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斯克林集团公司
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303
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相关机构:
国立大学法人大阪大学
株式会社理光
尤尼吉可株式会社
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相关领域:
电子电信
自动化与计算机技术
轻工技术与工程
文化科学
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国立大学法人大阪大学
株式会社理光
尤尼吉可株式会社
速力斯公司
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速力斯公司
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4篇
2023
7篇
2022
4篇
2021
6篇
2020
11篇
2019
41篇
2018
70篇
2017
60篇
2016
100篇
2015
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303
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基板处理装置以及基板处理方法
本发明提供一种能够抑制在表面周缘部的处理中使用的处理液进入器件区域的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(1)具有:基板保持部;周缘部用喷出头(51),向被基板保持部保持的基板(9)的表面周缘部喷出流体。周缘部用喷...
藤原友则
柴山宣之
吉田幸史
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间歇涂敷方法以及间歇涂敷装置
本发明提供一种间歇涂敷方法及间歇涂敷装置,即使在涂敷开始时也能够得到均匀的涂敷形状。一边以辊至辊方式使电解质膜以恒定速度连续移动,一边从涂敷喷嘴在该电解质膜的上表面间歇涂敷催化剂油墨。在涂敷间歇,在涂敷喷嘴的顶端形成催化...
高木善则
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图案形成装置及图案形成方法
本发明提供一种图案形成装置及图案形成方法、以及对准装置及对准方法。该图案形成装置中,使承载图案的承载体(BL)与被转印图案的被转印体(SB)对向配置。基于拍摄承载体(BL)的外缘的至少一部分而得的结果,使第一保持设备(6...
川越理史
増市干雄
上野博之
上野美佳
谷口和隆
正司和大
芝藤弥生
田中哲夫
陶山武史
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基板处理装置
基板处理装置具有腔室、基板保持部、基板旋转机构、受液部及上下喷嘴。腔室具有腔室主体和腔室盖部,并且腔室盖部能够进行升降。在腔室盖部与腔室主体相接触的状态下,形成小的密闭空间,并且进行伴随着减压或者加压进行的处理。当腔室盖...
中井仁司
大桥泰彦
基板处理装置及基板处理方法
本发明涉及基板处理装置及基板处理方法。在该基板处理装置(1)中,利用环状的基板支撑部(141)从下侧支撑水平状态的基板(9)的外缘部,具有与基板(9)的下表面(92)对置的对置面(211a)的下表面对置部(211)设在基...
泉本贤治
三浦丈苗
小林健司
西东和英
岩﨑晃久
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基板容纳容器、加载端口装置以及基板处理装置
本发明提供能够恰当地允许基板的搬出的基板容纳容器、加载端口装置以及基板处理装置。该基板容纳容器具有框体、搁板构件、对基板的端部进行支撑的框体用支撑构件、使基板移动的移动机构、盖、对基板的端部进行支撑的盖用支撑构件。框体用...
波多野章人
桥本光治
本庄一大
高桥光和
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数据修正装置、绘图装置、数据修正方法和绘图方法
提供数据修正装置、绘图装置、数据修正方法和绘图方法。在绘图装置中,获取基板上多个记号即记号集合的测定位置。基于除记号集合中所选的关注记号群之外的剩余记号群的测定位置和设计位置,通过针对多个修正方式分别修正关注记号群的设计...
山田亮
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图案转印系统以及图案转印方法
本发明提供一种图案转印系统以及图案转印方法。本发明的图案转印系统包括:第一清洗部,清洗橡皮布及印刷版;涂布部,对橡皮布涂布转印剂;转印部,通过将涂布着转印剂的橡皮布及印刷版贴合,而对橡皮布转印图案;以及转印部,通过将转印...
富藤幸雄
上代和男
南茂树
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基板处理方法以及基板处理装置
本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包括:SPM供给工序,将高温的SPM供给到基板的上表面;DIW供给工序,在SPM供给工序之后,通过将室温的DIW供给到基板的上表面,来冲洗残留在基板上的液体;双氧水...
根来世
村元僚
永井泰彦
大须贺勤
岩田敬次
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基板处理装置
本发明提供一种即使在利用共用管路对基板的下表面供给处理液和温水的情况下,也能够均匀地处理基板的基板处理装置。冷却机构具有包围共通配管(29)的管状构件(31)。管状构件(31)的上端被具有开口部(33)的盖构件(32)封...
井上正史
中野彰义
八木胡桃
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