国家重点实验室开放基金(AWPT-Z02)
- 作品数：4 被引量：5H指数：1
- 相关作者：李慕勤吴明忠巩春志田修波张德秋更多>>
- 相关机构：佳木斯大学哈尔滨工业大学教育部更多>>
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- 笼网型空心阴极氩气放电特性研究被引量：4
- 2015年
- 采用高功率脉冲电源,研究了氩气气氛下工作气压、脉冲电压和频率等参数对笼网型空心阴极放电特性的影响,并对等离子体发射光谱进行了分析。结果发现:在脉冲电压增加到一定程度,脉冲电流随时间呈指数型(n>1)激增。提高工作气压、脉冲频率及脉冲电压,笼型空心阴极放电增强。脉冲峰值电流随气压和脉冲电压的升高而增大,但随频率增大呈现降低趋势。光谱分析表明,氩气笼型空心阴极放电主要物种是Ar*和Ar+粒子,随脉冲电压、工作气压及频率的增大,Ar*和Ar+粒子数量增多。
- 吴明忠田修波李慕勤巩春志魏荣华
- 关键词：击穿电压脉冲电流等离子体光谱
- Cr/CrN/Cu-TiN膜的成分与性能研究被引量：1
- 2015年
- 为了使手术器械具有疏水抗菌性,我们在手术器械表面制备了具有微纳米结构的Cr/Cr N/Cu-Ti N膜。基体表面微纳米化用化学刻蚀法,膜层制备用高功率脉冲磁控溅射法,试样检测用SEM、EDS、接触角测量仪和涂层附着力自动划痕仪等。试样薄膜抗菌元素Cu含量随偏压增大从3.09%降到1.77%;膜基结合力随偏压增大呈先增后减趋势,-50 V时膜基结合力最大,为34 N;比较基体未经刻蚀处理和经过微纳米化刻蚀处理的试样的疏水性,差异明显,前者的水接触角为78°,后者的水接触角为132°。
- 吴俊杰廖平李慕勤吴明忠张德秋孙薇薇
- 关键词：CU含量微纳米结构
- 高功率磁控溅射AZ31/Ti-Si-N涂层结构及表面硬度研究
- 2012年
- 利用高功率磁控溅射(HPPMS)技术在无偏压及室温条件下,采用(Ti,Si10at%)靶在AZ31镁合金基体上制备了Ti-Si-N涂层,在基体与涂层之间插入Ti-Si及TiN层分别作为过渡层及缓冲层,对不同氮气流量下制备的涂层显微结构及纳米硬度进行了研究。实验表明:在AZ31软基体上可制备超硬度Ti-Si-N涂层,随着氮气流量增加膜中N含量增高,涂层颗粒尺寸远小于DCMS电源模式,当氩气氮气流量比为11∶5时TiN(200)出现择优取向,纳米压痕最大硬度值达48 GPa,远高于DCMS涂层硬度(33 GPa)。
- 吴明忠张德秋王龙权李慕勤刘冬梅
- 关键词：镁合金
- 镁合金表面磁控溅射沉积钽膜及性能研究
- 采用高功率脉冲直流磁控溅射在镁合金基体上制备了钽薄膜,研究了溅射电流对钽膜相结构、显微结构、纳米硬度及耐蚀性的影响。XRD结果表明:气压0.5Pa,溅射电流在0.4A-0.6A范围时涂层包含α-Ta及β-Ta两相,溅射电...
- 李慕勤王龙权张德秋吴明忠
- 关键词：相结构
- 镁合金表面磁控溅射沉积钽膜及性能研究
- 采用高功率脉冲直流磁控溅射在镁合金基体上制备了钽薄膜,研究了溅射电流对钽膜相结构、显微结构、纳米硬度及耐蚀性的影响。XRD结果表明:气压0.5Pa,溅射电流在0.4A-0.6A范围时涂层包含α-Ta及β-Ta两相,溅射电...
- 李慕勤王龙权张德秋吴明忠
- 关键词：相结构
- 文献传递
- 镁合金高功率脉冲磁控溅射Ta(N)/Ti-Si多层膜性能分析
- 采用高功率脉冲磁控溅射技术在镁合金表面制备了Ta(N)/Ti-Si多层膜,通过场发射扫描电镜、原子力显微镜分别观察了薄膜的断面及表面形貌,利用纳米力学探针和电化学腐蚀实验研究了脉冲偏压对纳米硬度及耐蚀性的影响。结果表明:...
- 王龙权李慕勤吴明忠
- 关键词：镁合金耐蚀性
- 文献传递
- 乙炔笼网形空心阴极放电特性研究
- 2015年
- 为解决常规直流脉冲等离子体增强化学气相沉积工艺制备类金刚石膜沉积速率低问题,美国西南研究院开发了"笼网等离子体浸没离子沉积技术"。采用这种技术,本次实验研究了乙炔气压、流量、脉冲电压及氩气分压等工艺参数对笼形空心阴极放电动力学的影响。结果表明:在单个脉冲辉光放电过程中存在自辉光和空心阴极两种放电模式。工艺参数的影响表现为,乙炔气压由2.5升高到8 Pa,笼网放电击穿电压由1100降为620 V;当脉冲电压从900升高到1400 V,对应乙炔流量为200和100 m L/min时,工作气压分别下降1.4和3.9 Pa;提高脉冲电压或氩气分压,笼形空心阴极辉光增强,笼网电流增大,在p(C2H2):p(Ar)为1∶4时有最高值32 A。
- 吴明忠田修波李慕勤任逸群巩春志魏荣华
- 关键词：放电特性工艺参数电流波形
