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国家高技术研究发展计划(2002AA404170)

作品数:2 被引量:9H指数:2
相关作者:汤儆田中群刘品宽田昭武刘柱方更多>>
相关机构:哈尔滨工业大学厦门大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 2篇约束刻蚀剂层...
  • 2篇刻蚀
  • 1篇微加工
  • 1篇微系统
  • 1篇微系统技术
  • 1篇金属
  • 1篇金属铜
  • 1篇
  • 1篇CELT

机构

  • 2篇哈尔滨工业大...
  • 2篇厦门大学

作者

  • 2篇孙立宁
  • 2篇蒋利民
  • 2篇刘柱方
  • 2篇田昭武
  • 2篇刘品宽
  • 2篇田中群
  • 2篇汤儆
  • 1篇张力

传媒

  • 1篇电化学
  • 1篇应用化学

年份

  • 2篇2004
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
镍表面三维微图形的复制加工被引量:3
2004年
 运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工,以规整的三维齿状微结构作模板,获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)表征刻蚀图案,证实CELT可用于金属表面Ni的三维微图形刻蚀加工.
刘柱方蒋利民汤儆张力田中群田昭武刘品宽孙立宁
关键词:约束刻蚀剂层技术微系统技术
金属铜表面的三维齿状图形的化学微加工被引量:9
2004年
运用约束刻蚀剂层技术 (CELT)在金属铜 (Cu)表面实现了三维微图形加工 ,取得成功的关键因素在于寻找到能对Cu进行有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系。采用规整的三维齿状结构为模板 ,在Cu表面得到了与齿状结构模板互补的三维微结构。采用扫描电子显微镜 (SEM )和原子力显微镜 (AFM )对所刻蚀图案进行表征 ,证实CELT可用于金属表面三维微图形的刻蚀加工。
刘柱方蒋利民汤儆刘品宽孙立宁田中群田昭武
关键词:金属铜
共1页<1>
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