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罗门哈斯电子材料有限公司
作品数:
790
被引量:10
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相关机构:
陶氏环球技术有限公司
得克萨斯A&M大学系统
罗门哈斯电子材料韩国有限公司
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上海-AM基金
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相关领域:
电子电信
化学工程
金属学及工艺
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合作机构
陶氏环球技术有限公司
得克萨斯A&M大学系统
罗门哈斯电子材料韩国有限公司
安格斯化学公司
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作者
1篇
汪礼康
1篇
张卫
1篇
张立锋
1篇
徐赛生
1篇
曾磊
1篇
张玮
传媒
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2004’中...
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4篇
2022
2篇
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6篇
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26篇
2019
28篇
2018
50篇
2017
65篇
2016
108篇
2015
107篇
2014
78篇
2013
94篇
2012
73篇
2011
29篇
2010
23篇
2009
31篇
2008
31篇
2007
32篇
2006
1篇
2004
共
790
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电化学沉积铟复合物
本发明公开了电化学沉积铟复合物。该铟复合物包含具有一种或多种陶瓷材料的铟金属或铟合金,铟复合物具有高的体热导率。本发明也公开了含有该铟复合物的制品。
N·E·布雷斯
E·佐克斯
F·J·施瓦格
M·P·托本
M·W·贝斯
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面漆组合物和光刻方法
本发明提供的面漆组合物可以用于沉浸式光刻中以形成光抗蚀剂图形。所述面漆组合物包括溶剂系统,该溶剂系统包含1)由化学式(I)表示的第一有机溶剂,<Image file="DSA0000114419460000011.GIF...
刘骢
D·H·康
D·王
C-B·徐
李明琦
C·吴
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一种可固化助焊剂组合物和焊接方法
一种可固化助焊剂组合物和焊接方法。本发明提供一种可固化助焊剂组合物,包括,作为起始成分的:每分子具有至少两个环氧基团的树脂成分;式I代表的可固化助焊剂:其中R<Sup>1</Sup>,R<Sup>2</Sup>,R<Su...
D·D·弗莱明
M·K·贾伦杰
K·S·宏
M·R·温克勒
刘向前
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有机可焊性防腐剂和方法
一种有机可焊性防腐剂溶液,包括抑制金属腐蚀的吡嗪衍生物。该溶液施用到电子设备元件的金属表面,以改善电子设备中元件之间电连接的可焊性。
汤勤
唐洁豪
陈喆垚
M·W·贝叶斯
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改进的多晶织构组合物和方法
提供了一种用于织构多晶半导体的水溶性酸性组合物,其包括碱性化合物,氟化物离子和氧化剂。还提供了一种织构方法。织构后的多晶半导体具有减小的光入射反射率。
R·K·巴尔
C·欧康纳
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聚合物,光致抗蚀剂组合物和光刻图案的形成方法
本发明涉及聚合物,光致抗蚀剂组合物和光刻图案的形成方法。提供了用于形成光刻图案的聚合物和光致抗蚀剂组合物。还提供了以光致抗蚀剂组合物涂敷的基底和形成光刻图案的方法。所述组合物,方法和涂敷基底在半导体装置的制备中具有特殊的...
Y·C·裴
D·R·威尔森
孙纪斌
文献传递
电解铜镀液和电解铜镀覆方法
电解铜镀液和电解铜镀覆方法。提供一种不含有对环境有害的甲醛并且具有良好的孔填孔性能的铜电镀液。本发明的该铜电镀液包括具有‑X‑S‑Y‑结构和一个特殊脲衍生物的化合物,其中X和Y是分别选自氢原子、碳原子、硫原子、氮原子和氧...
齐藤睦子
酒井诚
水野阳子
森永俊幸
林慎二朗
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镓油墨及其制备和使用方法
本发明提供了一种镓油墨,该油墨包含以下物质作为起始组分:镓组分,其包含镓;稳定组分,所述稳定组分选自1,3-丙烷二硫醇,β-巯基乙醇、它们的类似物和它们的混合物;添加剂,所述添加剂选自:吡嗪;2-甲基吡嗪;3-甲基吡唑;...
D·莫斯利
D·索尔森
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在半导体上形成电流迹线的方法
公开了一种制造半导体电流迹线的方法。所述方法包括在涂覆半导体的二氧化硅或氮化硅层上选择性沉积包含松香树脂和蜡的热熔油墨抗蚀剂,随后使用无机酸刻蚀剂以刻蚀二氧化硅或氮化硅层未涂覆盖的部分以暴露半导体,并同时抑制热熔油墨抗蚀...
R·K·巴尔
董华
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与外涂的光致抗蚀剂一起使用的涂料组合物
与外涂的光致抗蚀剂组合物一起使用的底层涂料组合物。一方面,涂料组合物是可交联的,并包括一种或多种含有一种或多种对酸不稳定的基团和/或一种或多种碱反应基团的组分,这些基团随后进行交联反应。另一个方面,经处理底层涂料组合物可...
V·R·瓦拉
J·W·撒克里
G·B·韦顿
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