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青岛化工学院等离子体表面技术研究所

作品数:43 被引量:199H指数:8
相关作者:谢雁田丰茹凤虎徐翔更多>>
相关机构:山东工业大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:山东省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术理学电子电信更多>>

文献类型

  • 38篇期刊文章
  • 5篇会议论文

领域

  • 26篇金属学及工艺
  • 8篇一般工业技术
  • 8篇理学
  • 6篇电子电信
  • 4篇化学工程
  • 2篇机械工程

主题

  • 13篇PCVD
  • 12篇氮化
  • 12篇氮化钛
  • 11篇涂层
  • 8篇等离子体
  • 8篇气相沉积
  • 7篇化学气相
  • 7篇化学气相沉积
  • 6篇等离子
  • 6篇等离子弧
  • 5篇金属
  • 4篇碳氮化钛
  • 4篇热等离子弧
  • 4篇合金
  • 3篇镀镍
  • 3篇硬膜
  • 3篇硬质
  • 3篇熔覆
  • 3篇金属表面
  • 3篇化学镀

机构

  • 43篇青岛化工学院
  • 2篇洛阳轴承研究...
  • 1篇山东工业大学

作者

  • 29篇彭红瑞
  • 26篇赵程
  • 24篇李世直
  • 22篇石玉龙
  • 12篇谢广文
  • 10篇谢雁
  • 6篇田丰
  • 3篇侯俊英
  • 2篇李建华
  • 1篇潘学民
  • 1篇徐翔
  • 1篇任志华
  • 1篇曲承林
  • 1篇边秀房
  • 1篇茹凤虎

传媒

  • 10篇青岛化工学院...
  • 5篇金属热处理
  • 4篇表面技术
  • 4篇真空科学与技...
  • 3篇真空电子技术
  • 2篇电镀与涂饰
  • 2篇微细加工技术
  • 2篇化工设备与防...
  • 1篇金属学报
  • 1篇功能材料
  • 1篇真空
  • 1篇电机电器技术
  • 1篇青岛科技大学...
  • 1篇表面工程
  • 1篇第四届全国表...
  • 1篇首届全国耐蚀...
  • 1篇第四届全国表...
  • 1篇首届全国耐蚀...

年份

  • 3篇2002
  • 4篇2001
  • 10篇2000
  • 3篇1999
  • 9篇1998
  • 5篇1997
  • 3篇1996
  • 2篇1995
  • 2篇1993
  • 1篇1992
  • 1篇1990
43 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
用PCVD法制备(TiAl)N膜的研究
1990年
本文介绍了在PCVD设备中用固态AlCl_3制备(TiAl)N膜。结果表明,(TiAl)N膜的含Al量与AlCl_3的蒸发温度成正比,但膜内Cl含量却无明显变化。(TiAl)N膜保持了TiN膜的面心立方晶体结构,但其晶格常数变小,织构变弱,组织略有细化。(TiAl)N膜的显微硬度略高于或等于TiN膜的硬度,但抗高温氧化性有较大幅度提高。
赵程彭红瑞李世直
射频等离子体化学气相沉积择优取向膜的研究被引量:3
1996年
用X-衍射的方法分析影响射频等离子体沉积择优取向的TIN膜,取向的原因。
谢雁李世直
关键词:射频等离子体
等离子体化学气相沉积反应中对温度因素的控制被引量:1
1996年
采用了外加热式直流等离子体化学气相沉积及渗金属工艺并在放电工件上直接测温的方法,克服了高于轰击加热引起的温度不均匀等因素并且膜的结构及力学性能得以改善。
谢雁赵程彭红瑞李世直
关键词:等离子体化学气相沉积放电测温离子轰击
MOPCVD制备Ti(CN)硬膜研究被引量:11
2000年
采用金属有机物四异丙基钛 (Ti[OC3 H7]4 )为钛源 ,在辅助加热PCVD设备上进行沉积Ti(CN)涂层研究。并对涂层进行了显微硬度测量、扫描电镜观察和X射线衍射分析。结果表明 ,此法制备的Ti(CN)涂层其显微硬度可达 15 6 80N/mm2 。Ti(CN)涂层仍为柱状晶结构 ,Ti(CN)晶体的d(2 0 0 )值随着炉温和氢、氮比的变化而变化。切削实验证明 ,6mm高速钢钻头经MOPCVD Ti(CN)涂镀后提高使用寿命 7 3倍 ;经MOPCVD Ti(CN)涂镀的6 5mm×2 2mm× 5mm直齿三面刃铣刀使用寿命是非涂镀的 8倍。
石玉龙彭红瑞李世直
关键词:碳氮化钛
化学镀镍磷合金镀液中杂质颗粒度对镀层耐蚀性的影响被引量:5
2000年
化学镀镍磷合金具有很多独特的理化性能 ,然而由于成本较高限制了其应用。为降低化学镀镍的成本 ,采用工业级药品配制镀液。研究了镀液中杂质颗粒度对镀层耐蚀性的影响。随着镀液中颗粒度的降低 ,镀层耐蚀性明显提高 ,说明化学镀对镀液中的杂质有较高的复合率 ,因此必须严格控制镀液中的杂质颗粒度。
谢广文石玉龙彭红瑞赵程
关键词:化学镀镍磷合金耐蚀性镀层镀液
气相沉积中电阻真空计的使用问题
1998年
本文叙述了气相沉积中使用电阻真空计遇到的一些问题及解决的方法。
石玉龙彭红瑞李世直
关键词:气相沉积真空计电阻真空计CVDPVD
气相中晶体生长与外延的方法被引量:1
1993年
介绍了气相中晶体生长的方法,如辉光放电溅射法和离子束溅射沉积法以及晶体外延生长的方法。
石玉龙
关键词:分子束外延化学气相沉积晶体生长
等离子弧金属表面熔覆处理的研究被引量:28
2002年
在钢的表面上用Ni基合金粉末进行等离子弧熔覆处理。试验结果表明 ,用优化后的等离子弧熔覆工艺可以在钢的表面获得致密、结合牢固和零稀释率的熔覆层。因此等离子弧熔覆处理是一种有发展前途。
赵程田丰侯俊英
关键词:等离子弧熔覆表面活性表面处理
PCVD法TiN、TiCN涂层工艺研究
1993年
研究了四氯化钛、氮气、甲烷通入量对 PCVD 法沉积 TiN、TiCN 涂层硬度、沉积速率以及颜色的影响,进行了磨损试验。结果表明,不同色泽的 TiN 膜中,以金黄色 TiN 涂层硬度最高,磨损量最小。
任志华徐翔董克学杨睫李世直
关键词:TIN涂层氮化钛
铝材表面的等离子微弧氧化技术研究被引量:48
2000年
以工业级硅酸钠为电解液,铝材在交流电压作用下进行等离子微弧氧化反应,电压升高,膜厚增大。用X- 射线衍射分析法和扫描电镜法检测,氧化膜为非晶态氧化铝陶瓷膜。硬度试验和腐蚀试验表明:该膜硬度高、耐强碱腐蚀性强。
石玉龙茹凤虎彭红端谢广文
关键词:硅酸钠电解
共5页<12345>
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