国家自然科学基金(51272245)
- 作品数：10 被引量：18H指数：3
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- 线性离子源对玻璃基片的表面改性被引量：4
- 2015年
- 采用阳极层线性离子源分别解离Ar气与O2气,对玻璃基片表面进行清洗处理,分析离子束清洗前后玻璃表面的变化,以及气体种类与电源电压对玻璃表面改性的影响。结果表明,离子束对玻璃表面产生显著的刻蚀作用,其中O离子束的刻蚀速率小于Ar,且刻蚀速率随电源电压的升高而增大。椭偏测试结果表明,离子束轰击增大了玻璃的Brewster角,并改变了Brewster角附近的椭圆偏振光谱形貌。通过建模分析发现,这是由于离子束使玻璃表面生成光密介质层,使表面折射率增大所致。
- 孙瑶汪洪
- 关键词：表面改性折射率
- 基于遗传算法的Low-E膜系介质膜层光学厚度分析
- 2019年
- 本文针对在Low-E膜系设计及生产过程中对获悉透明介质层光学厚度的需求,提出依据柯西光学模型利用遗传算法分析膜层的光学厚度的方法。讨论了柯西光学模型及Low-E膜系中介质膜层的特点,根据遗传算法原理建立膜层光学厚度分析流程,在此基础上讨论了遗传算法主要参数对结果的影响,种群大小为35个个体、遗传迭代40次、精英数量为8个、交叉因素0.2为最佳的遗传条件。根据实际生产的膜层膜面反射光谱特征,设立合理的初始值,可以使计算分析结果更接近测试值。另外,研究表明利用膜面反射光谱作为分析依据更为合理。
- 余刚汪洪
- 关键词：光学厚度光学模型透明介质膜系设计
- 基于遗传算法的浮法玻璃光学常数测量与分析被引量：3
- 2017年
- 浮法玻璃作为镀膜产品的基片,分析其光学常数是进行产品光学设计及质量控制的基础。由于反射光无法完全体现材料吸收特征、玻璃两个界面的多次反射光产生退偏问题,使利用椭偏原理分析浮法玻璃光学常数存在局限性。本文利用分光光度计测量浮法玻璃300~2500 nm范围透射光谱,根据光谱特征,建立以高斯振子及极振子为核心的复合振子模型,共15个未知参数,利用遗传算法依据透射光谱数据分析获得最佳振子参数,得到相应的光学常数,符合浮法玻璃基本光学特性。
- 余刚汪洪
- 关键词：光学常数遗传算法透射光谱
- 类金刚石薄膜对Low-E玻璃可加工性能的影响被引量：1
- 2014年
- 采用射频等离子体增强化学气相沉积法（RF-PECVD），在Low-E玻璃表面沉积了类金刚石（DLC）薄膜作为保护层。通过摩擦磨损实验研究DLC膜对Low-E玻璃耐磨性的影响；对沉积了DLC膜的Low-E玻璃进行热处理，研究热处理后Low-E玻璃低辐射性能和光学性能的变化。结果表明，DLC膜沉积速率为2．5～4nm／min，沉积时间4min以上时，Low-E玻璃摩擦系数开始降低到0．5以下，玻璃表面无破裂迹象，说明一定厚度DLC膜能够有效降低Low-E玻璃摩擦系数，提高Low-E玻璃耐磨性；热处理后，沉积不同时间DLC膜的Low-E玻璃与未沉积DLC膜的Low-E玻璃相比，方块电阻最大相差0．04Ω／□，E值最大相差0．0019，膜面反射、玻面反射、透过颜色△E值均小于3CIELAB，说明DLC膜可以通过热处理去除，且热处理后的Low-E玻璃低辐射性能和光学性能未受到影响。
- 王箭汪洪余刚黄星烨
- 关键词：类金刚石薄膜LOW-E玻璃耐磨性热稳定性
- 钛掺杂对低辐射银膜的团聚抑制作用
- 2016年
- 以金属Ag作为红外反射功能层的低辐射多层膜受热易产生团聚,严重损害导电性与低辐射性能。本文提出在金属Ag膜层中掺杂Ti元素,研究Ti掺杂对Ag基低辐射多层膜的团聚抑制作用以及对热处理后性能的影响。采用磁控溅射制备SiN_x/Ag/Si Nx与Si Nx/Ag-Ti(1.1 at%)/Si Nx多层膜,其中Ag(Ti)层厚度为20 nm,并进行真空与非真空热处理(大气环境)。通过对比有无Ti掺杂的Ag基多层膜热处理前后的背散射电子形貌、面电阻、辐射率与透光率,发现无论真空还是非真空热处理,Ti掺杂均显著提高Ag膜的热稳定性,抑制团聚的生成。热处理后的面电阻、辐射率与透光率均显著优于未掺杂Ag基多层膜。进一步,观察背散射电子形貌随热处理温度的变化,分析了无掺杂Ag膜团聚的形成过程,并推测了Ti掺杂对Ag膜团聚的抑制机理。
- 孙瑶汪洪
- 关键词：低辐射银膜团聚热稳定性掺杂
- 溅射工艺对D/M/D结构中SiN_x介质膜光学常数的影响被引量：3
- 2015年
- 采用射频反应溅射制备SiNx薄膜,作为以Ag膜为功能层的D/M/D结构透明导电膜中的电介质膜,并研究射频功率、气压以及N2流量对SiNx薄膜光学常数的影响。结果表明,SiNx薄膜具有非晶态结构,光学常数在300-2500nm波长范围内符合正常色散关系。椭偏测试及Cauchy模型拟合结果表明,折射率随功率、气压以及N2流量升高而降低,SiNx光学常数最佳的工艺条件为功率300W,气压0.16Pa,N2与Ar流量比例1∶1,此时薄膜折射率为2.02,消光系数为0,最接近具有化学计量比的Si3N4薄膜的光学常数。按此工艺制备的Si Nx膜在优化厚度为44nm的条件下作为20nm厚度Ag膜的电介质膜,当只有表面SiNx膜时,Ag膜透光率由29.17%提高至55.01%,当Ag膜上下均制备SiNx膜时,透光率进一步提高至66.12%。
- 孙瑶汪洪
- 关键词：折射率椭偏仪透光率
- 基于遗传算法的Low-E膜系中透明介质膜层均匀性在线分析被引量：1
- 2018年
- 本文针对离线Low-E镀膜玻璃生产控制过程中对厚度均匀性的需求,提出依据在线测试膜层膜面反射光谱数据,建立柯西光学模型利用遗传算法分析膜层厚度均匀性的方法。采用的在线光谱测量装置安装于镀膜设备产品出口端,在镀膜玻璃宽度方向可以测量24个位置的380~780nm波长范围。研究表明在分析过程利用各点平均光谱由遗传算法分析获得膜层折射率及平均厚度,针对性地建立膜层材料在特定厚度范围内的颜色与厚度关系,在保证分析结果正确性的同时提高了数据分析效率。
- 余刚汪洪汪洪黄星烨杨中周王桂荣
- 关键词：遗传算法均匀性
- 基于遗传算法透明介质膜层折射率及厚度在线分析被引量：5
- 2016年
- 针对离线Low-E膜系产品设计及调试过程中对获悉透明介质膜层折射率及厚度的需求,提出依据在线测试膜层膜面反射光谱数据,建立Cauchy光学模型,利用遗传算法进行分析的方法。在线光谱测量装置安装于镀膜设备产品出口端,可以在镀膜玻璃宽度方向测量24个位置、380~780 nm波长范围的光谱,每测量点所需时间小于260 ms。根据Cauchy光学模型及离线Low-E膜系中透明介质膜层的特点,结合遗传算法原理建立分析流程,讨论了遗传算法主要参数对结果的影响。得到的最佳遗传条件为：种群大小为35个个体、遗传迭代40次、精英数量为8个,交叉比例0.2;根据实际生产的膜层膜面反射光谱特征,设立合理的初始值,可以使计算分析结果更正确。
- 余刚汪洪
- 关键词：遗传算法折射率
- 介质/金属/介质透明导电多层膜的椭圆偏振光谱研究被引量：1
- 2016年
- 拥有介质/金属/介质结构的透明导电多层膜的光学与电学性能优于单层透明导电氧化物膜或金属膜,且能够在低温下制备。采用磁控溅射室温制备ZnO/Ag/SiN透明导电多层膜,并进行变角度椭圆偏振光谱测量。对单层膜建立物理模型并进行拟合,获得每层膜的折射率与消光系数。由单层膜模型组建多层膜模型,使多层膜的椭圆偏振光谱拟合值与实测值相吻合。拟合结果表明,不同O_2和Ar流量比条件下制备衬底层ZnO时,功能层Ag的Drude模型中载流子浓度几乎不变,而迁移率不同。当O_2和Ar流量比使ZnO处于氧化态时,Ag层的迁移率最高,由X射线衍射分析发现,此时Ag层具有最强的结晶强度与择优取向。
- 孙瑶汪洪
- 关键词：多层膜椭圆偏振光学常数ZNO
- 基于椭圆偏振光谱法的玻璃表面离子束改性分析被引量：3
- 2016年
- 采用阳极层线性离子源解离氮气对玻璃表面进行刻蚀处理,研究表面改性后玻璃表面的变化,并分析离化电压对表面粗糙度、折射率以及光学厚度的影响。在此基础上,基于椭圆偏振光谱仪,通过对比不同表面状态下的Δ光谱,讨论固定波长变化入射角的Δ光谱曲线特征与表面折射率、布儒斯特角、粗糙度以及光学厚度之间的关系。结果表明,刻蚀后玻璃的布儒斯特角附近的Δ光谱曲线形状发生变化,突变向高角度偏移,曲线下降斜率增大。通过建模并拟合分析发现,氮离子束轰击使玻璃表面产生光密介质层,表面折射率增大,布儒斯特角增大,粗糙度降低,且随离化电压升高,折射率不变,而光密介质层厚度增加。由原子力显微镜分析表面形貌,验证了离子束对玻璃表面的平整化作用。X射线光电子能谱结果表明离子束使玻璃表面发生选择性溅射,推断光密介质层的产生来自于离子束对玻璃表面的夯实作用。此外,推导并验证了Δ光谱曲线的特征与材料表面状态之间的普适关系,提出了基于椭圆偏振光谱仪的材料表面评估方法,即Δ曲线的突变发生角度增大说明折射率与布儒斯特角的增大;下降斜率增大说明表面粗糙度减小;曲线两端尖角增大说明光学厚度增大。反之亦然。
- 孙瑶汪洪
- 关键词：粗糙度
