国家自然科学基金(51172081)
- 作品数:6 被引量:24H指数:4
- 相关作者:刘建国曾晓雁吕铭王素焕蒋明更多>>
- 相关机构:华中科技大学温州大学更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金中国博士后科学基金更多>>
- 相关领域:电子电信自动化与计算机技术理学化学工程更多>>
- 一种248nm光刻胶成膜树脂的合成及相关性能研究被引量:8
- 2013年
- 通过自由基共聚合,制备了前驱体共聚物聚对特丁氧酰氧基苯乙烯-共-N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯,该共聚物可以通过热解而部分脱除酚羟基上的保护基,得到目标共聚物聚对羟基苯乙烯-共-N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯-共-对特丁氧酰氧基苯乙烯.通过对具有合适分子量的目标共聚物的有机溶剂溶解性、热性能、成膜性、抗干蚀刻能力和在248nm处光学吸收(为0.212μm-1)性能进行研究,表明该聚合物能满足248nm光刻胶成膜树脂的要求;此外,目标共聚物还具有酸致脱保性能.具有合适分子量和脱保率的目标共聚物,通过对其酸解留膜率的测试,推测其可能满足248nm光刻胶的曝光显影工艺过程.
- 刘建国蒋明曾晓雁
- 关键词:成膜树脂
- 一种耐高温紫外正型光刻胶及光刻工艺被引量:2
- 2016年
- 光刻胶作为光刻技术中的关键性基础材料,其配方组成和光刻工艺对光刻胶的分辨率等性能有重要影响.以自制的酰胺-酰亚胺聚合物作为成膜树脂,与感光剂2,1,5-磺酰氯的衍生物等其他成分按一定比例配制成光刻胶,通过研究不同配比、不同光刻工艺条件下的光刻性能,得到了该光刻胶的最佳配方组成及最佳光刻工艺条件.该光刻胶的成像反差可达到约3.35;在最佳配方组成和最佳光刻工艺条件下,采用接触式曝光,可以获得最大约1?m的线宽分辨率,同时该光刻胶具有良好的耐热性,270℃高温下坚膜30 min,光刻图形未发现明显塌边现象.
- 艾骏曾晓雁刘建国
- 关键词:光刻工艺
- 微笔-激光直写组合加工制备多电极阵列系统
- 2012年
- 针对传统的硅基微加工技术因依赖掩模光刻技术而柔性化程度低的不足,以石英玻璃为基底、金为微电极材料体系,利用微笔-激光直写组合加工技术制作了带有微区温控特性的多电极阵列系统.实验结果表明:金电极导体线宽44μm,膜厚12μm,平均电阻率1.2×10-6Ω.cm,电极阻抗随频率的升高而降低,在低频时表现为容抗特性,具有较好的阻抗重复精度;用于微区温控的环形加热电阻在15~28V,通电电压对微区加热温度的关系具有较好的线性控制能力,环形热敏电阻在15.0~80.0℃范围内的电阻温度系数值为2 805×10-6/℃,温度响应性能满足应用要求.
- 曹宇刘建国曾晓雁
- 关键词:多电极阵列激光电子浆料
- 脉冲紫外激光改性对聚碳酸酯表面润湿性能的影响被引量:9
- 2013年
- 355nm脉冲(100kHz)紫外激光刻蚀改性的功率密度对聚碳酸酯(PC)材料表面润湿性能的影响存在规律性:当激光功率密度小于0.27×108W/cm2时,可得到亲水性的PC表面;当激光功率密度在1.15×108~10.19×108W/cm2之间时,可得到疏水性的表面。用扫描电镜技术(SEM)和X射线光电子能谱技术(XPS),详细探讨了紫外激光刻蚀改性对PC表面润湿性能的影响机理。当激光功率密度大于1.15×108W/cm2时,尽管改性后PC表面的含氧极性基团有所增加,但由于"V"字形沟槽结构的存在,使其表面仍然呈现疏水性。探讨了用Cassie模型解释在一定的激光功率密度刻蚀改性条件下,PC材料表面的水接触角和润湿性能变化的可行性。
- 王素焕刘建国吕铭曾晓雁
- 关键词:表面改性聚碳酸酯接触角润湿性
- 两种耐高温紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及性能被引量:4
- 2012年
- 分别通过N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺与N-苯基马来酰亚胺、N-苯基甲基丙烯酰胺与N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺的共聚合,制备了两种聚合物树脂聚N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺(poly(HPMA-co-PMI))和聚N-苯基甲基丙烯酰胺共N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺(poly(MPA-co-HPMI)).结果表明,这两种聚合物都是按1∶1的摩尔比交替共聚的,它们都具有良好的溶解性、成膜性和亲水性,并且它们的玻璃化温度Tg都在280℃以上.将它们分别与感光剂2,1,5-磺酰氯的衍生物、助剂二苯甲酮等复配成两种紫外正型光刻胶,初步光刻实验表明,其最大分辨率都可以达到1μm,并且都可以耐270℃的高温.
- 刘建国
- 关键词:成膜树脂
- N-羟基邻苯二甲酰亚胺的简便合成被引量:4
- 2012年
- N-羟基邻苯二甲酰亚胺(NHPI)是一种重要的化工原料;文章以盐酸羟胺、甲醇钠和邻苯二甲酸酐为原料,以甲醇为溶剂,合成了NHPI;该法合成和分离步骤简单,合成产率高(84%),产物纯度高(98.5%);简要讨论了合成反应的原理,分析了影响合成和产物分离提纯的一些因素。
- 刘建国刘和平
- 关键词:N-羟基邻苯二甲酰亚胺盐酸羟胺甲醇钠邻苯二甲酸酐