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三益半导体工业株式会社: 作品数：15 被引量：0H指数：0; 相关机构：日本宇宙能源株式会社信越半导体株式会社大智化学产业株式会社更多>>; 相关领域：文化科学电子电信更多>>

合作机构

日本宇宙能源株式会社
信越半导体株式会社
大智化学产业株式会社

发表作品
相关人物
相关机构
所获资助
研究领域

文献类型

15篇中文专利

领域

1篇电子电信
1篇文化科学

主题

8篇晶片
7篇蚀刻
6篇蚀刻液
4篇电池
4篇太阳电池
4篇太阳能
4篇驱动马达
4篇金字
4篇金字塔
4篇光电转换
4篇光电转换效率
4篇非接触
2篇电磁感应
2篇电力
2篇电力供给
2篇旋转轴
2篇应力
2篇群组
2篇轴向
2篇转轴

机构

15篇三益半导体工...
4篇日本宇宙能源...
1篇大智化学产业...
1篇信越半导体株...

年份

1篇2024
1篇2023
2篇2019
1篇2018
1篇2011
1篇2010
2篇2009
4篇2007
1篇2005
1篇1996

共 15 条记录，以下是 1-10

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排序方式：

旋转台用非接触电力供给机构及方法、以及晶圆旋转保持装置: 本发明提供能够对与晶圆旋转保持装置的旋转台连接的负载以非接触的方式进行电力供给的旋转台用非接触电力供给机构及方法、以及晶圆旋转保持装置。旋转台用非接触电力供给机构是晶圆旋转保持装置的旋转台用非接触电力供给机构，包括：旋转...; 土屋正人

晶片分离方法、晶片分离装置及晶片分离转移机: 本发明提供可以更为安全、简单并且可靠地将晶片分离并且能够提高进行晶片分离的处理速度的晶片分离方法、晶片分离装置及使用了该晶片分离装置的晶片分离机。在从该最上层的晶片的惯析线轴(A-A’、B-B’)绕顺时针或逆时针错开了角...; 土屋正人真下郁夫斋藤公一; 文献传递

半导体基板的制造方法、太阳能用半导体基板及蚀刻液: 提供光电转换效率优良，蚀刻率及金字塔形状稳定，可于半导体基板的表面以期望的大小均匀形成适合太阳电池的微细凹凸结构，安全且低成本的半导体基板的制造方法；面内均匀具有均匀且微细的金字塔状的凹凸结构的太阳能用半导体基板；以及用...; 土屋正人真下郁夫木村义道; 文献传递

旋转台用晶片保持机构及方法和晶片旋转保持装置: 本发明提供一种旋转台用晶片保持机构及方法和晶片旋转保持装置，能够在旋转处理中在维持晶片的姿态的状态下改变晶片的保持位置，减轻由蚀刻造成的外周销的痕迹，减少清洗残留、清洗不均。具有：旋转台，在上表面保持晶片；和可动的多个外...; 真下郁夫田村正树永井秀彰; 文献传递

旋转蚀刻的工序管理方法及旋转蚀刻装置: 本发明提供一种即使各种条件的晶片，也可以实现蚀刻处理的蚀刻量的均匀化，并且可使蚀刻后的晶片间的厚度均匀的旋转蚀刻的工序管理方法及旋转蚀刻装置。本发明首先在蚀刻处理前，以1/1000g单位来测定晶片的重量测定，接着，由旋转...; 土屋正人小笠原俊一; 文献传递

晶片分离方法、晶片分离装置及晶片分离转移机: 本发明提供可以更为安全、简单并且可靠地将晶片分离并且能够提高进行晶片分离的处理速度的晶片分离方法、晶片分离装置及使用了该晶片分离装置的晶片分离机。在从该最上层的晶片的惯析线轴(A－A’、B－B’)绕顺时针或逆时针错开了角...; 土屋正人真下郁夫斋藤公一; 文献传递

切削液、其制造方法及结晶块的切断方法: 水溶性切削液，是在无机膨润土的水分散液中，溶解聚合脂肪酸甘油三酯咪唑和、2甲基-1-硬脂酸酯和、硼酸咪唑，在该主成分中添加油酸(润滑性增强剂)、乙二胺四醋酸钠盐(金属离子吸附剂)、苯并三唑(防锈力辅助剂)以及硅系消泡剂等...; 镝木新吾芦田昭雄木内悦男早川和男外山公平; 文献传递

板片式晶片处理装置: 本发明是为提供一种板片式晶片处理装置，其在旋转处理中可以进行与公知的浸渍处理相同的浸渍处理，且对于每一片晶片的药液处理可以降低药液消耗量，并且可以利用药液的反应热而不须要加温用加热器，达到节省能源，再者由于将药液的调配藉...; 土屋正人小笠原俊一; 文献传递

半导体基板的制造方法、太阳能用半导体基板及蚀刻液: 本发明提供一种光电转换效率优越，可在半导体基板的表面形成均匀、所期望大小的适合于太阳电池的精细凹凸结构的安全、且低成本的半导体基板的制造方法，在面内均匀具有均匀且精细的金字塔状的凹凸结构的太阳能用半导体基板，形成具有均匀...; 土屋正人真下郁夫木村义道; 文献传递

旋转台用非接触电力供给机构及方法、以及晶圆旋转保持装置: 本发明提供能够对与晶圆旋转保持装置的旋转台连接的负载以非接触的方式进行电力供给的旋转台用非接触电力供给机构及方法、以及晶圆旋转保持装置。旋转台用非接触电力供给机构是晶圆旋转保持装置的旋转台用非接触电力供给机构，包括：旋转...; 土屋正人; 文献传递

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