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长濑CMS科学技术株式会社

作品数:20 被引量:0H指数:0
相关机构:长濑产业株式会社株式会社平间理化研究所更多>>

文献类型

  • 20篇中文专利

主题

  • 9篇抗蚀剂
  • 8篇再生液
  • 8篇显影液
  • 7篇原液
  • 5篇再生方法
  • 4篇制造装置
  • 4篇水系
  • 4篇配管
  • 4篇劣化
  • 4篇光度计
  • 4篇光致
  • 4篇光致抗蚀剂
  • 4篇保护膜
  • 3篇制碱
  • 3篇显影
  • 3篇分子
  • 3篇分子量
  • 2篇电路
  • 2篇电子电路
  • 2篇有机膜

机构

  • 20篇长濑CMS科...
  • 20篇长濑产业株式...
  • 13篇株式会社平间...

年份

  • 2篇2007
  • 5篇2006
  • 3篇2005
  • 3篇2004
  • 5篇2003
  • 2篇2002
20 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
非水系保护膜剥离液管理装置及管理方法
按照本发明的非水系保护膜剥离液管理装置,是在调整槽内对在保护膜剥离设备中使用的非水系保护膜剥离液进行管理的非水系保护膜剥离液管理装置。在本装置中,在保护膜剥离处理槽(调整槽)中,通过管路将测定非水系保护膜剥离液中的MEA...
中川俊元片桐优子小川修森田悟菊川诚
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水系保护膜剥离液管理装置及水系保护膜剥离液管理方法
按照本发明的水系保护膜剥离液管理装置,是在调整槽内对在保护膜剥离设备中使用的水系保护膜剥离液进行管理的水系保护膜剥离液管理装置。在本装置中,在保护膜剥离处理槽(调整槽)中,通过管路将测定水系保护膜剥离液中的水分浓度的吸光...
中川俊元片桐优子小川修森田悟菊川诚
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抗蚀剂显像液中碳酸盐的除去方法、除去装置、及抗蚀剂显像液的浓度控制方法
本发明目的在于提供从含TMAH及碳酸盐的抗蚀剂显像液中除去碳酸盐的方法、装置及抗蚀剂显像液的浓度控制方法。本发明所述的抗蚀剂显像液中碳酸盐的除去方法包括利用NF膜过滤含TMAH及碳酸盐的抗蚀剂显像液的过滤工序。
梅枝孝道北川悌也
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精制显影液制造装置及精制显影液制造方法
提供一种精制显影液制造装置及方法,该装置备有供给且搅拌显影原液和纯水的调制槽、以及与该调制槽连接设置的正常化槽,正常化槽通过管路连接在形成电子电路的加工设备上。调制槽及正常化槽具有测定各自槽内的碱系显影液的碱浓度的第一及...
中川俊元小川修森田悟菊川诚宝山隆博
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酸性蚀刻液再生方法和酸性蚀刻液再生装置
本发明的目的在于提供含有草酸的蚀刻液再生方法和含有草酸的蚀刻液再生装置,其可以降低含有草酸的蚀刻液的全量交换的频率。在本发明中,其包括用NF膜25将用于ITO的蚀刻的含有草酸的蚀刻液过滤,分离为透过液和非透过液的过滤工序...
梅枝孝道北川悌也
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非水系保护膜剥离液管理装置及非水系保护膜剥离液管理方法
按照本发明的非水系保护膜剥离液管理装置,是在调整槽内对在保护膜剥离设备中使用的非水系保护膜剥离液进行管理的非水系保护膜剥离液管理装置。在本装置中,在保护膜剥离处理槽(调整槽)中,通过管路将测定非水系保护膜剥离液中的MEA...
中川俊元片桐优子小川修森田悟菊川诚
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处理液配制和供给方法及装置
处理液配制及供给装置,包括溶解配制池,向所述溶解配制池供给原料粉末和超纯水。该溶解配制池通过管子与基片处理装置相连,并将由原料粉末配制的处理液原位供给所述处理装置。为了降低超纯水中微生物浓度的增加,该超纯水基本上是不断循...
中川俊元片桐优子小川修小早川泰之菊川诚斋藤丰西嶋佳孝
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显影液制造装置及显影液制造方法
提供一种显影液制造装置及方法,该装置备有:供给且搅拌显影原液和纯水,调制碱系显影液的调制槽;测定调制槽内的碱系显影液的量的第一液量测定装置;测定调制槽内的碱系显影液的碱浓度的第一碱浓度测定装置;根据第一液量测定装置和第一...
中川俊元菊川诚小川修森田悟宝山隆博
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碱性加工液、加工液的配制方法及其装置以及加工液的供给方法及其装置
本发明提供一种碱性加工液及其供给装置等,其能减少加工处理时的液体使用量和废液生成量,对曝光后的光致抗蚀剂等有机膜的溶解性好。本发明的显影液供给装置的组成如下:显影处理装置通过配管与接受槽连接,在接受槽后段连续设计了过滤器...
中川俊元片桐优子小川修森田悟菊川诚宝山隆博
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废显影液再生装置和废显影液再生方法
本发明涉及废显影液再生装置和废显影液再生方法。显影液再生系统(1)备有贮存含有TMAH等的TAAH和光致抗蚀剂的废显影液的贮存槽(2),通过配管(3,6)与废液贮存槽2连接并且具有NF膜的第1分离装置(5),和通过配管(...
小川修小早川泰之北川悌也菊川诚
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共2页<12>
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