杭州格林达化学有限公司
- 作品数：55 被引量：14H指数：3
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- 一种电子级四甲基氢氧化铵生产装置
- 一种电子级四甲基氢氧化铵生产装置，所述生产装置包括阴离子树脂塔、阳离子树脂塔、电解槽和过滤器，所述阴离子树脂塔的入口为四甲基碳酸盐进料口，所述阴离子树脂塔的出口与所述阳离子树脂塔的入口连通，所述阳离子树脂塔的出口与所述电...
- 梁小朝黄源尹云舰罗江王海龙
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- 含氟蚀刻废液处理处置方法
- 本标准规定了含氟蚀刻废液组成、处理处置方法及环境保护要求。
本标准适用于TFT-LCD液晶显示屏玻璃蚀刻、光伏行业蚀刻、IC硅片蚀刻、电极箔蚀刻及稀土蚀刻所产生含氟蚀刻废液的处理处置。
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- 一种用于TFT铜钼叠层的双氧水系蚀刻液
- 本发明涉及薄膜晶体管铜钼层叠膜蚀刻技术领域，具体涉及一种TFT铜钼层叠膜蚀刻液组合物,对于组合物的总重量，由以下组分组成：1‑30%重量的过氧化氢；0.01‑8%重量的过氧化氢稳定剂；0.5‑8%重量的磷酸盐类；0.1‑...
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- 一种乙醇蒸汽辅助半导体/面板生产中有机废气回收装置
- 一种乙醇蒸汽辅助半导体/面板生产中有机废气回收装置，包括除水器、乙醇蒸发器、回收塔和乙醇吸收装置，所述回收塔自上而下依次设置除雾层、吸收液喷洒层、吸收层和回收槽，所述除水器的进口为有机废气入口，所述除水器的出口、乙醇蒸发...
- 梁小朝黄源尹云舰连杰龚升
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- 电子工业用显影液中碳酸根离子的测定 自动电位滴定法
- 本标准规定了用自动电位滴定法测定电子工业用显影液中碳酸根离子含量的方法。 本标准适用于电子工业用显影液中碳酸根离子含量的测定。本方法碳酸根离子的最低检测浓度为5 mg/kg。
- 一种用于ITO导电薄膜的高精细蚀刻液及其制备方法
- 一种用于ITO导电薄膜的高精细蚀刻液及其制备方法，重量百分比组成如下：硝酸2～8％，硫酸2～12％，添加剂0.01～2％，余量水，所述添加剂为碱金属盐和有机物的混合物，有机物选用硫脲衍生物、六次甲基四胺、咪唑、苯并三氮唑...
- 胡涛刘志彪陈虹飞邢攸美尹云舰
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- 利用乙醇蒸汽辅助半导体/面板生产中有机废气回收装置
- 一种利用乙醇蒸汽辅助半导体/面板生产中有机废气回收装置，包括除水器、乙醇蒸发器、回收塔和乙醇吸收装置，所述回收塔自上而下依次设置除雾层、吸收液喷洒层、吸收层和回收槽，所述除水器的进口为有机废气入口，所述除水器的出口、乙醇...
- 梁小朝黄源尹云舰连杰龚升
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- 显影液在线回收循环利用系统
- 本实用新型涉及一种显影液在线回收循环利用系统，包括送料泵、用于对显影废液进行吸附脱色的吸附装置、用于对显影废液进行浓缩净化的净化浓缩装置、用于对净化浓缩装置处理显影废液后进行洗脱的洗脱装置、用于对洗脱液进行过滤除杂的过滤...
- 邢攸美
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- 显影液中光刻胶树脂回收再利用装置
- 一种显影液中光刻胶树脂回收再利用装置，包括废液槽、第一过滤装置、溶解槽、第二过滤装置、阳离子交换树脂、阴离子交换树脂和浓缩装置，废液槽包括沉淀剂进口和显影液废液进口，废液槽的出口通过连接管与第一过滤装置的进口连接，第一过...
- 梁小朝黄源尹云舰李乔华倪芸岚
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- 阳离子絮凝剂P(AM-DAC)的合成、表征及应用被引量：6
- 2012年
- 以丙烯酰胺(AM)和丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(DAC)为单体,过硫酸钾(KPS)为引发剂,通过水溶液聚合的方法合成了阳离子絮凝剂P(AM-DAC)。探讨了单体配比、单体浓度、引发剂用量、反应时间、反应温度等因素对阳离子聚丙烯酰胺(CPAM)主要性能的影响。实验得出了较佳的反应条件:聚合温度为70℃,引发剂用量为0.16%,单体配比m(AM):m(DAC)=1:8,总单体浓度为20%,反应时间3 h。在上述条件下,所得阳离子聚丙烯酰胺絮凝剂的特性黏数为18.692 4 dL/g,在其加入量为0.003%的条件下处理巡司河污水,上层清液透光率达90.7%,污泥脱水率达89.2%。并对该聚合物絮凝剂的结构和热行为进行了表征。
- 徐保明张旺喜柴周东陈坤刘书章
- 关键词：丙烯酰胺丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵水溶液聚合
