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国家重点实验室开放基金(10KF006)

作品数:2 被引量:3H指数:1
相关作者:秦宗慧周嘉李燃灯岳彪更多>>
相关机构:华东理工大学复旦大学更多>>
发文基金:国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域:机械工程化学工程更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇机械工程

主题

  • 1篇型腔
  • 1篇氧化铟
  • 1篇氧化铟锡
  • 1篇正交
  • 1篇正交试验
  • 1篇镶块
  • 1篇灰色关联
  • 1篇UV-LIG...
  • 1篇UV-LIG...
  • 1篇ANSYS
  • 1篇ITO

机构

  • 2篇华东理工大学
  • 1篇复旦大学

作者

  • 2篇秦宗慧
  • 1篇李燃灯
  • 1篇周嘉
  • 1篇岳彪

传媒

  • 1篇表面技术
  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2012
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
双层微齿轮型腔镶块电铸均匀性Ansys模拟与优化被引量:1
2014年
目的提高双层微齿轮模具型腔镶块电铸过程中铸层的均匀性。方法利用Ansys对双层微齿轮型腔镶块电铸过程中电场强度的分布情况进行模拟,确定施加绝缘挡板的可行性。采用正交试验考察绝缘挡板几何及位置尺寸对电场强度的影响,应用灰关联理论得出最优工艺参数组合。结果绝缘挡板的施加,在一定条件下可以使光刻胶电铸层厚度更为均匀和平整。路径a的相对误差由62.48%降低到33.18%,路径b的相对误差由48.01%降低到8.91%。结论施加绝缘挡板可以提高双层微齿轮模具型腔镶块电铸过程中铸层的均匀性。
岳彪秦宗慧
关键词:正交试验灰色关联
基于UV-LIGA技术的双层微齿轮模具镶块工艺被引量:2
2012年
以氧化铟锡(ITO)玻璃作为基底,采用UV-LIGA技术制作了双层微齿轮型腔模具的镶块。首先,采用正胶(RZJ-304)进行光刻,在ITO玻璃表面电镀镍掩模,通过镍掩模对第一层SU-8光刻胶进行背面曝光。再利用正面套刻的方法对第二层SU-8光刻胶进行曝光,显影得到双层微齿轮的胶模。最后,进行微电铸得到双层微齿轮型腔镶块。通过实验验证了双层微齿轮模具镶块制作的工艺流程,优化了其工艺参数,克服了底部曝光不足引起的问题,并对制作工艺过程中产生的涂胶不平整、前烘时胶层不稳定、热板加热不均以及接触式曝光破坏胶层表面等问题进行了研究。所制得的双层微齿轮胶模垂直度高,表面质量好,且套刻精度高。
李燃灯秦宗慧周嘉
关键词:UV-LIGA
共1页<1>
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