东南大学化学化工学院化学工程系
- 作品数:4 被引量:3H指数:1
- 相关作者:张向阳黄瑞坤更多>>
- 相关机构:上海交通大学理学院光学与光子学研究所上海交通大学理学院更多>>
- 发文基金:上海市科学技术发展基金更多>>
- 相关领域:电子电信理学生物学更多>>
- 糖化蛋白质分子与苯硼酸自组装单层的特定相互作用
- 本文利用环氧基-硼酸杂合功能单层来识别溶液中的糖化蛋白质分子,并用原子力显微镜,石英电子微天平以及电极对过氧化氢还原的催化作用研究了蛋白质分子与固定化硼酸的相互作用.
- 刘松琴孙岳明
- 关键词:苯硼酸电化学
- 文献传递
- 金属包覆有机聚合物波导色散特性的实验研究被引量:2
- 1996年
- 采用角度扫描衰减全反射(ATR)技术,对银金属膜包覆的DR-1/PMMA型有机聚合物波导的色散特性进行了实验研究,从各波长下衰减全反射共振吸收峰的位置和半宽度确定了波导相应模式的传播常数,实验结果与理论计算符合较好,说明银膜介电常数的虚部可作为微扰小量处理。
- 周骏曹庄琪陈英礼陈益新张向阳刘举正
- 关键词:波导色散
- Poly(DR-1/MMA)聚合物波导中Cerenkov倍频辐射的实验研究被引量:1
- 1997年
- 本文报道采用电晕极化技术和旋转涂布方法制备Poly(DR-1/MMA)型有机共聚物薄膜波导生成二次谐波(SH)的实验研究.Q开关Nd:YAG激光器的1.064μm波长的输入光在极化聚合物波导中经Cerenkov型相位匹配产生0.532μm的倍频辐射光,总的转换效率达1.25×10-3%.
- 周骏曹庄琪陈英礼陈益新张向阳刘举正
- 关键词:波导相位匹配
- 紫外可见光谱法测量光刻胶的膜厚(英文)
- 2007年
- 在液晶显示器的制造过程中,光刻是极为重要的制造工艺过程之一。将厚的独立的负胶膜或者将光刻胶涂敷在二氧化硅衬底上以后,可以测量其膜厚,因为光刻胶膜厚决定其光刻工艺的工艺条件。能够快速地测量光刻胶的膜厚,是液晶显示器制造过程的先决性工作的一部分。文章提出了测量上述光刻胶膜厚的新方法,即利用紫外可见吸收光谱法中的Beer-Lambert定律来确定膜厚。在我们的研究中,采用acrylic负胶作为基质(resin) ,它分别具有50μm和100μm的膜厚。在350 nm时,50μm的薄膜的最大吸收为0 .728 ,而100μm的最大吸收为1 .468 5。而在正胶的研究中,采用novolac作为基质(resin)。它的膜厚通常是1 ~5μm。在紫外可见吸收光谱测膜厚的实验中,当重氮荼醌的吸收波长为403 .8 nm时,5 .93μm厚的薄膜的最大吸收为1 .757 4 ,其膜厚是由扫描电镜测得的。而另一个正胶薄膜在403 .8 nm的最大吸收为0 .982 3 ,其薄膜厚度计算得到为3 .31μm。利用这些数据,我们得到了这两种光刻胶薄膜的紫外可见吸收光强与其膜厚关系的两个校准曲线。
- 王乐刘力宇张浩康樊路嘉张鲁川杨勇黄瑞坤周昕杰李栋良张平
- 关键词:紫外可见吸收光谱LAW