北京市科技新星计划(2007B049)
- 作品数：1 被引量：26H指数：1
- 相关作者：杨文斌王凤新郝仲勇更多>>
- 相关机构：北京市水科学技术研究院中国农业大学更多>>
- 发文基金：北京市科技新星计划更多>>
- 相关领域：农业科学更多>>
- 不同灌水下限对温室茼蒿生长和产量的影响被引量：26
- 2011年
- 该文采用15cm深处土水势为茼蒿的控制灌水下限,研究在模拟微喷条件下控制灌水下限对温室茼蒿生长和产量的影响。共设6个处理,灌水下限分别是-10kPa(T1),-15kPa(T2),-20kPa(T3),-25kPa(T4),-30kPa(T5)和-40kPa(T6)。结果表明,不同的灌水下限对茼蒿产量的影响显著,灌水下限为控制在-15kPa是产量最高,分别比其他处理增加了0.5%,18.7%,62.6%,73.4%,71.7%,在整个生育期灌水量为195mm,比与其产量相近的T1处理节水56.4%。T2处理的株高和生长速率在生长后期与T1无差异。灌水下限低于-25kPa,水分亏缺严重,影响出苗,不利于茼蒿生长。以-15kPa土水势作为控制灌水下限,有利于茼蒿生长,可以达到高产、节水的目的。
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- 关键词：温室灌溉茼蒿灌水量灌水下限
