江西省教育厅科学技术研究项目(GJJ10380)
- 作品数：1 被引量：5H指数：1
- 相关作者：徐鹏赖珍荃范定环王震东更多>>
- 相关机构：南昌大学更多>>
- 发文基金：江西省自然科学基金江西省教育厅科学技术研究项目更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 高择优取向Mo薄膜的直流磁控溅射制备及其电学性能被引量：5
- 2011年
- 使用直流磁控溅射法在玻璃基底上沉积Mo薄膜,采用X射线衍射仪、原子力显微镜和四探针测试系统研究了溅射工艺对Mo薄膜的结构、形貌和电学性能的影响.结果表明:当基片温度为150℃时,薄膜获得(211)晶面择优取向生长,而在低于250℃的其它温度条件下,样品则表现为(110)晶面择优取向生长.进一步的表面形貌分析显示:薄膜的粗糙度随基片温度变化不明显,其值大约为0.35nm,随溅射功率密度的增大而变大;电学性能方面:随着溅射功率密度的升高,薄膜导电性能迅速增强,电阻率呈现近似指数函数衰减;随着基底温度的升高,薄膜的电阻率先减小后增大,当基底温度为150℃时,薄膜电阻率降低至最小值2.02×10-5Ω.cm.
- 王震东赖珍荃范定环徐鹏
- 关键词：直流磁控溅射MO薄膜电学性能
