国家科技重大专项(2013ZX04006011-102-001)
- 作品数：4 被引量：10H指数：2
- 相关作者：邓燕嵇保建王翔峰石琦凯邓文辉更多>>
- 相关机构：中国工程物理研究院成都精密光学工程研究中心更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项中国工程物理研究院科学技术发展基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程一般工业技术更多>>
- 超精密切削加工表面粗糙度影响因素的实验
- 为了优化超精密飞刀切削加工表面的粗糙度,对超精密飞刀切削加工主要参数的变化进行了实验研究。根据超精密飞刀切削加工机床加工原理,分析了影响加工工件表面质量的因素。使用控制变量法对不同的切削参数进行了实验和理论分析的对比,以...
- 毕果孙郅佶张剑锋王振忠安晨辉
- 关键词：表面粗糙度主轴转速进给速度
- 文献传递
- 大口径光学元件中频波前的检测被引量：6
- 2013年
- 大口径光学元件中频波前的准确评价已成为高功率激光系统中关注的焦点,元件中频波前均方根值是重要评价指标之一。根据波前中频检测频段及波前检测设备频响特性,将波前的中频区域分为两个检测频段,分别采用干涉仪和光学轮廓仪实现了中频波前均方根值的检测。采用大口径干涉仪可实现全口径波前中频区域低频段波前的检测,通过比对大口径干涉仪和采用小口径干涉仪结合分块融合平均方法的检测结果,提出采用分块融合平均方法也可检测相应频段全口径波前均方根。采用光学轮廓仪通过离散采样的方法检测大口径元件中频区域高频段波前均方根,针对不同离散采样方式的实验结果表明:3×3的采样方式能满足对410mm×410mm口径元件中频区域高频段波前均方根的检测。
- 邓燕王翔峰嵇保建石琦凯
- 关键词：大口径光学元件带通滤波子孔径离散采样
- 旋涂法制备KDP晶体减反膜被引量：1
- 2013年
- 对KDP晶体旋转涂膜过程中的技术问题进行了探讨，包括元件夹持安全性、膜层均匀性、膜层透射比、膜层疏水性能、膜层激光损伤阈值等。分析了晶体元件加速旋转阶段的受力情况，明确了KDP晶体元件在旋涂操作过程中受力状态的安全性。对不同溶剂体系的膜层均匀性进行了判断，在400mm尺寸的元件上获得了透射比均匀性为0．3％的减反膜。对溶胶进行稳态剪切流变分析得知，在现有的涂膜转速（对应剪切速率100～200s^-1）范围内，其粘度随着剪切速率的增加几乎不变，近似牛顿流体。在旋涂过程中，处于基底不同位置的溶胶的粘度大致相等，这是影响膜层均匀性的重要原因之一。膜层疏水性能较好，水接触角测试结果大于152°。在SiO2基底上制备的减反膜，1053nm处透射比大于99．8％。在熔石英基片上制备的三倍频减反膜样品的激光损伤闽值约为10J/cm^2（355nm，3ns）。
- 杨伟惠浩浩马红菊李文林雷向阳张清华
- 关键词：KDP晶体溶胶-凝胶减反膜
- 光学晶体超精密飞切加工的切削力测试
- 建立了光学晶体切削力与加工参数关系的预测模型指导光学加工,以减小光学晶体飞切加工中的冲击现象,改善晶体表面质量,减小刀具磨损。根据飞切加工原理,应用响应曲面法建立了光学晶体的切削力预测模型;采用田口正交设计方法设计实验参...
- 王振忠杨旭张剑锋安晨辉彭云峰
- 关键词：光学晶体切削力响应曲面法
- 文献传递
- 原子层沉积HfO_2薄膜的激光损伤特性分析被引量：1
- 2015年
- 以目前激光惯性约束聚变中应用最广泛的高折射率材料二氧化铪(HfO2)为研究对象,在熔石英基底上分别采用TEMAH和HfCl4前驱体制备了HfO2薄膜,沉积温度分别为100,200和300℃。采用椭偏仪和激光量热计对薄膜的光学性能进行了测量分析,采用X射线衍射仪(XRD)对薄膜的微结构进行了测量。最后在小口径激光阈值测量平台上按照1-on-1测量模式对薄膜的损伤阈值进行了测试,并采用扫描电子显微镜(SEM)对损伤形貌进行了分析。研究表明,用同一种前驱体源时,随着沉积温度升高,薄膜折射率增加,吸收增多,损伤阈值降低。在相同温度下,采用有机源制备的薄膜更容易在薄膜内部形成有机残留,导致薄膜吸收增加,损伤阈值降低。采用HfCl4作为前驱体源在100℃制备氧化铪薄膜时,损伤阈值能够达到31.8J/cm2(1064nm,3ns)。
- 卫耀伟王震潘峰
- 关键词：惯性约束聚变强激光系统原子层沉积激光损伤阈值HFO2薄膜
- 400mm口径平面窗口元件中频误差控制技术被引量：3
- 2013年
- 针对高功率激光装置所需的大口径光学元件,进行了小工具数控抛光中频误差控制工艺研究。对数控加工过程中卷积效应对中频误差的影响进行分析,并建立了残余误差分析模型,对卷积效应所引入的残余误差进行定量分析。利用该模型对中频误差修正工艺参数进行了仿真分析,并进行了修正工艺参数实验验证,确定了全面匀滑最优化参数。在最优化工艺参数的基础上,针对大口径光学元件开展了数控抛光中频误差控制工艺实验验证,使400mm口径平面窗口元件加工精度达到透射波前PV值为0.27λ,透射波前PSD1RMS值为1.67nm。该实验结果表明,通过400mm口径平面窗口元件的中频PSD1控制技术研究,使窗口元件能够达到高功率激光装置对中频PSD1的指标要求。
- 钟波陈贤华王健邓文辉谢瑞清袁志刚廖德锋
- 关键词：光学元件去除函数
