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因芬尼昂技术北美公司

作品数:145 被引量:0H指数:0
相关机构:国际商业机器公司艾萨华科技(上海)有限公司更多>>

文献类型

  • 145篇中文专利

主题

  • 30篇存储器
  • 28篇半导体
  • 22篇电路
  • 20篇存取
  • 19篇信号
  • 13篇随机存取
  • 13篇随机存取存储...
  • 12篇电容
  • 12篇晶体管
  • 11篇电压
  • 11篇动态随机存取...
  • 10篇电容器
  • 10篇掩模
  • 10篇芯片
  • 10篇沟道
  • 9篇存储器单元
  • 8篇晶片
  • 8篇半导体存储
  • 8篇半导体存储器
  • 7篇掩膜

机构

  • 145篇因芬尼昂技术...
  • 43篇国际商业机器...
  • 1篇艾萨华科技(...

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 3篇2008
  • 7篇2007
  • 7篇2006
  • 16篇2005
  • 37篇2004
  • 7篇2003
  • 15篇2002
  • 8篇2001
  • 43篇2000
145 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
局部开槽工艺
根据本发明,一种在半导体制造中开孔的方法包括下列步骤:在衬底(102)上提供焊点叠层(104);在焊点叠层上制作硬掩模层(106),此硬掩模层相对于焊点叠层可选择性地清除;在硬掩模层上图形化抗蚀剂层(108),此抗蚀剂层...
B·S·李
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电流源
一种产生输出电流的方法和电路,将两热温度系数相反的电流相加产生输出电流。两电流的第一电流I<Sub>1</Sub>为温度补偿带隙基准电路中产生的电流按比例模拟的电流。两电流的第二电流是带隙电路产生的温稳电压除以正温度系数...
R·J·霍顿E·J·斯塔尔
文献传递
延迟线的频率范围微调
根据本发明,延迟线中包含多个与输入和输出相连接的延迟元件,该延迟元件把一个延迟引入到通过这些延迟元件的信号中。电压装置向这些延迟元件提供电压,可调的电压装置至少向延迟元件提供一个预定电压,从而可根据预定电压来修正延迟元件...
J·M·多尔图A·M·楚C·P·米勒
文献传递
改善化学机械抛光的均匀性
通过提高对浆料分布的控制改善了CMP的均匀性。通过例如使用浆料分送器将浆料从多个分送点分送浆料改善了浆料分布。在浆料和衬底之间提供挤压杆以重新分布浆料,也提高了对浆料分布的控制。
C·林R·范登伯格S·潘德
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改善光刻胶耐蚀刻性的方法
提供一种易于构成并且适合于深紫外范围构图的光刻胶系统。通过利用蚀刻保护剂的处理,在用光刻法产生的光刻胶结构中产生对于含卤素等离子体的增强的耐蚀刻性。蚀刻保护剂主要包括芳族结构并且包含适合于与光刻胶的反应基起化学反应的反应...
U·P·施勒德尔G·昆克尔A·古特曼
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用于光掩膜自动故障检测的改进的系统和方法
根据本发明的一种检测光掩膜的方法包括下列步骤,提供制造光掩膜的设计数据集,搜索该设计数据集,找出亚基本规格特征,从所述的数据集消除这些亚基本规格特征,形成一个检测数据集,采用这组检测数据,检测依据设计数据集所制造的光掩膜...
S·舒泽
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读出信道性能数据的累加
描述了将读出信道中一个或多个组成部分之性能所关联的数据进行累加的系统和方法。在一个方面,一个可编程的信道质量监控器在工作中将一个记录的测试数据序列所对应的性能数据进行累加,该测试数据序列跨越磁性媒介的两个或多个扇区。信道...
D·恩古芸J·W·雷
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在半导体器件制造中减小非均匀区影响的方法和设备
在制造集成电路的各个工序中能影响邻近晶片周边的芯片质量的非均匀边缘效应可被减小。这是用只在邻近晶片周边区域印制芯片的图形时增大分步重复曝光机的曝光面积来实现的。因此在有用的图形区外也印制附加的无用图形区以减小非均匀效应。...
S·舒尔泽F·扎克
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网际网络语音协议处理器中的语音数据的优先处理
本发明涉及网际网络语音协议处理器中的语音数据的优先处理。根据本发明的一种装置,用于处理一多媒体终端机的数据包,具有:媒体存取控制器,用于传送及接收一网络的数据包;数字信号处理器,用于将一系列输入实时传送协议数据包转换为输...
F·普雷斯
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具有延长的电迁移寿命的连接件
提供一种用于半导体集成电路的可靠的互连件。该互连件包括采用电离金属等离子体物理汽相淀积工艺形成的导体和衬里。该衬里减少了倾斜分布,同时减少了导体中晶粒的尺寸,这使电迁移寿命得以延长。
R·F·施纳贝尔R·菲利皮M·霍因基斯S·维贝尔R·伊古尔登P·维甘德L·克勒温格
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共15页<12345678910>
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