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让·莫纳圣埃蒂安大学

作品数：13 被引量：0H指数：0
相关机构：国家科学研究中心H.E.F.公司克拉诺瓦公司更多>>
相关领域：电子电信轻工技术与工程自动化与计算机技术化学工程更多>>

合作机构

文献类型

  • 13篇中文专利

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇轻工技术与工...

主题

  • 4篇掩模
  • 4篇外部环境
  • 4篇料层
  • 4篇激光
  • 4篇焦平面
  • 4篇飞秒
  • 4篇飞秒激光
  • 3篇动物
  • 3篇动物组织
  • 3篇晶状体
  • 3篇角膜
  • 3篇光束
  • 2篇液滴
  • 2篇水包
  • 2篇浊点
  • 2篇离子
  • 2篇冷凝
  • 2篇基板
  • 2篇基料
  • 2篇激光器

机构

  • 13篇让·莫纳圣埃...
  • 11篇国家科学研究...
  • 4篇H.E.F....
  • 2篇克劳德伯纳德...
  • 2篇国立里昂应用...
  • 2篇学研究院
  • 2篇克拉诺瓦公司
  • 1篇里昂第一大学
  • 1篇世界线公司
  • 1篇生物梅里埃公...

年份

  • 3篇2023
  • 2篇2022
  • 3篇2021
  • 2篇2020
  • 2篇2019
  • 1篇2017
共 13 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
用于切割角膜或晶状体的设备和方法
本发明涉及一种用于例如角膜(3)或晶状体的人体或动物组织的切除的设备(1)，所述设备包括飞秒激光(2)，该飞秒激光能够以脉冲形式发射激光束(4)，所述设备还包括用于将所述光束导引并聚焦到组织上或组织中以由此用于组织的切除...
A·贝尔纳P·甘C·莫克莱G·蒂雷
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用于切割角膜或晶状体的设备和方法
本发明涉及一种用于例如角膜(3)或晶状体的人体或动物组织的切除的设备(1)，所述设备包括飞秒激光(2)，该飞秒激光能够以脉冲形式发射激光束(4)，所述设备还包括用于将所述光束导引并聚焦到组织上或组织中以由此用于组织的切除...
A·贝尔纳P·甘C·莫克莱G·蒂雷
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经优化平均查准率通过机器学习检测银行交易组中的异常
本发明涉及一种用于检测一组支付交易中的异常的方法，该方法包括：‑建立由一组模型形成的元模型(E3)，每个模型都在训练组上进行训练，以便确定每个交易为异常的风险，所述元模型是由“梯度提升”技术建立的，以便优化表示元模型的平...
若尔丹·弗雷里阿莫里·哈布拉德马克·塞邦里云·盖尔东奥利维耶·卡埃朗
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用于表面处理的光学掩模的制造系统和方法，以及表面处理的装置和方法
本发明涉及一种用于表面处理特别是表面微观纹理化的光学掩模(35)的制造系统(2)，所述系统(2)包括：具有暴露于外部环境的外表面(21)的材料层(20)；生成和沉积装置，用于在所述材料层(20)的外表面(21)上生成和沉...
M·比绍特Y·乔琳L·迪博
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用于表面处理的光学掩模的制造系统和方法，以及表面处理的装置和方法
本发明涉及一种用于表面处理特别是表面微观纹理化的光学掩模(35)的制造系统(2)，所述系统(2)包括：具有暴露于外部环境的外表面(21)的材料层(20)；生成和沉积装置，用于在所述材料层(20)的外表面(21)上生成和沉...
M·比绍特Y·乔琳L·迪博
多孔硅酮材料的制备方法
本发明涉及一种用于制备多孔硅酮材料的方法。特别地，本发明涉及一种用于制备多孔硅酮材料的方法，其包括以下步骤：1)准备水包硅酮的直接乳液E，该直接乳液E包含：A)通过加聚或缩聚反应而交联的硅酮基料A；B)至少一种浊点为10...
弗朗索瓦·加纳绍艾蒂安·弗勒里加布里埃尔·拉里布大卫·玛丽奥特弗雷德里克·马沙尔
用于表面微观纹理化的光学掩模的制造系统和方法，以及表面微观纹理化的装置和方法
本发明涉及一种用于表面微观纹理化的光学掩模(35)的制造系统(2)，所述系统(2)包括：具有待纹理化的表面(11)的基板(10)；覆盖基板(10)表面(11)并具有暴露于外部环境的外表面(21)的材料层(20)；生成和沉...
M·比绍特Y·乔琳L·迪博
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全息成像系统的对焦方法
本发明涉及一种对焦方法，用于通过全息成像仪(2)获取样品(1)的感兴趣表面(6)的图像，包括以下步骤：‑放置样品(1)，该样品(1)包括至少一个参考物，该至少一个参考物具有已知形状，并且通过与至少包括位置参数的表征参数来...
尼古拉斯·福尔弗雷德里克·潘斯顿科琳娜·富尼耶卢瓦克·丹尼斯托马斯·奥利维尔
多孔硅酮材料的制备方法
本发明涉及一种用于制备多孔硅酮材料的方法。特别地，本发明涉及一种用于制备多孔硅酮材料的方法，其包括以下步骤：1)准备水包硅酮的直接乳液E，该直接乳液E包含：A)通过加聚或缩聚反应而交联的硅酮基料A；B)至少一种浊点为10...
弗朗索瓦·加纳绍艾蒂安·弗勒里加布里埃尔·拉里布大卫·玛丽奥特弗雷德里克·马沙尔
文献传递
用于表面微观纹理化的光学掩模的制造系统和方法，以及表面微观纹理化的装置和方法
本发明涉及一种用于表面微观纹理化的光学掩模(35)的制造系统(2)，所述系统(2)包括：具有待纹理化的表面(11)的基板(10)；覆盖基板(10)表面(11)并具有暴露于外部环境的外表面(21)的材料层(20)；生成和沉...
M·比绍特Y·乔琳L·迪博
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