国家自然科学基金(30400109)
- 作品数：4 被引量：93H指数：4
- 相关作者：冷永祥黄楠杨文茂孙鸿刘艳文更多>>
- 相关机构：西南交通大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金四川省青年科技基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学更多>>
- The investigation of the influence of the magnetic field distribution on the films properties for unbalance magnetron sputtering
- The magnetic field distribution of the unbalance magnetron sputtering could be changed to extend the plasma ar...
- F.Qi
- 非平衡磁控溅射沉积Ta-N薄膜的结构与电学性能研究被引量：13
- 2006年
- 采用直流反应非平衡磁控溅射技术在单晶Si（100）和玻璃表面沉积氮化钽（Ta-N）薄膜。分别测试了薄膜的结构、成分、电阻率和吸收光谱，研究了氯氩流量比（N2：Ar）变化对Ta—N薄膜的结构和电学性能的影响。研究结果表明随N2：Ar增加，依次生成六方结构的γ-Ta2N、面心立方结构（fcc）的δ-TaNx体心四方结构（bct）的TaNx；N2：Ar在0．2～0．8的范围内，Ta—N薄膜中只存在着fcc δ-TaNx；当N2：Ar〉1之后，Ta—N薄膜中fCC δ-TaN，和bct TaNx共存。Ta—N薄膜电阻率随N2：Ar流量比增加持续增加，当N2：Ar为1．2时，薄膜变为绝缘体，光学禁带宽度为1．51eV。
- 杨文茂张琦陶涛冷永祥黄楠
- 关键词：非平衡磁控溅射反应溅射XRD
- 溅射沉积技术的发展及其现状被引量：68
- 2005年
- 论述了溅射沉积薄膜技术的发展历程及其目前的研究应用状况。二极溅射应用于薄膜制备,揭开了溅射沉积技术的序幕,磁控溅射促使溅射沉积技术进入实质的工业化应用,并通过控制磁控靶磁场的分布方式和增加磁控靶数量,进一步发展为非平衡磁控溅射、多靶闭合式非平衡磁控溅射等,拓宽了应用范围。射频、脉冲电源尤其是脉冲电源在溅射技术中的使用极大地延伸了溅射沉积技术的应用范围。
- 杨文茂刘艳文徐禄祥冷永祥黄楠
- 关键词：溅射沉积磁控溅射非平衡磁控溅射
- 工业纯铁等离子体注入与氮化工艺及其性能研究被引量：7
- 2008年
- 采用低电压高频率脉冲等离子体浸没离子注入与氮化技术在工业纯铁上进行氮离子注入及氮化强化处理,研究了不同脉冲宽度下,工业纯铁等离子体浸没离子注入与氮化处理的结构及性能。通过X射线衍射谱(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、显微硬度、销-盘磨损实验,研究了工业纯铁氮离子注入及氮化后的结构、断面组织、表面元素含量、显微硬度、摩擦磨损性能;通过电化学极化方法在0.9%NaCl溶液研究了改性层的耐腐蚀性。研究结果表明:氮等离子注入及氮化后能显著提高纯铁表面的显微硬度、耐磨性和耐腐蚀性能,且表面形成结构为Fe3N和Fe4N的针状组织,针状组织是提高纯铁性能的关键因素;高脉冲宽度下进行等离子注入及氮化有利于提高纯铁表面的机械性能和耐腐蚀性能。
- 陈畅子冷永祥孙鸿朱生发白彬张鹏程黄楠
- 关键词：工业纯铁等离子体浸没离子注入脉冲宽度摩擦磨损性能耐腐蚀性
- Ti和TiO_2薄膜在血管支架表面附着状况的研究被引量：6
- 2006年
- 采用非平衡磁控溅射法在316L不锈钢制成的血管支架表面制备Ti以及TiO2薄膜,初步研究了Ti薄膜厚度、TiO2薄膜沉积速率对薄膜在血管支架表面附着状况的影响。结果表明,支架表面较薄的Ti薄膜附着状况较厚的Ti薄膜好;低沉积速率制备的TiO2薄膜在支架表面附着状况好于高沉积速率制备的TiO2薄膜;对于Ti/TiO2复合薄膜,Ti层厚度过大不利于Ti/TiO2复合薄膜在支架表面附着。
- 王志浩冷永祥孙鸿黄楠
- 关键词：血管支架表面改性磁控溅射
