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上海市科委纳米专项基金(0352nm035)

作品数：2 被引量：5H指数：1
相关作者：张菁夏磊徐金洲周荃郭颖更多>>
相关机构：东华大学更多>>
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相关领域：理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 1篇等离子体
  • 1篇多孔
  • 1篇荧光
  • 1篇气相沉积
  • 1篇阻挡放电
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米多孔
  • 1篇介质
  • 1篇介质阻挡
  • 1篇介质阻挡放电
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇硅基
  • 1篇硅基薄膜
  • 1篇PL
  • 1篇DBD
  • 1篇表面处理
  • 1篇常压等离子体

机构

  • 2篇东华大学

作者

  • 2篇周荃
  • 2篇徐金洲
  • 2篇夏磊
  • 2篇张菁
  • 1篇郭颖

传媒

  • 2篇东华大学学报...

年份

  • 2篇2008
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
纳米多孔硅基薄膜的常压等离子体化学气相沉积过程研究被引量：4
2008年
采用常压等离子体化学气相沉积(APECVD)的方法制备了带有新颖结构和特殊蓝紫光(400nm左右)发光特性的硅基薄膜.通过在自行研制的等离子体反应装置中通入按100∶1∶1的体积比进行配比的SiH4∶H2∶Ar混合气体进行APECVD,在加负偏压条件下获得了由Si基组成的絮状多孔纳米结构薄膜.通过等离子体发射光谱测定了沉积过程中的电子温度在2.2eV左右,扫描电子显微镜(SEM)观测薄膜表面形貌后肯定了偏压对薄膜纳米结构的形成起着重要的作用.
夏磊周荃徐金洲张菁
介质阻挡放电及其在聚合物表面刻蚀中的应用被引量：1
2008年
介质阻挡放电(DBD)是在大气压条件下产生非平衡等离子体的一种常规技术,在许多方面有着广泛的应用.介绍了笔者自行研制的DBD装置,讨论了使用该装置所产生的常压低温等离子体对聚合物材料表面刻蚀处理后,材料上染率、粗糙化、润湿性、生物相容性和表面形貌等方面的变化.探讨了DBD在这些方面的应用前景.
周荃夏磊徐金洲郭颖张菁
关键词：等离子体表面处理
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