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南京益来基因医学有限公司

作品数:15 被引量:14H指数:3
相关作者:徐吉庆更多>>
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相关领域:医药卫生生物学电子电信机械工程更多>>

合作机构

文献类型

  • 8篇专利
  • 5篇期刊文章
  • 1篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 3篇医药卫生
  • 2篇生物学
  • 2篇机械工程
  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 6篇基因
  • 4篇基因芯片
  • 3篇钛镍
  • 3篇DNA芯片
  • 2篇弹性特性
  • 2篇等离子体改性
  • 2篇支撑架
  • 2篇手术
  • 2篇镍合金
  • 2篇钛镍合金
  • 2篇钛镍丝
  • 2篇微波等离子体
  • 2篇微米
  • 2篇临床手术
  • 2篇聚对二甲苯
  • 2篇寡核苷酸
  • 2篇核苷酸
  • 2篇合金
  • 2篇改性
  • 2篇板形

机构

  • 15篇南京益来基因...
  • 4篇东南大学

作者

  • 4篇何农跃
  • 3篇王轶文
  • 3篇陆祖宏
  • 2篇肖鹏峰
  • 1篇张春秀
  • 1篇徐吉庆
  • 1篇贺全国
  • 1篇陈杨
  • 1篇朱纪军
  • 1篇陈扬

传媒

  • 2篇东南大学学报...
  • 1篇现代科学仪器
  • 1篇中国科学(B...
  • 1篇山东生物医学...
  • 1篇21世纪现代...

年份

  • 1篇2006
  • 1篇2004
  • 7篇2002
  • 6篇2001
15 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
氧化还原电解脱保护DNA在片合成新方法的探讨
2002年
DNA芯片是一种新的高通量DNA分析检测技术。DNA芯片把大量已知序列探针集成在基片上 ,通过与标记的若干靶核苷酸序列杂交 ,可以对生物细胞或组织中大量的基因信息进行检测和分析。DNA芯片的制备方法大致可以分为点样法和在片合成法。本文初步探索了以氧化还原电解脱保护法为特征的电助基因芯片制备方法 。
王轶文陈杨何农跃陆祖宏徐吉庆
关键词:基因芯片循环伏安脱保护DNA芯片
TiNi内支撑架涂膜工艺
本发明涉及TiNi内支撑架涂膜工艺。该涂膜工艺分为两个主要步骤,步骤一。对TiNi内支撑架表面进行等离子体改性处理,等离子体改性处理可采用直流等离子体方式或射频等离子体方式或微波等离子体方式;步骤二。采用现有化学气相沉积...
邵力为陈曦
文献传递
电解致酸脱保护DNA在片合成研究被引量:3
2002年
提出了以电解致酸脱保护法为特征的电助DNA在片合成新方法 .在 2 .0V电解电位下电解水 ,释放氢离子并富集于阳极极板附近 ,导致局部酸度增强 ,使核酸单体分子发生脱保护反应 .测定了该合成方法的合成产率与电解时间 ,支持电解质浓度 ,水浓度等条件的关系 .结果表明 ,电解时间越长 ,脱保护效率越高 ,两者基本呈线性关系 ;
王轶文徐吉庆陈扬何农跃
关键词:基因芯片
一种高密度基因芯片模板优化的制作方法
本发明涉及一种高密度基因芯片模板优化的制作方法。该方法在不改变芯片探针合成结果的前提下,根据相邻层同类模板上孔洞的覆盖关系,最大限度地合并模板上的孔洞,去掉多余的模板。利用本发明所提出的方法,可以减少制备高密度基因芯片所...
孙啸陆祖宏
文献传递
微小化总体分析系统和性病芯片检测系统简介
本文主要介绍我公司最近正在研究开发与生物医学仪器有关的两个项目:微小化总体分析系统(核酸扩增基因芯片杂交检测仪)和性病芯片检测系统(淋病奈氏菌、沙眼衣原体、解脲脲原体检测基因芯片).
黄勇
关键词:性病
文献传递
基因卡
要求保护色彩。
黄勇武辉
核酸扩增基因芯片杂交检测仪
本发明提供一种核酸扩增基因芯片杂交检测仪,它由机壳、机架、检测装置、传送装置、温控装置、清洗装置、计算机及外围设备组成,检测装置、传送装置、温控装置、清洗装置安装在机架上,电缆把上述各装置电控、传感输入输出接口与计算机的...
赵雨杰朱纪军刘全俊陆祖宏何农跃
文献传递
细胞微阵列芯片及其制备方法
本发明涉及细胞微阵列及其制备方法。该细胞微阵列芯片由芯片裸片、封装盖板和底板层迭封装而成,在芯片裸片上的微小通孔中植入细胞株,通过在封装盖板上设置微流体沟槽或设置注液通孔,向裸片上的细胞株加入药液。此外,在底板上设置相应...
陆祖宏朱纪军唐祖明朱毅陈劲松赵雨杰何农跃刘全俊程璐
文献传递
分子印章法DNA芯片的合成(Ⅰ)——PDMS印章的固定与收缩研究被引量:9
2001年
用MicronXYZScope考察了用不同方法处理的玻璃片对膜厚为 0 .6~ 1 .0mm ,阵点高度为 1 5μm的聚二甲基硅氧烷 (PDMS)印章的粘附固定情况以及对印章收缩的影响 .经硅烷化的玻璃片与PDMS印章结合牢固 ,虽然印章表面阵点的面积收缩为 0 2 86% ,但由于分子间的强相互作用力以及分子之间的铆合作用 ,使其印章的线收缩为 0 0 4 0 3% .这一结论保证了寡核苷酸合成过程中一套印章在合成载片位点上的多次准确定位以及印章多次压印偶联反应不发生错位 ,亦即为分子印章法DNA芯片的正确合成提供了依据 .
肖鹏峰何农跃朱纪军徐吉庆陆祖宏
关键词:DNA芯片
钛镍内支撑架涂膜工艺
本发明涉及TiNi内支撑架涂膜工艺。该涂膜工艺分为两个主要步骤,步骤一,对TiNi内支撑架表面进行等离子体改性处理,等离子体改性处理可采用直流等离子体方式或射频等离子体方式或微波等离子体方式;步骤二,采用现有化学气相沉积...
邵力为陈曦
文献传递
共2页<12>
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