贵州省科学技术基金(J[2011]2095)
- 作品数：8 被引量：15H指数：2
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- RHEED实时监控下MBE生长不同In组分的InGaAs薄膜被引量：5
- 2011年
- 利用分子束外延技术,通过RHEED图像演变实时监控薄膜生长状况,采用RHEED强度振荡测量薄膜生长速率,固定Ga源温度、改变In源温度在GaAs(001)基片上外延生长了不同In组分(39%、29%、19%)的InGaAs薄膜。比较RHEED强度振荡以及RHEED衍射图像,发现随着In组分的增加In-GaAs的生长将很快进入三维粗糙表面生长模式,并指出In0.19Ga0.81As和In0.29Ga0.71As薄膜处于(2×3)表面重构相。In0.19Ga0.81As样品进行退火处理后完成STM扫描分析,证实样品为表面原子级平整的In-GaAs薄膜。
- 罗子江周勋贺业全何浩郭祥张毕禅邓朝勇丁召
- 关键词：MBERHEEDSTM
- InAs(001)吸附表面的不可逆重构相变研究
- 2013年
- 对吸附了大量As的InAs（001）样品进行升降温热处理，发现在485℃时表面有从（3×1）重构到（2×4）重构的不可逆转变现象。利用扫描隧道显微镜对（3X1）重构表面分析，结果表明大量常温吸附的As从表面脱附使InAs（001）（2×4）重构表面最顶层的Asdimer也一起脱离表面，（3×1）重构表面实际上是由20％的富As（2×4）重构区域与80％的富In（4×2）重构区域组成。不可逆相变是由于As束流提供的As4原子团吸附到富In区域，使样品表面恢复N（2×4）重构相，而（2X4）蓖构相能在390～490℃温度范同内稳定存在。
- 郭祥周勋罗子江王继红周清刘珂丁召
- 关键词：不可逆相变
- RHEED衍射花样与晶体表面形貌的关联性研究被引量：2
- 2013年
- 采用带有RHEED的MBE技术,在GaAs(001)单晶衬底上生长不同厚度(0 ML,4 ML,15 ML)的In0.53Ga0.47As外延层,实时监测RHEED衍射图像的演变过程,生长结束后采用STM对其形貌进行扫描分析。研究分析结果表明,随着In0.53Ga0.47As外延层的不断加厚,RHEED衍射图像从最初的清晰明锐、重构可辨逐渐演变到背景模糊、条纹断裂,最后进入完全的网格状斑点状态;与此同时,对应的表面形貌也从原子级的有序平坦表面逐渐过渡到部分3D岛形成、粗糙度提高,最后表面完全由3D岛构成,表面进入粗糙状态。
- 王继红罗子江周勋郭祥周清刘珂丁召
- 关键词：RHEEDSTM
- 低As压退火对GaAs(001)表面形貌与重构的影响
- 2015年
- 在低As压条件下退火处理原子级平坦的Ga As(001)β2(2×4)重构表面.利用扫描隧道显微镜对表面进行研究,发现随着低As压退火时间的延长,表面形貌与表面重构的演变同步进行.表面形貌经历了从有序平坦转变为无序平坦,然后逐渐恢复到有序平坦状态的过程.表面重构则由β2(2×4)重构逐渐转变为(2×6)重构,然后再转变为锯齿状的(2×6)重构,并且表面形貌与表面重构的演变存在一定的相互关系.
- 周勋罗子江王继红郭祥丁召
- 关键词：表面形貌
- MBE生长GaAs(001)薄膜表面的Ostwald熟化过程研究被引量：7
- 2013年
- 采用带有RHEED的MBE技术,利用RHEED图像演变实时监控薄膜生长状况,通过RHEED强度振荡测算薄膜生长速率,在GaAs(001)基片上同质外延GaAs薄膜。利用STM对MBE生长的GaAs薄膜表面的熟化过程进行了深入研究。研究发现,随着退火时间的延长,刚完成生长的GaAs表面从具有大量岛和坑的粗糙表面逐渐熟化,在熟化过程中岛不断合并扩大并与平台结合,而坑却逐渐消失。指出当熟化过程完成后GaAs表面将进入原子级平坦状态,并详细解释了熟化过程GaAs表面各种形貌特征形成的内在原因。
- 王继红罗子江周勋郭祥周清刘珂丁召
- 关键词：MBERHEEDSTM熟化
- GaAs(001)表面重构
- 2014年
- GaAs的高迁移率与其表面重构和表面形貌有密切关联,对于GaAs表面重构的研究一直是研究低维半导体的重点和难点。重点回顾了几十年来研究者们对于GaAs(001)表面重构的研究成果,结合所在实验室最近的实验数据,对GaAs(001)表面重构的相关研究成果进行了汇总和遴选,重点讲述了在实际应用中常用的几种表面重构;从富As表面的C(4×4)重构、不同(2×4)重构到逐渐富Ga的(n×6)重构、(4×2)重构,结合RHEED衍射花样、STM扫描图片以及球棍模型,对它们的倒、实空间图像以及理论模型都进行了深入的探讨和研究,为将来进行GaAs(001)表面的更深入研究打下基础并提供数据和理论支持。
- 罗子江周勋王继红郭祥丁召
- 关键词：RHEEDSTMGAAS(001)
- InAs薄膜的分子束外延生长与表面形貌及表面重构分析被引量：2
- 2013年
- 利用带有反射高能电子衍射(RHEED)仪的分子束外延(MBE)方法,通过RHEED图像演变实时监控薄膜生长状况,采用RHEED强度振荡测量薄膜生长速率,在InAs(001)基片上同质外延InAs薄膜。利用扫描隧道显微镜(STM)对MBE生长的InAs薄膜表面形貌以及表面重构进行扫描分析,证实样品表面为原子级平整,并指出样品表面处于β2(2×4)与α2(2×4)两种重构混合的重构相。
- 王继红罗子江周勋张毕禅郭祥丁召
- 关键词：分子束外延反射高能电子衍射扫描隧道显微镜
- 高In组分InGaAs薄膜的分子束外延生长及其表面分析被引量：2
- 2013年
- 采用分子束外延(MBE)方法,通过反射高能电子衍射(RHEED)强度振荡测算生长速率,利用RHEED衍射实时监控生长过程,在InAs(001)和InP(001)单晶衬底上生长高In组分的InGaAs薄膜,并通过扫描隧道显微镜(STM)对其表面形貌和表面重构进行了细致分析,STM图片证实采用该方法获得的高In组分InGaAs薄膜处于高质量的平整状态。研究发现InGaAs与衬底之间的拉伸应力是促使薄膜表面呈现了大量的锯齿状边缘的主要原因;高分辨的STM分析还发现,高In组分的InGaAs薄膜是多种重构混合的表面,InGaAs/InAs是以β(2×4)重构为主,而InGaAs/InP是以(4×3)重构为主,它们在RHEED衍射图像上都是模糊的(2×3)或(4×3)/(2×3)表面重构。
- 罗子江周勋郭祥王继红魏文喆王一丁召
- 关键词：INASINPINGAASMBESTM
