山东省自然科学基金(ZR2009AL017)
- 作品数：2 被引量：8H指数：2
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- 膜厚对柔性ZnO∶Ga透明导电薄膜结构和电学性能的影响被引量：2
- 2012年
- 室温下采用直流磁控溅射法在PI衬底上制备出具有优异光学性能的ZnO∶Ga透明导电薄膜.研究结果表明,制备了具有C轴择优取向的六角纤锌矿结构的多晶GZO透明导电薄膜.讨论了薄膜厚度对PI衬底上制备ZnO∶Ga薄膜的结构、表面形貌和电学性质的影响.实验数据表明,一定同质缓冲层可有效降低薄膜应力,改善薄膜性能,所得GZO薄膜厚度为129nm时,电阻率具有最小值3.2×10-4Ω.cm.
- 袁玉珍吴晓丽
- 关键词：柔性衬底直流磁控溅射透明导电薄膜
- 溅射功率对Zr,Al共掺杂ZnO薄膜结构和性能的影响被引量：6
- 2010年
- 室温下,采用直流磁控溅射法,在载玻片衬底上制备出了Zr,Al共掺杂ZnO(AZZO)透明导电薄膜。研究了溅射功率对薄膜的组织结构、表面形貌和光电学性能的影响。结果表明,制备的AZZO透明导电薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。当溅射功率为150W时,薄膜电阻率达到最小值1.66×10–3Ω·cm,在可见光区平均透过率超过93%。
- 袁玉珍王辉刘汉法张化福刘云燕
- 关键词：磁控溅射ZNO溅射功率透明导电薄膜
