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鹤见曹达株式会社

作品数：24 被引量：0H指数：0
相关机构：东亚合成株式会社关东化学株式会社长濑产业株式会社更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作机构

文献类型

  • 24篇中文专利

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 6篇蚀刻
  • 6篇图案化
  • 5篇氯化
  • 4篇镀铜
  • 4篇蚀刻液
  • 4篇精制
  • 4篇化合物
  • 4篇基板
  • 3篇废液
  • 2篇电解
  • 2篇电解槽
  • 2篇镀液
  • 2篇压载
  • 2篇压载水
  • 2篇亚硫酸
  • 2篇亚硫酸盐
  • 2篇盐水溶液
  • 2篇盐酸
  • 2篇衍射
  • 2篇衍射光谱

机构

  • 24篇鹤见曹达株式...
  • 12篇东亚合成株式...
  • 2篇关东化学株式...
  • 1篇长濑化成株式...
  • 1篇长濑产业株式...

年份

  • 1篇2014
  • 4篇2013
  • 1篇2012
  • 4篇2011
  • 2篇2010
  • 4篇2009
  • 1篇2006
  • 2篇2005
  • 2篇2004
  • 2篇2002
  • 1篇1998
共 24 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
容器阀的洗净方法、卤素类液化气体的填充方法、高压气体容器的返还方法、洗净器具、洗净剂
本发明的目的在于提供一种容器阀的洗净方法和其洗净器具，在安装于填充相对有机溶剂具有溶解性的卤素类液化气体的高压气体容器的容器阀中，能够容易且可靠地洗净附着在该容器阀内的卤素类液化气体。作为具体的解决方法，在高压气体容器内...
登丸雅英
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导电性高分子蚀刻用墨液及导电性高分子的图案化方法
本发明的目的在于提供对导电性高分子具有优异的蚀刻能力、所得到的图案的精度高的导电性高分子蚀刻用墨液、以及使用前述导电性高分子蚀刻用墨液的导电性高分子的图案化方法。本发明的导电性高分子蚀刻用墨液，其特征在于，其包含导电性高...
西村康雄井原孝田口裕务
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用于精制碱性溶液的装置和方法
本发明涉及用于精制碱性溶液的装置和方法。其中，电解槽由阳离子交换膜分成阳极室和阴极室。将高杂质浓度基础碱性溶液从基础材料罐提供到阳极室，以及提供从阳极室溢流的循环阳极电解液和从阳极循环罐循环该溢流的循环阳极电解液，和通过...
山下达朗真锅卓己
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导电性高分子用蚀刻液、及将导电性高分子图案化的方法
本发明的目的是提供一种对于导电性高分子具有优越的蚀刻处理能力的导电性高分子用蚀刻液、及使用该导电性高分子用蚀刻液来将导电性高分子予以图案化的方法。本发明的导电性蚀刻液，其特征为其是选自由下列所组成的族群中的蚀刻液：(1)...
井原孝藤本孝弘
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镀铜材料、其制造方法及镀铜的方法
一种制造镀铜材料的方法,该材料在镀铜过程中用作镀铜槽中的铜离子供应源,该方法包括下述步骤:在非还原性气氛中把碱性碳酸铜加热到250℃～800℃,使碱性碳酸铜热分解,获得构成镀铜材料的易溶氧化铜。
松木诗路士秋山一则
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用于精制碱性溶液的装置和方法
本发明涉及用于精制碱性溶液的装置和方法。其中,电解槽由阳离子交换膜分成阳极室和阴极室。将高杂质浓度基础碱性溶液从基础材料罐提供到阳极室,以及提供从阳极室溢流的循环阳极电解液和从阳极循环罐循环该溢流的循环阳极电解液,和通过...
山下达朗真锅卓己
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蚀刻溶液及其废液的再生方法以及从废液回收有价金属的回收方法
本发明提供一种蚀刻溶液及使用此溶液的蚀刻方法，所述蚀刻溶液为使用氯化铁的不锈钢等合金钢用的蚀刻溶液，其中，在不进行铬与镍的去除操作的情况下即可抑制蚀刻溶液量的增加并可使氯化铁再生。该溶液为含有氯化铁与铬离子或镍离子的蚀刻...
西村康雄金山信雄
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镀铜材料、其制造方法及镀铜的方法
一种制造镀铜材料的方法，该材料在镀铜过程中用作镀铜槽中的铜离子供应源，该方法包括下述步骤：在非还原性气氛中把碱式碳酸铜加热到250℃～800℃，使碱式碳酸铜热分解，获得构成镀铜材料的易溶氧化铜。
松木诗路士秋山一则
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导电性高分子上的抗蚀剂膜的剥离剂、抗蚀剂膜的剥离方法及具有已图案化的导电性高分子的基板
本发明的目的是提供从导电性高分子剥离抗蚀剂膜时不仅剥离性优异，且未对导电性高分子有不良影响的剥离剂，及提供导电性高分子上的抗蚀剂膜的剥离方法。另外，提供具有导电性良好、已图案化的导电性高分子的基板。本发明的导电性高分子上...
井原孝
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镀铜材料及镀铜方法
本发明涉及镀铜材料及镀铜方法。根据本发明，能得到纯度98.5及以上、对含有机物添加剂的镀液具有高溶解性，适于用作镀铜材料的氧化铜粉。上述氧化铜粉是通过使碱式碳酸铜粉在非还原环境下，在电加热炉中，在400℃的温度下加热20...
松木诗路士
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