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国家自然科学基金(50572120)

作品数:2 被引量:3H指数:1
相关作者:高汉超李志华蒋中伟刘林生周均铭更多>>
相关机构:中国科学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 2篇ALSB
  • 1篇形核
  • 1篇位错
  • 1篇位错密度
  • 1篇界面粗糙度
  • 1篇晶格
  • 1篇分子束
  • 1篇分子束外延
  • 1篇QUANTU...
  • 1篇GASB
  • 1篇超晶格
  • 1篇AS
  • 1篇NUCLEA...

机构

  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇周均铭
  • 1篇刘林生
  • 1篇蒋中伟
  • 1篇李志华
  • 1篇高汉超

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇物理学报

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
AlGaSb/GaSb quantum wells grown on an optimized AlSb nucleation layer
2010年
Five-period AlGaSb/GaSb multiple quantum wells(MQW) are grown on a GaSb buffer.Through optimizing the AlSb nucleation layer,the low threading dislocation density of the MQW is found to be(2.50±0.91)×10~8 cm^(-2) in 1-μm GaSb buffer,as determined by plan-view transmission election microscopy(TEM) images.High resolution TEM clearly shows the presence of 90°misfit dislocations with an average spacing of 5.4 nm at the AlSb/GaAs interface,which effectively relieve most of the strain energy.In the temperature range from T = 26 K to 300 K,photoluminescence of the MQW is dominated by the ground state electron to ground state heavy hole(el-hhl) transition, while a high energy shoulder clearly seen at T>76 K can be attributed to the ground state electron to ground state light hole(el-lhl) transition.
高汉超温才王文新蒋中伟田海涛何涛李辉陈弘
关键词:GASBALSB形核位错密度
As保护下的生长中断时间对AlSb/InAs超晶格界面粗糙度的影响被引量:3
2007年
用分子束外延设备(MBE)在GaAs(100)衬底上生长了InSb型界面的AlSb/InAs超晶格,界面生长过程中采用了As保护下不同的中断时间.运用掠入射X射线反射技术(GIXRR)对样品进行了测量,并对测量结果进行了模拟和分析,发现As保护下生长中断20s能获得最平整的AlSb/InAs界面.结合分析显微镜下观察到的样品形貌,过短的界面中断时间会导致界面富In并形成In点,而过长的中断时间会导致AlAs型界面的形成,两者都使界面变得粗糙.另外,还讨论了生长中断在分子束外延生长中的应用.
李志华王文新刘林生蒋中伟高汉超周均铭
关键词:分子束外延超晶格
共1页<1>
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