山东省自然科学基金(ZR2009GL015)
- 作品数：17 被引量：55H指数：5
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- 材料色散对渐变结构一维光子晶体带隙的影响被引量：3
- 2011年
- 运用传输矩阵方法及对色散材料采用洛伦兹振子模型,研究了由色散材料构成的介质层厚度为渐变结构的一维光子晶体的带隙特性,并与不考虑材料色散时的光子带隙进行了比较。计算结果表明,考虑色散后的光子带隙既可能变窄也可能增宽,即可能发生红移也可能发生蓝移。光子带隙的改变与色散材料的色散强度和谐振频率及色散前后两介质材料折射率相关。此外,介质材料折射率的变化形式对光子带隙也存在一定的影响。这些为相关光子器件的设计提供了参考。
- 武继江
- 关键词：带隙特性传输矩阵法光子晶体材料色散
- 不同衬底沉积Ti-Al共掺杂ZnO薄膜的性能对比研究被引量：6
- 2011年
- 利用直流磁控溅射法,在玻璃衬底和Si片衬底上分别沉积出了Ti-Al共掺杂ZnO透明导电薄膜(TAZO),并对这两种衬底上的薄膜的应力、结构和光电性能进行了对比研究。结果表明:玻璃衬底和Si片衬底上沉积的TAZO薄膜均为具有c轴择优取向的六角纤锌矿结构多晶薄膜,Si片衬底的TAZO薄膜的导电性能优于玻璃衬底上的TAZO薄膜,53 min沉积出的两种衬底上的TAZO薄膜都具有最小电阻率,Si片衬底上薄膜的最小电阻率为5.07×10-4Ω.cm,玻璃衬底上薄膜的最小电阻率为5.48×10-4Ω.cm;玻璃衬底上的TAZO薄膜的应力小于Si片衬底上TAZO薄膜的应力。玻璃衬底上沉积TAZO薄膜样品的可见光透过率均大于90%,两种衬底上沉积TAZO薄膜的折射率都在2.0左右。
- 刘汉法秦华杨家猛
- 关键词：磁控溅射光电性能应力
- 溅射压强对低阻高透过率掺钛氧化锌透明导电薄膜的影响被引量：12
- 2010年
- 利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了高质量的掺钛氧化锌透明导电薄膜(ZnO:Ti)。研究了溅射压强对ZnO:Ti薄膜结构、形貌和光电性能的影响。研究结果表明,溅射压强对ZnO:Ti薄膜的结构和电阻率有显著影响。X射线衍射(XRD)表明,ZnO:Ti薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。在溅射压强为5.0Pa时,实验获得的ZnO:Ti薄膜电阻率最小值为1.084×10-4Ω.cm。实验制备的ZnO:Ti薄膜具有良好的附着性能,可见光区平均透过率超过91%。ZnO:Ti薄膜可以用作薄膜太阳能电池和液晶显示器的透明电极。
- 刘汉法袁玉珍张化福袁长坤
- 关键词：透明导电薄膜溅射压强磁控溅射
- 直流磁控溅射法制备高品质钛铝共掺杂氧化锌透明导电薄膜
- 2011年
- 利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上成功制备出高品质的钛铝共掺杂氧化锌(TAZO)透明导电薄膜。XRD研究结果表明,TAZO薄膜为具有c轴择优取向的六角纤锌矿结构的多晶薄膜,偏压为-20V时制备的厚度为365nm的薄膜的方块电阻为10.15Ω/□,最小电阻率为3.70×10^(-4)Ω·cm,所有薄膜样品在500～800nm的可见光平均透过率都超过了92%。
- 袁文峰王振环
- 关键词：透明导电薄膜偏压
- 薄膜厚度对TGZO透明导电薄膜光电性能的影响被引量：7
- 2011年
- 利用直流磁控溅射法,在室温水冷玻璃衬底上成功制备出了可见光透过率高、电阻率低的钛镓共掺杂氧化锌（TG-ZO）透明导电薄膜。X射线衍射和扫描电子显微镜研究结果表明,TGZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。研究了厚度对TGZO透明导电薄膜电学和光学性能的影响,结果表明厚度对薄膜的光电性能有重要影响。当薄膜厚度为628 nm时,薄膜具有最小电阻率2.01×10-4Ω.cm。所制备薄膜在波长为400~760 nm的可见光中平均透过率都超过了91%,TGZO薄膜可以用作薄膜太阳能电池和液晶显示器的透明电极。
- 刘汉法张化福王振环
- 关键词：透明导电薄膜磁控溅射厚度
- 溅射功率对直流磁控溅射法沉积TGZO薄膜性能的影响被引量：3
- 2010年
- 利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了高质量的钛镓共掺杂氧化锌(TGZO)透明导电薄膜。研究了溅射功率对TGZO薄膜结构、形貌和光电性能的影响。研究结果表明:溅射功率对TGZO薄膜的结构和电阻率有重要影响。X射线衍射分析表明,TGZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。在溅射功率为120W时,实验获得的TGZO薄膜的方块电阻为2.71Ω/□,此时电阻率具有最小值2.18×10-4Ω·cm。实验制备的TGZO薄膜在可见光区范围内平均透过率达到了90%以上。
- 史晓菲郭美霞刘汉法王新峰
- 关键词：透明导电薄膜溅射功率磁控溅射
- 低电阻率高透过率TAZO透明导电膜的制备及性能被引量：1
- 2010年
- 利用直流磁控溅射工艺,在水冷玻璃衬底上制备了透过率高、电阻率相对较低的钛铝共掺杂ZnO(TAZO)透明导电膜。用XRD和SEM等研究其结构、应力和光电性能与靶基距之间的关系。结果表明:TAZO薄膜为六方纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。当靶基距为42mm时,薄膜样品晶格畸变最小,具有最小压应力(绝对值)0.270GPa,同时具有最小方块电阻4.21?/□;靶基距为48mm时,薄膜样品具有最小电阻率3.09×10–4?·cm。所有薄膜样品的可见光区平均透过率都超过了91%。
- 史晓菲郭美霞
- 关键词：透明导电膜磁控溅射
- 掺杂比对掺钛氧化锌薄膜结构和光学性能的影响被引量：5
- 2012年
- 利用直流磁控溅射工艺,在室温水冷玻璃衬底和PET衬底上成功制备出了不同掺杂比的掺钛氧化锌(TZO,ZnO:Ti)薄膜.通过X射线衍射谱(XRD)研究了薄膜的结构,用四探针对薄膜的方阻进行了测量,用紫外-可见分光光度计和红外傅里叶变换光谱仪等仪器对薄膜的光学性能进行测试分析,研究了掺杂比对TZO薄膜结构和光学性能的影响.实验结果显示,所制备不同掺杂比的TZO薄膜均为具有C轴择优取向的六角纤锌矿结构的多晶薄膜,掺杂比对TZO薄膜的光学性能有显著的影响,制备的TZO薄膜的平均折射率在2.01左右.
- 刘汉法孙坤峰秦佑杰
- 关键词：红外光谱晶体结构磁控溅射
- 钛铝共掺杂氧化锌和钛掺杂氧化锌透明导电薄膜的制备与性能对比研究被引量：4
- 2010年
- 利用直流磁控溅射法,在相同实验条件下成功沉积出了钛掺杂氧化锌(TZO)透明导电薄膜和钛铝共掺杂氧化锌(TAZO)透明导电薄膜,并对两种薄膜的结构、应力和光电性能进行了对比研究。结果表明:两种薄膜均为具有c轴择优取向的六角纤锌矿结构多晶薄膜;TAZO薄膜的导电性能优于TZO薄膜,100 W溅射功率下制备的TZO薄膜的电阻率具有其最小值5.17×10-4Ω.cm,而相同功率下TAZO薄膜的电阻率为3.88×10-4Ω.cm;同时TAZO薄膜的光学性能也优于TZO薄膜,所有TAZO薄膜样品的可见光透过率均大于91%,而TZO薄膜的可见光透过率均大于85%。
- 刘汉法郭庆生
- 关键词：磁控溅射光电性能
- 衬底温度对直流磁控溅射法沉积ZnO∶Ti薄膜性能的影响被引量：13
- 2011年
- 利用直流磁控溅射工艺,在石英玻璃衬底上沉积出了具有高度C轴择优取向的掺Ti氧化锌(ZnO∶Ti,TZO)透明导电薄膜。研究了衬底温度对TZO薄膜应力、结构和光电性能的影响。结果表明,衬底温度对TZO薄膜的结构、应力和电阻率有重要影响。TZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜。在衬底温度为100℃时,实验获得的TZO薄膜电阻率具有最小值2.95×10-4Ω.cm,400℃时薄膜出现孪晶,随着温度的升高,薄膜应力具有减小的趋势。实验制备的TZO薄膜附着性能良好,可见光区平均透过率都超过91%。
- 刘汉法张化福郭美霞史晓菲周爱萍
- 关键词：透明导电薄膜衬底温度磁控溅射
