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中国科学院知识创新工程重要方向项目(KGCX1-Y-8)

作品数:6 被引量:7H指数:2
相关作者:顾文琪方光荣刘伟刘珠明刘伟更多>>
相关机构:中国科学院山东理工大学更多>>
发文基金:中国科学院知识创新工程重要方向项目更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 5篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 3篇电子束曝光
  • 3篇电子束曝光机
  • 3篇图形发生器
  • 3篇曝光机
  • 1篇动态校正
  • 1篇信号
  • 1篇信号处理
  • 1篇硬件
  • 1篇硬件设计
  • 1篇优化设计
  • 1篇数字信号
  • 1篇数字信号处理
  • 1篇偏转
  • 1篇偏转器
  • 1篇偏转系统
  • 1篇纳米
  • 1篇接口
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻技术
  • 1篇TMS320...

机构

  • 5篇中国科学院
  • 2篇山东理工大学

作者

  • 4篇顾文琪
  • 2篇刘珠明
  • 2篇方光荣
  • 2篇刘伟
  • 1篇赵艳雷
  • 1篇郭颖
  • 1篇李艳秋
  • 1篇方光荣
  • 1篇魏淑华
  • 1篇刘伟

传媒

  • 3篇微细加工技术
  • 1篇半导体技术
  • 1篇微计算机应用
  • 1篇光电工程

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2006
  • 2篇2005
  • 2篇2004
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
图形发生器的成像系统被引量:2
2006年
为实现电子束曝光机扫描场的线性畸变校正,设计了图形发生器的成像系统,该系统包括硬件和软件两部分。硬件设计上使用了高速、高精度模数转换器,并对其工作方式及图像采集流程做了具体阐述。软件设计上利用点阵成像的原理,把采集到的图像信号转变成相应的灰度值,并按点阵排列,将最终获得的图像显示在计算机屏幕上,以实现校正。同时还给出了对图像进行局部放大的方法及计算公式。实验证明,该成像系统工作正常,可以获得清晰的图像。
刘伟魏淑华方光荣顾文琪
关键词:图形发生器
纳米级电子束曝光机用图形发生器被引量:4
2005年
为满足纳米级电子束曝光系统的要求,设计了高速图形发生器。该图形发生器包括硬件和软件两部分。硬件方面主要是利用高性能数字信号处理器(DSP)将要曝光的单元图形拆分成线条和点,然后通过优化设计的数模转换电路,将数字量转化成高精度的模拟量,驱动扫描电镜的偏转器,实现电子束的扫描。通过图形发生器还可以对标准样片进行图像采集以及扫描场的校正。配合精密定位的工件台和激光干涉仪,还可以实现曝光场的拼接和套刻。利用配套软件可以新建或导入通用格式的曝光图形,进行曝光参数设置、图形修正、图形分割、临近效应修正等工作,完成曝光图形的准备。结果表明,该图形发生器能够与整个纳米级电子束曝光系统协调工作,刻画出纳米级的图形。
刘伟方光荣顾文琪
关键词:图形发生器电子束曝光机纳米
TI6x DSP系统上USB2.0接口的开发
2007年
DSP系统处理的数据量越来越大,急需与主机间高速便捷的接口,USB接口以其480Mbit/s的传输速率及便捷的使用方法,成为不二选择。但USB协议本身异常复杂,应用系统开发难度较高。介绍了USB接口的开发,重点说明了系统硬件结构,叙述了固件程序、嵌入程序的工作流程,最后展示了主机程序的运行界面。实验表明在DSP系统上开发的USB2.0接口可以稳定地工作。
刘伟赵艳雷
关键词:USB2.0接口DSP
基于TMS320C6713的电子束曝光机图形发生器的硬件设计
2005年
提出了一套功能较为完备的新型扫描电子束曝光机图形发生器的硬件设计方案。方案采用TMS320C6713 芯片作为核心单元,并由USB2.0 接口电路、存储器扩展电路、标记检测控制电路、曝光控制电路和束闸控制电路构成。方案具有数据处理能力强、速度快、接口方便等优势,克服了传统图形发生器单纯依靠软件完成、速度慢、精度低、工作不稳定的缺点。
郭颖方光荣
关键词:电子束曝光机图形发生器数字信号处理
DY-2001A型纳米级电子束曝光机中静电偏转器的设计
2004年
基于纳米曝光要求和JSM-35CF型扫描电镜,设计了一组上下偏转器长度不一致的静电偏转器,使偏转灵敏度大大提高。采用二阶有限元法计算了八极静电偏转器的轴上场分布。高精度的场分布有利于高级像差。为了使系统的总体像差最小,结合具体电子光学系统,用最小二乘法对偏转器的激励强度、转角及其在系统中的位置进行优化,得到直至五级分量的像差。动态校正后,偏转场为80μm×80μm时,束斑分辨率约为3.2nm;偏转场大小为1mm×1mm时,束斑分辨率约为29.8nm。结果表明,应用该组静电偏转器的电子光学系统的分辨率满足纳米曝光的要求。
刘珠明顾文琪李艳秋
关键词:光刻技术
电子束曝光机的偏转系统被引量:1
2004年
电子束曝光机的偏转系统控制电子束偏转扫描。像差低、偏转灵敏度高、扫描速度快是它的基本要求。对各种偏转器、偏转方式进行分析、比较,从偏转器空间场的数值计算方法、偏转系统的优化、像差校正、偏转器制作工艺、电气参数等方面阐述设计过程和工程实现上一些值得注意的问题。综合考虑偏转器和偏放电路的设计可以得到最优性能的系统。
刘珠明顾文琪
关键词:偏转器优化设计动态校正电子束曝光机
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