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陕西理工学院科研基金(SLGQD0406)

作品数：2 被引量：0H指数：0
相关作者：王少华周平和刘世杰郭颖邵建达更多>>
相关机构：陕西理工大学中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金：陕西理工学院科研基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇衍射
  • 1篇衍射光栅
  • 1篇损伤阈值
  • 1篇全内反射
  • 1篇模拟技术
  • 1篇近场
  • 1篇近场分布
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻技术
  • 1篇光栅
  • 1篇场分布

机构

  • 2篇陕西理工大学
  • 1篇中国科学院上...

作者

  • 2篇刘世杰
  • 2篇周平和
  • 2篇王少华
  • 1篇潘峰
  • 1篇邵建达
  • 1篇郭颖

传媒

  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇陕西理工学院...

年份

  • 2篇2007
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
厚层抗蚀剂光刻技术研究进展
2007年
厚层抗蚀剂光刻是一种制作深浮雕结构的微细加工技术。综述了近年来厚层抗蚀剂光刻技术的最新进展,从厚层抗蚀剂光刻工艺原理以及计算机模拟诸方面分析了该技术区别与传统光刻的一些特点,并对其应用的研究现状进行了总结,最后指出了进一步发展厚层抗蚀剂光刻技术的关键问题。
郭颖潘峰周平和王少华刘世杰
关键词：光刻模拟技术
全内反射式衍射光栅近场光学特性
2007年
利用傅里叶模式理论分析了具有高衍射效率的全内反射式衍射光栅在TE和TM偏振态下的近场光分布特点,讨论了光栅结构参数以及入射角度对光栅内电场增强的影响。结果表明:全内反射光栅内部电场分布对偏振态较敏感,光栅槽深和占宽比对电场增强影响较小,光栅内的峰值电场随光栅周期增大而增大,并且峰值电场随着入射角度的增大而减小。在应用于高功率激光时,降低光栅内部的电场增强可以有效降低损伤风险。
周平和王少华刘世杰邵建达
关键词：全内反射衍射光栅损伤阈值近场分布
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