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国际科技合作与交流专项项目(2005DFBA028)

作品数:11 被引量:107H指数:5
相关作者:宋晓岚邱冠周屈一新徐大余江楠更多>>
相关机构:中南大学北京化工大学更多>>
发文基金:国际科技合作与交流专项项目国家大学生创新性实验计划国家大学生创新性实验计划项目更多>>
相关领域:一般工业技术电子电信环境科学与工程理学更多>>

文献类型

  • 11篇中文期刊文章

领域

  • 5篇一般工业技术
  • 3篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇环境科学与工...
  • 1篇理学

主题

  • 2篇色料
  • 2篇抛光
  • 2篇纳米
  • 2篇化学机械抛光
  • 2篇机械抛光
  • 2篇浆料
  • 2篇光致
  • 2篇包裹色料
  • 2篇X
  • 1篇氮氧化物
  • 1篇电化学
  • 1篇动力学
  • 1篇多孔硅
  • 1篇氧化硫
  • 1篇氧化铈
  • 1篇数学模型
  • 1篇水热
  • 1篇水热合成
  • 1篇体硅
  • 1篇抛光粉

机构

  • 11篇中南大学
  • 3篇北京化工大学

作者

  • 11篇宋晓岚
  • 7篇邱冠周
  • 3篇屈一新
  • 3篇徐大余
  • 2篇江楠
  • 2篇张晓伟
  • 2篇喻振兴
  • 2篇彭林
  • 2篇刘宏燕
  • 2篇程蕾
  • 2篇丁意
  • 2篇杨海平
  • 1篇张颖
  • 1篇岳汉威
  • 1篇何希
  • 1篇王顺葵
  • 1篇李媚
  • 1篇喻振新
  • 1篇李宇琨
  • 1篇李宇焜

传媒

  • 2篇材料导报
  • 2篇中南大学学报...
  • 1篇现代化工
  • 1篇稀土
  • 1篇硅酸盐学报
  • 1篇化工进展
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇材料工程
  • 1篇稀有金属与硬...

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 4篇2008
  • 2篇2007
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
活性炭在防治大气污染方面的应用研究与展望被引量:12
2011年
作为一种优良的吸附剂,活性炭在防治气体污染物方面得到了广泛应用。结合国内外相关研究进展,评述了活性炭的结构性能及在大气污染中的应用。分析表明,大量的微孔可提供充足的活性位,有利于活性炭吸附分子直径较小的气体污染物。同时,阐述了其现状及发展前景,指出利用废弃物制备活性炭意义重大。
宋晓岚张颖程蕾丁意常彩民
关键词:活性炭孔隙二氧化硫氮氧化物
多孔硅发光材料研究进展被引量:1
2008年
综述了多孔硅的制备方法、形成机理和多孔硅的光致发光机制,以及为改善多孔硅的发光特性而采取的一些措施,最后概述了多孔硅发光材料的应用。
宋晓岚徐大余张晓伟屈一新喻振新邱冠周
关键词:多孔硅光致发光
纳米SiO_2浆料中半导体硅片的电化学腐蚀研究被引量:1
2008年
采用电化学直流极化和交流阻抗技术,研究了n型(111)半导体硅片在不同条件纳米SiO2浆料中的电化学腐蚀性能。结果表明,浆料的pH值、温度、磨粒固含量以及金属杂质离子等因素都不同程度地影响硅片的腐蚀行为。随pH值增加、温度提高和磨粒固含量降低,其腐蚀电流增大,交流阻抗减小,硅片腐蚀较易进行;微量金属杂质离子的存在也会加速硅片的腐蚀。
宋晓岚刘宏燕杨海平岳汉威邱冠周
关键词:电化学
沉淀法合成的纳米CeO_2前驱体的热分解动力学被引量:7
2007年
以Ce(NO3)3.6H2O为铈源,(NH4)2 CO3.H2O为沉淀剂,加入少量PEG4000作为分散剂,采用化学沉淀法并经水洗、超声波醇洗,70℃干燥后得到CeO2的前驱体Ce2(CO3)3.H2 O。对Ce2(CO3)3.H2 O样品运用差示/热重分析(DSC/TG)和X射线衍射(XRD)方法进行其热分解过程研究,并通过多重速率扫描法记录样品在不同升温速率下的DSC/TG曲线,采用Kissinger-Akahira-Sunose(KAS)法和Coats-Redfern法进一步研究Ce2(CO3)3.H2 O的热分解动力学。研究结果表明:Ce2(CO3)3.H2 O热分解反应过程分2步进行,主要反应阶段的反应动力学参数是:反应活化能为105.51 kJ/mol,反应级数为2,频率因子为3.61;由此推断出可能的Ce2(CO3)3.H2 O热分解机理函数为Anti-Jander方程,受三维扩散机制控制。
宋晓岚何希杨海平徐大余江楠邱冠周
关键词:纳米CEO2热分解动力学化学沉淀法
二氧化铈浆料抛光机理的研究进展被引量:5
2012年
由于具有抛光速率快、选择性好、自动停止等特点,二氧化铈浆料被广泛用于材料的表面抛光处理,但抛光机理研究的相对滞后严重制约其物化改性和推广。针对这一现状,本文介绍了二氧化铈浆料抛光过程中的物理作用及化学作用,总结了化学机械抛光机理,并对今后研究方向提出了展望。
刘军宋晓岚
关键词:二氧化铈化学机械抛光
n型多孔硅的制备及其光致发光性能被引量:1
2010年
采用双槽电化学腐蚀法于光照条件下在n型单晶硅片衬底上制备多孔硅(n-PS);在室温下,采用500~700 nm范围内荧光光谱和扫描电镜(SEM)测试系统研究光照、腐蚀时间、电解液含量、腐蚀电流密度及单晶硅掺杂含量等对n-PS的形成、结构形貌和光致发光性能(PL)的影响。研究结果表明,通过光照,能获得具有均匀孔分布和良好发光特性的n-PS,在约600 nm处产生较强荧光峰;随腐蚀时间、HF含量和电流密度增加,PL峰位先发生蓝移,而后又出现红移;PL发光性能呈先增强后减弱变化趋势,分别在腐蚀时间为20 min、HF含量为6%和电流密度为60 mA/cm2时峰强出现极大值;而提高掺杂含量,PL性能降低。
宋晓岚喻振兴程蕾吴长荣张泰隆邓大宝
关键词:光照条件光致发光性能
P型单晶硅片在KOH溶液中腐蚀行为的电化学研究被引量:4
2008年
采用电化学极化测量技术研究了p(100)和p(111)硅片在碱性KOH溶液中的腐蚀行为,考察了KOH溶液浓度、温度和硅片表面缝隙等因素对腐蚀行为的影响。结果表明:在室温下当KOH浓度为5~6mol/L时硅片腐蚀速率最大;随着KOH腐蚀液温度增加,腐蚀速率增大,在50℃左右腐蚀速率增加显著;硅片表面缝隙会加剧硅的局部腐蚀,在同等实验条件下缝隙腐蚀速率比均匀腐蚀快一个数量级。
宋晓岚张晓伟徐大余喻振兴邱冠周
关键词:极化曲线
CeO_2抛光粉粒度对抛光效果的影响及其数学模型的研究进展被引量:3
2013年
介绍了CeO2抛光粉粒度的测定方法,综述了该抛光粉粒度对抛光效果的影响及其数学模型的研究进展,并指出了该抛光粉在抛光应用中存在的问题及未来的研究方向。
刘军宋晓岚
关键词:粒度粒度分布抛光数学模型
化学机械抛光技术研究进展被引量:58
2008年
通过回顾化学机械抛光技术的发展历史,概述了化学机械抛光作用机制与实际应用情况,着重阐述了几种重要抛光浆料(如CeO2、SiO2、Al2O3抛光浆料)的优缺点、抛光机理及其国内外新近制备方法,进一步展望了化学机械抛光技术的发展前景与新型抛光浆料的开发方向。
宋晓岚李宇焜江楠屈一新邱冠周
关键词:化学机械抛光
ZrSiO_4/Cd(S_(1–x)Se_x)包裹色料的水热合成(英文)被引量:15
2009年
采用水热法成功合成了ZrSiO4/Cd(S1–xSex)包裹色料,通过X射线衍射、透射电子显微镜、红外光谱及色度测试研究了合成条件对色料性能的影响。结果表明:当水热反应温度为180℃,保温时间为10h,ZrSiO4/Cd(S1–xSex)=2时,色料具有较好的结晶度和色度,粒子细小且均匀,其尺寸分布为20~30nm。
宋晓岚彭林丁意李媚王顺葵屈一新邱冠周
关键词:包裹色料水热合成
共2页<12>
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