国际科技合作与交流专项项目(2008DFR70410)
- 作品数：3 被引量：2H指数：1
- 相关作者：傅新陈晖陈文昱赵金余巴静更多>>
- 相关机构：浙江大学更多>>
- 发文基金：浙江省自然科学基金国际科技合作与交流专项项目中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
- 相关领域：机械工程更多>>
- 光刻机浸没单元结构参数对流动状态的影响
- 2011年
- 不同的浸没单元结构会影响缝隙流场的流动状态,为了研究浸没单元结构参数对缝隙流场流动的影响规律,通过计算流体动力学(CFD)仿真,对浸没流场的流动进行了数值模拟,开展了不同的浸没单元的注液口形状和流场高度所形成的缝隙流场的流动状态分析。研究结果表明:90°～150°的注液口和0.7 mm～1 mm的缝隙高度为理想的结构参数。
- 赵金余陈晖傅新
- 关键词：浸没式光刻计算流体动力学
- 基于PVDF薄膜的流场动态压力检测方法的研究被引量：1
- 2011年
- 针对检测狭小空间流场压力时,通用液体压力传感器存在体积大、频响低以及干扰流场等问题,提出一种基于聚偏氟乙烯(PVDF)薄膜的流场动态压力检测方法,该方法采用光刻工艺直接在敷镀有金属铝电极的PVDF薄膜上制作压力传感元件,该元件具有面积小、厚度薄、柔韧性好的特点,非常适合于狭小流场空间壁面压力分布的测量。试验研究表明:该方法特别适用于检测流场微小的压力波动,线性度误差为±2.3%,输出灵敏度为1.32mV/Pa。
- 阮晓东巴静陈晖陈文昱傅新
- 关键词：光刻工艺
- 浸没式光刻机浸没流场的仿真与试验被引量：1
- 2011年
- 浸没式光刻是当前45 nm以下集成电路(Integrated circuit,IC)生产线上唯一实际应用的技术。它通过在最后一片投影物镜和硅片之间填充高折射率的浸没液体来提高光刻的分辨率。作为光刻系统中光路的一部分,浸没液体需要保持良好的均一性。然而,曝光过程中光刻胶泄漏污染和曝光温升的问题,会破坏流场的均一性,并最终影响到成像质量。目前主要采用浸没液体的更新带走光刻中产生的污染物和热量,液体的更新效率成为了浸没式光刻机设计中必须考虑的关键问题之一。建立浸没流场的数值模型,并研究结构参数对流场更新效率的影响。运用高速摄像机、数据采集仪等组成的可视化流场检测试验系统开展浸没流场可视化研究,并与仿真结果进行对比,得到一组优化的注液与回收口参数。
- 傅新赵金余陈晖陈文昱
- 关键词：浸没式光刻流场可视化
