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河南省基础与前沿技术研究计划项目(072300410310)

作品数:10 被引量:19H指数:3
相关作者:陈兰莉靳瑞敏卢景霄郭新峰肖东岳更多>>
相关机构:南阳理工学院郑州大学南阳医学高等专科学校更多>>
发文基金:河南省基础与前沿技术研究计划项目国家自然科学基金河南省科技攻关计划更多>>
相关领域:理学电气工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 10篇中文期刊文章

领域

  • 7篇理学
  • 2篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇溶胶
  • 2篇溶胶-凝胶
  • 2篇维数
  • 2篇减反膜
  • 2篇硅薄膜
  • 2篇分形
  • 2篇分形维数
  • 2篇SIO
  • 2篇SIO2
  • 1篇电沉积
  • 1篇电子结构
  • 1篇电子结构计算
  • 1篇电子跃迁
  • 1篇对撞
  • 1篇对撞机
  • 1篇多晶
  • 1篇多晶硅
  • 1篇多晶硅薄膜
  • 1篇多孔硅
  • 1篇英文

机构

  • 10篇南阳理工学院
  • 3篇郑州大学
  • 1篇云南师范大学
  • 1篇河南师范大学
  • 1篇南阳医学高等...

作者

  • 8篇陈兰莉
  • 3篇靳瑞敏
  • 2篇郭新峰
  • 2篇卢景霄
  • 1篇王学雷
  • 1篇石明吉
  • 1篇罗鹏辉
  • 1篇许文娜
  • 1篇黄远明
  • 1篇肖东岳
  • 1篇周甫方
  • 1篇翟保改
  • 1篇汤中科
  • 1篇王玉仓
  • 1篇张丹
  • 1篇王生钊

传媒

  • 1篇化工新型材料
  • 1篇量子电子学报
  • 1篇电化学
  • 1篇河南师范大学...
  • 1篇光子学报
  • 1篇材料导报
  • 1篇液晶与显示
  • 1篇材料导报(纳...
  • 1篇重庆科技学院...
  • 1篇南阳理工学院...

年份

  • 1篇2015
  • 1篇2013
  • 1篇2011
  • 2篇2010
  • 4篇2009
  • 1篇2008
10 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
多孔硅薄膜上铜微晶的形成被引量:1
2008年
以氯化铜水溶液作电解液,在发光多孔硅薄膜表面上电沉积铜.SEM观测和计算机图像处理结果表明:电沉积之后,在多孔硅薄膜上形成了一些或实心或中空的等边三角形铜微晶,沉积后的多孔硅薄膜的分形维数从2.608降为2.252,其表面由粗糙变为光滑.与物理方法制作相比,这是一种机械强度和导电性能都更加良好的多孔硅薄膜.
陈兰莉周甫方翟保改黄远明
关键词:电沉积多孔硅微晶纳米材料分形维数
PVA对SiO_2减反膜表面结构的影响被引量:1
2013年
以正硅酸乙酯(TEOS)为有机硅源,乙醇为溶剂,NH3.H2O为催化剂,采用溶胶-凝胶技术,加入PVA(聚乙烯醇)添加剂,在玻璃上用旋涂法制备减反膜,并对其进行热处理;分别采用椭偏仪和扫描电镜对所制备减反膜的结构、物性进行研究,研究PVA添加剂对减反膜结构、折射率的影响。结果表明:适量的PVA添加剂可以控制SiO2太阳电池减反膜的开裂。
靳瑞敏蔡志端苍利民阎韬徐建军栗书增
关键词:溶胶-凝胶
手性香蕉形液晶在结晶过程中的分形特性被引量:1
2009年
用差分扫描热分析仪、偏光显微镜观察了香蕉形液晶在结晶过程中星形、草状两种分形结构的形成规律。采用计盒维数的方法,计算了这两种分形体的分形维数大约为1.9。用计算机模拟,重现了它的结晶过程,分形理论说明这种香蕉形液晶的结晶过程属于渗流生长模型。
陈兰莉
关键词:分形分形维数渗流
沉积温度对PECVD制备微晶硅薄膜性质的影响
2015年
采用PECVD(等离子体增强化学气相沉积)技术在不锈钢或玻璃衬底上制备微晶Si(硅)薄膜,研究沉积温度对PECVD法所制备的微晶硅薄膜性质的影响。从实验结果中可以看出,随着沉积腔内沉积温度的不断升高,微晶硅薄膜晶化率、晶粒尺寸在200-400℃范围内不断增加。当沉积温度为400℃时,薄膜的晶化率、晶粒尺寸得到显著提高,当沉积温度超过500℃时,薄膜的晶化率、晶粒尺寸反而略有下降。在本实验室条件下,沉积温度为400℃时十分有利于硅薄膜由非晶硅转化为微晶硅。
王生钊黄奇瑞卢景霄石明吉陈兰莉郭新峰
关键词:PECVD沉积温度微晶硅薄膜晶化率晶粒尺寸
含偶氮苯弯曲液晶的光化学性质研究(英文)被引量:3
2011年
研究了紫外光照和温度对偶氮弯曲液晶极化电流的影响。在365 nm紫外光照下,这种偶氮化合物的极化强度随紫外光照时间增加而变化直至为零;当温度从150℃升高到175℃时,弯曲液晶的极化电流随温度线性降低,用Landau-de Gennes理论解释了这一现象。其极化情况随紫外光照和温度而变化的实验规律表明:在紫外光照下偶氮弯曲液晶发生了光致异构化、光裂解和热裂解作用。
陈兰莉张丹
关键词:光照自发极化
强子对撞机上top-pion介子与t夸克的关联产生被引量:1
2009年
Top-pion介子作为TC2理论特征粒子,它的存在与否是验证TC2模型的最直接的证据之一.我们在TC2模型框架下,对强子对撞机上带电top-pion介子与t夸克的关联产生过程(pp(p-p)→tΠt-)进行了研究.结果表明:在Tevatron上,通过该过程不易探测到带电的top-pion介子;而在LHC上,该过程年产生事例数可达104量级.因此,在LHC上很有希望探测到top-pion介子,并进一步检验TC2模型.
陈兰莉许文娜王学雷
关键词:TC2模型强子对撞机TOP-PION介子产生截面
退火温度和时间对制备多晶硅薄膜的影响被引量:4
2010年
通过PECVD法于不同温度直接沉积非晶硅(a-Si:H)薄膜,选择于850℃分别退火2h、3h、6h、8h,于700℃分别退火5h、7h、10h、13h,于900℃分别退火1h、3h、8h,分别于720℃、790℃、840℃、900℃、940℃退火1h,然后用拉曼光谱和SEM进行对比分析,发现退火温度与退火时间的影响是相互关联的,并且出现一系列晶化效果好的极值点。
靳瑞敏王玉仓陈兰莉罗鹏辉郭新峰卢景霄
关键词:PECVD法非晶硅薄膜多晶硅薄膜拉曼光谱扫描电镜
两种理论解释Aharonov—Bohm效应的对比分析
2009年
概述了Aharonov—Bohm效应,并用经典电动力学和量子力学对其进行了解释。两种理论解释的对比分析表明,经典电动力学的局限性和量子力学的严谨性、整体性及科学预见性。
陈兰莉
关键词:AHARONOV-BOHM效应矢势
催化剂对制备SiO_2减反膜的影响被引量:6
2010年
以正硅酸乙酯(TEOS)为有机硅源,乙醇为溶剂,NH3.H20和HCl为催化剂,采用溶胶-凝胶技术,通过调节催化剂控制SiO2纳米颗粒尺度,然后在玻璃上用旋涂法镀膜并对其进行热处理,制备低折射率SiO2减反膜.分别采用椭偏仪和扫描电镜对所制备减反膜的结构、物性进行研究,研究不同性质和剂量的催化剂对薄膜结构、折射率的影响.结果表明:通过控制适量的碱酸催化剂可以制备出低折射率多孔结构的SiO2太阳电池减反膜.
靳瑞敏肖东岳苍利民阎韬徐建军韩香菊
关键词:溶胶-凝胶催化剂
香蕉型液晶的电子结构计算和电激发特性被引量:5
2009年
用舒克紧束缚法计算了一种新型香蕉型液晶1,3-phenylene bis[-4-(4’-nonyloxy)phenyliminomethyl]benzoate的电子结构,结果表明:LUMO和HOMO的能量差别主要是受到香蕉型液晶的中心核、桥键(—COO—)的影响,而烷基尾对香蕉型液晶电子结构的影响不大;在6种可能跃迁中,只有能量最低的两种(π→π,n→π)在200-800nm可见光范围内是经常发生的。对于这种香蕉型液晶,电子激发主要发生在4.0eV(310nm)和1.7eV(730nm)处。
陈兰莉汤中科
关键词:电子结构电子跃迁光学吸收
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