国家高技术研究发展计划(2006AA03Z204)
- 作品数：8 被引量：5H指数：2
- 相关作者：李成山卢亚锋张国防闫果金利华更多>>
- 相关机构：西北有色金属研究院陕西师范大学更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电气工程更多>>
- 涂层导体中的TFA-MOD超导层技术进展被引量：2
- 2008年
- 三氟乙酸金属有机沉积(TFA-MOD)技术在制备超导涂层导体长带方面具有低成本和高效的特点。简述了TFA-MOD技术的基本原理以及在长带技术方面的进展,讨论了利用TFA-MOD技术制备涂层导体时仍然存在的技术和基础科学问题,并展望了我国涂层导体技术的发展状况。
- 金利华李成山闫果卢亚锋
- 关键词：超导涂层导体TFA-MOD
- 金属有机沉积法制备La_2CuMnO_6缓冲层薄膜及其结构表征
- 2012年
- 利用热重分析(TG)对化学溶液法前驱体混合物的热分解过程进行研究,确定了预分解温度;利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对金属有机沉积法(MOD)合成的La2CuMnO6薄膜的相组成和形貌结构进行了表征。结果表明,选择合适的前驱体La(CH3COO)3.1.5H2O、Cu(CH3COO)2.1.0H2O、Mn(CH3COO)2.4.0H2O,在1000℃、保温时间3h、SrTiO3(STO)(100)、Ar-4%H2气氛及总离子浓度1.0mol/L的工艺条件下制备的La2CuMnO6薄膜具有很好的c轴织构,薄膜表面较平整、均匀、无裂纹、无孔洞,分布均匀且排列致密,完全满足缓冲层对薄膜的要求。
- 马高峰雷宁张国防郭金亮白宏斌冯宝奇卢亚峰李成山闫果
- 化学溶液沉积法La_2CuMnO_6缓冲层薄膜的制备与结构表征
- 2011年
- 根据镧、铜及锰盐在不同溶剂中的溶解性,选择合适的溶剂及镧、铜及锰盐为前驱体,配制成前驱溶液进行润湿性、稳定性及不同衬底热处理实验,成功筛选出制备La2CuMnO6(LCMO)缓冲层薄膜的前驱体,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对化学溶液沉积法(CSD)合成的La2CuMnO6薄膜的相组成和形貌结构进行了表征。结果表明,选择合适的前驱体(La(CH3COO)3·1.5H2O、Cu(CH3COO)2·1.0H2O、Mn(CH3COO)2·4.0H2O)及SrTiO3(STO)(100)衬底,在1000℃、保温时间3h、空气气氛及总离子浓度为1.0mol/L工艺条件下制备的La2CuMnO6薄膜具有很好的c轴织构,薄膜表面较平整、均匀、无裂纹、无孔洞,分布均匀且排列致密,完全满足缓冲层对薄膜的要求。
- 马高峰雷宁张国防卢亚峰郗大来白宏斌王炳旭冯宝奇
- 关键词：化学溶液沉积法衬底
- 化学溶液法制备La_2NiMnO_(6+δ)及其结构表征
- 2009年
- 分别利用固态反应法和化学溶液法制备了La2NiMnO6+δ氧化物块材。利用热重分析(TG)对化学溶液法前驱体混合物的热分解过程进行了研究;利用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对2种方法合成的La2NiMnO6+δ氧化物的相组成和形貌结构进行了表征。结果表明,选择合适的前驱体(La(NO3)3、Ni(NO3)2、Mn(CH3COO)2),利用化学溶液法可以在较低温度和较短时间热处理得到单相的La2NiMnO6+δ氧化物,其晶粒平均尺寸约为200nm。
- 张小玲张成孝张国防刘国庆李成山闫果卢亚锋
- 关键词：化学溶液法
- 双钙钛矿型La2CuMnO6的化学溶液法合成和结构表征被引量：2
- 2009年
- 利用化学溶液法制备了La2CuMnO6氧化物粉体和块材,并与固态反应法所制得的样品作了比较。利用热重分析(TG)对化学溶液法前驱体混合物的热分解过程进行研究,确定了预分解温度;利用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对两种方法合成的La2CuMnO6氧化物的相组成和形貌结构进行了表征。结果表明,选择合适的前驱体La(CH3COO)3.1.5H2O、Cu(CH3COO)2.1.0H2O、Mn(CH3COO)2.4.0H2O,利用化学溶液法可以在较低温度和较短时间热处理得到单相的La2CuMnO6氧化物,其晶粒平均尺寸约为200nm。
- 马高峰张国防杨伟波李成山阎果卢亚锋
- 关键词：化学溶液法
- 立方织构Ni/Cu双金属基带制备(英文)
- 2011年
- 对在铜带上沉积Ni层过程中,电化学参数对Ni层立方织构形成的影响进行了研究。研究结果显示:只有当阴极电位足够低、镀液pH值在3到4之间时,Ni层才具有立方织构。电化学参数对Ni层立方织构形成的影响可以用几何选择理论进行解释。最后,对Ni层立方织构的热稳定性也进行了研究。
- 于泽铭Odier POrtega L周廉张平祥卢亚锋金利华李成山刘向宏
- 关键词：电沉积立方织构涂层导体
- 化学溶液沉积法制备涂层导体阻隔层用钨盐前驱体的制备和筛选
- 2008年
- 制备了[(n-C_4H_9)_4N]_2[W_6O_(19)]、过氧钨酸衍生物(APTA)和[(n-C_8H_(17))_2NH_2]_2[W_4O_(13)]3种有机钨盐,研究了这几种盐在不同溶剂中的溶解性、溶液的稳定性以及在钇稳定氧化锆(YSZ)基片上的润湿性。研究发现:[(n-C_8H_(17))_2NH_2]_2[W_4O_(13)]在丙酸中具有溶解性良好、溶液稳定性高及润湿性好的特点,而且与其它金属盐前驱体在丙酸中的配伍性好。因此,选择[(n-C_8H_(17))_2NH_2]_2[W_4O_(13)]作为钨盐的前驱体,使我们尝试用化学溶液沉积法制备涂层导体的钨基双钙钛矿薄膜阻隔层成为可能。
- 杨伟波张国防马高峰李成山阎果卢亚锋
- 关键词：化学溶液沉积法
