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具有HfN/HfO_2栅结构的p型MOSFET中的负偏置-温度不稳定性研究被引量：1: 2006年; 研究了HfN/HfO_2高K栅结构p型金属-氧化物-半导体(MOS)晶体管(MOSFET)中,负偏置-温度应力引起的阈值电压不稳定性(NBTI)特征.HfN/HfO_2高K栅结构的等效氧化层厚度(EOT)为1·3nm,内含原生缺陷密度较低.研究表明,由于所制备的HfN/HfO_2高K栅结构具有低的原生缺陷密度,因此在p-MOSFET器件中观察到的NBTI属HfN/HfO_2高K栅结构的本征特征,而非工艺缺陷引起的;进一步研究表明,该HfN/HfO2高K栅结构中观察到的NBTI与传统的SiO2基栅介质p-MOSFET器件中观察到的NBTI具有类似的特征,可以被所谓的反应-扩散(R-D)模型表征:HfN/HfO_2栅结构p-MOSFET器件的NBTI效应的起源可以归为衬底注入空穴诱导的界面反应机理,即在负偏置和温度应力作用下,从Si衬底注入的空穴诱导了Si衬底界面Si-H键断裂这一化学反应的发生,并由此产生了Si+陷阱在Si衬底界面的积累和H原子在介质层内部的扩散,这种Si+陷阱的界面积累和H原子的扩散导致了器件NBTI效应的发生.; 萨宁康晋锋杨红刘晓彦张兴韩汝琦; 关键词：高K栅介质

GCS法及多晶区量子效应的集约建模(英文): 2004年; 提出了一种新的建立集约模型的方法 ,即栅电容修正法 .此方法考虑了新型效应对栅电压的依赖关系 ,且可以对各种效应相对独立地建模并分别嵌入模型中 .另外 ,利用该方法和密度梯度模型建立了一个多晶区内量子效应的集约模型 .该模型与数值模拟结果吻合 .模型结果和模拟结果均表明 ,多晶区内的量子效应不可忽略 ,且它对器件特性的影响与多晶耗尽效应相反 .; 张大伟章浩田立林余志平; 关键词：纳米级

FinFET器件的集约阈电压模型(英文): 2005年; 对FinFET器件(或称三栅MOSFET器件)的二维截面做了解析静电学分析以得出阈电压的计算公式.结果显示,由于三栅结构在高度方向的限制作用,需要引入一个H系数来修正栅电容,随着高度不断变大,它渐近于双栅MOSFET器件的情况.由该解析模型得出的电势分布与数值模拟结果吻合.提出了一个包含量子效应的Fin FET器件的集约阈电压模型,结果表明,当高度或者顶栅的氧化层厚度变小时,栅电容及阈电压都会上升,这与FinFET设计时发现的趋势是相符合的.; 张大伟田立林余志平; 关键词：阈电压

设计规则驱动的多层布线算法被引量：2: 2005年; 迷宫算法是集成电路两端线网优化布线问题的经典算法。多层布线受复杂版图设计规则约束,简单直接应用迷宫布线算法,或者无法获得优化的结果,或者无法满足设计规则。文章分析了迷宫算法特性与局限,提出基于群组图的多层迷宫算法,圆满地解决了上述问题。; 竺红卫; 关键词：多层布线

考虑量子效应的双栅MOSFET的阈电压解析建模(英文): 2005年; 推导了双栅MOSFET器件在深度方向上薛定谔方程的解析解以求得电子密度和阈电压.该解析解考虑了任意深度情况下沟道中深度方向上电势的不均匀分布,结果与数值模拟吻合.给出了电子密度的隐式表达式和阈电压的显式表达式,它们都充分考虑了量子力学效应.模型显示,在亚阈值区或者弱反型区,电子密度随深度增加而增加;然而,在强反型区,它与深度无关,这与数值模拟的结果吻合.结果进一步显示,只考虑方形势阱的量子力学结果,略高估计了阈电压,且低估了电子密度.误差随着深度的增加或者栅氧厚度的减少而增加.; 张大伟田立林余志平; 关键词：双栅MOSFET 电子密度阈电压

亚100nm体硅MOSFET集约I-V模型被引量：1: 2005年; 利用“局域化”的概念和二维泊松方程的解析解,建立了沟道方向上二维量子效应对阈电压的修正模型.基于密度梯度理论,建立了多晶硅栅内量子效应对阈电压的修正模型.在此基础上,结合弹道理论,开发了一个适用于亚100nm MOSFET的集约I V模型.通过与 TSMC提供的沟长为 45nm实际器件测试结果[1],以及与三组亚100nm MOSFET的数值模拟结果的比较,证明了该模型具有良好的精度(平均误差小于8%)和可延伸性.; 张大伟章浩朱广平张雪莲田立林余志平; 关键词：量子力学效应

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国家高技术研究发展计划(2003AA1Z1370)