篇吴铁峰
  • 1篇秦珊珊
  • 1篇许立军
  • 1篇崔敏

传媒

  • 5篇物理学报
  • 2篇电子器件
  • 1篇西安电子科技...

年份

  • 1篇2012
  • 5篇2011
  • 2篇2010
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
SOI部分耗尽SiGeHBT集电结空间电荷区模型被引量:3
2011年
SOI上的薄膜异质SiGe晶体管通过采用'折叠'集电极,已成功实现SOI上CMOS与HBT的兼容.本文结合SOI薄膜上的纵向SiGeHBT结构模型,提出了包含纵向、横向欧姆电阻和耗尽电容的'部分耗尽(partially depleted)晶体管'集电区简化电路模型.基于器件物理及实际考虑,系统建立了外延集电层电场、电势、耗尽宽度模型,并根据该模型对不同器件结构参数进行分析.结果表明,空间电荷区表现为本征集电结耗尽与MOS电容耗尽,空间电荷区宽度随集电结掺杂浓度减小而增大,随集电结反偏电压提高而增大,随衬底电压减小而增大,直到集电区纵向全部耗尽,然后开始横向扩展.该模型为新一代基于SOI的SiGe毫米波BiCMOS电路设计和仿真提供了重要参考.
徐小波张鹤鸣胡辉勇许立军马建立
关键词:SOISIGEHBT集电区
应变Si PMOSFET电流特性研究被引量:1
2010年
生长在弛豫SiGe层上的Si产生张应变,使载流子的迁移率显著提高,因此应变SiPMOSTET可以得到非常好的性能。在讨论分析了应变SiPMOSFET的结构特性和器件物理的基础上,推导泊松方程求出解析的阈值电压模型,以及电流电压特性,和跨导等电学特性参数模型,并用MATLAB进行了模拟,与参考文献取得了一致的结果。此模型作为对PMOSFET进行模拟是非常有用的工具。
胡辉勇崔晓英张鹤鸣宋建军戴显英宣荣喜
关键词:应变SIPMOSFET阈值电压I-V特性
[110]/(001)单轴应变Si本征载流子浓度模型被引量:5
2011年
本文首先讨论了在沿[110]方向的单轴应力对体Si材料能带结构参数的影响,在此基础上计算出单轴应变Si中平衡载流子浓度,给出了物理意义明确的导带、价带有效态密度的表达式.最后,结合有效态密度和禁带宽度的表达式,建立了[110]/(001)单轴应变Si本征载流子浓度模型.本文的研究方法亦适用于建立(001)面任意应力方向上的应变Si本征载流子浓度模型,并为相关单轴应变Si器件的设计、建模以及仿真提供了一定的理论参考.
王冠宇马建立张鹤鸣王晓艳王斌
关键词:/(001)单轴应变si
亚100nm应变Si/SiGe nMOSFET阈值电压二维解析模型被引量:1
2011年
本文基于二维泊松方程,建立了适用于亚100nm应变Si/SiGe nMOSFET的阈值电压理论模型.为了保证该模型的准确性,同时考虑了器件尺寸减小所导致的物理效应,如短沟道效应,量子化效应等.通过将模型的计算结果与二维器件模拟器ISE的仿真结果进行对比分析,证明了本文提出的模型的正确性.最后,还讨论了亚100nm器件中常规工艺对阈值电压的影响.该模型为亚100nm小尺寸应变Si器件的分析设计提供了一定的参考.
王冠宇张鹤鸣王晓艳吴铁峰王斌
关键词:NMOSFET阈值电压
GaN基MFS结构C-V特性研究被引量:2
2010年
采用溶胶-凝胶法(Sol-Gel)在n型GaN衬底上制备了PZT铁电薄膜及其相应的金属-铁电体-半导体(MFS)结构,测量了该MFS结构的C-V特性,从理论上分析了所制备的MFS结构的阈值特性。阈值电压的实验与理论分析结果吻合较好。采用PZT铁电薄膜作为GaN基MFS结构的栅介质,利用其高介电常数和较强的极化电场可以显著降低GaN基MFS器件的工作电压。
胡辉勇张鹤鸣崔敏戴显英宋建军
关键词:PZT铁电薄膜C-V特性
含有本征SiGe层的SiGe异质结双极晶体管集电结耗尽层宽度模型被引量:1
2011年
本文分别建立了含有本征SiGe层的SiGeHBT(异质结双极晶体管)集电结耗尽层各区域的电势、电场分布模型,并在此基础上,建立了集电结耗尽层宽度和延迟时间模型,对该模型进行了模拟仿真,定量地分析了SiGeHBT物理、电学参数对集电结耗尽层宽度和延迟时间的影响,随着基区掺杂浓度和集电结反偏电压的提高,集电结耗尽层延迟时间也随之增大,而随着集电区掺杂浓度的提高和基区Ge组分增加,集电结耗尽层延迟时间随之减小.
胡辉勇舒钰张鹤鸣宋建军宣荣喜秦珊珊屈江涛
关键词:SIGEHBT延迟时间
薄膜SOI上SiGe HBT集电结耗尽电荷和电容改进模型
2011年
文章研究了SOI衬底上SiGe npn异质结晶体管集电结耗尽电荷和电容.根据器件实际工作情况,基于课题组前面的工作,对耗尽电荷和电容模型进行扩展和优化.研究结果表明,耗尽电荷模型具有更好的光滑性;耗尽电容模型为纵向耗尽与横向耗尽电容的串联,考虑了不同电流流动面积,与常规器件相比,SOI器件全耗尽工作模式下表现出更小的集电结耗尽电容,因此更大的正向Early电压;在纵向工作模式到横向工作模式转变的电压偏置点,耗尽电荷和电容的变化趋势发生改变.SOI薄膜上纵向SiGe HBT集电结耗尽电荷和电容模型的建立和扩展为毫米波SOI BiCMOS工艺中双极器件核心参数如Early电压、特征频率等的设计提供了有价值的参考.
徐小波张鹤鸣胡辉勇
关键词:SIGEHBTSOI
应变Si1-xGex(100)电子散射几率被引量:2
2012年
基于费米黄金法则及玻尔兹曼方程碰撞项近似理论,针对离化杂质、声学声子、谷间声子及合金无序散射机制,研究了应变Si1-xGex/(100)Si材料电子散射几率与应力及能量的关系.结果表明:在应力的作用下,应变Si1-xGex/(100)Si材料声学声子及f2、f3型谷间声子散射几率显著降低.Si基应变材料电子迁移率增强与其散射几率密切相关.
赵丽霞张鹤鸣宣荣喜胡辉勇
关键词:散射
共1页<1>
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