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株式会社罗捷士井上

作品数：14 被引量：0H指数：0
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相关领域：化学工程更多>>

合作机构

文献类型

  • 14篇中文专利

领域

  • 2篇化学工程

主题

  • 11篇异氰酸
  • 11篇氰酸
  • 7篇多元醇
  • 7篇异氰酸酯
  • 7篇氰酸酯
  • 7篇聚氨酯
  • 4篇氧化物
  • 4篇酸酯
  • 4篇氢氧化
  • 4篇氢氧化物
  • 4篇金属
  • 4篇金属氢
  • 4篇金属氢氧化物
  • 4篇薄片
  • 3篇弹性体
  • 3篇多异氰酸酯
  • 3篇树脂
  • 3篇聚氨酯泡沫
  • 3篇聚氨酯原料
  • 3篇发泡

机构

  • 14篇株式会社罗捷...
  • 10篇井上株式会社

年份

  • 1篇2021
  • 1篇2015
  • 2篇2014
  • 2篇2010
  • 3篇2008
  • 3篇2005
  • 2篇2003
共 14 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
阻燃性密封材料
本发明提供一种阻燃性密封材料(10)，具备对混合由多元醇和异氰酸酯构成的主原料、包含整泡剂和金属氢氧化物(16)的副原料、和造泡用气体而成的混合物进行成形而获得的弹性薄片(12)。进而，该阻燃性薄片材料中，在100重量份...
佐藤正史
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阻燃性密封材料
本发明提供一种阻燃性密封材料(10)，具备对混合由多元醇和异氰酸酯构成的主原料、包含整泡剂和金属氢氧化物(16)的副原料、和造泡用气体而成的混合物进行成形而获得的弹性薄片(12)。进而，该阻燃性薄片材料中，在100重量份...
佐藤正史
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聚氨酯泡沫体
本发明提供一种聚氨酯泡沫体1，其通过机械发泡法从含有多元醇、异氰酸酯、泡沫稳定剂、催化剂和泡沫形成用气体的聚氨酯原料获得，其中，所述多元醇含有在25℃下的粘度为2,000mPa·s以下的蓖麻油基多元醇、和聚醚基多元醇；相...
小柳津诚司
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聚氨酯泡沫和聚氨酯泡沫的制造方法
本公开内容的聚氨酯泡沫由包含多元醇成分和多异氰酸酯成分的聚氨酯原料和造泡用气体得到。在聚氨酯原料中含有疏水性二氧化硅和轻质碳酸钙，所述疏水性二氧化硅是用于保持泡沫的泡沫保持剂，相对于100重量份多元醇成分，轻质碳酸钙为1...
折笠理加桐山卓也
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聚氨酯泡沫层压体及其制造方法以及垫圈
本发明涉及聚氨酯泡沫层压体及其制造方法以及垫圈，具体是把含多异氰酸酯、多元醇及阻燃剂的泡沫原料与气体进行混合、搅拌，生成气液混合物，然后，把气液混合物供给树脂膜上，其次，加热气液混合物，使泡沫原料反应，固化，得到具有包含...
小柳津诚司
聚氨酯泡沫体
本发明提供一种聚氨酯泡沫体1，其通过机械发泡法从含有多元醇、异氰酸酯、泡沫稳定剂、催化剂和泡沫形成用气体的聚氨酯原料获得，其中，所述多元醇含有在25℃下的粘度为2,000mPa·s以下的蓖麻油基多元醇、和聚醚基多元醇；相...
小柳津诚司
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密封构件及其制造方法
本发明提供适于配置在携带电话等携带通信装置的显示部的液晶显示画面的周缘或麦克周缘等与套盒内面之间的密封构件及其制造方法。本发明的密封构件由将密度设定在100～250kg/m<Sup>3</Sup>的范围的弹性薄片(12)...
佐藤正史
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密封构件及其制造方法
本发明提供适于配置在携带电话等携带通信装置的显示部的液晶显示画面的周缘或麦克周缘等与套盒内面之间的密封构件及其制造方法。本发明的密封构件由将密度设定在100～250kg/m<Sup>3</Sup>的范围的弹性薄片(12)...
佐藤正史
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研磨垫及其制备方法
本发明提供了一种高质量的研磨垫，它适合于半导体晶片等物体的化学机械研磨(CMP)，该研磨垫不受研磨过程中研磨条件改变的影响，能够获得优良的研磨速率、台阶消除能力和均一性，其中使用了一种聚氨酯基泡沫(12)，该泡沫具有微细...
日紫喜诚吾
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研磨垫
本发明提供了一种高质量的研磨垫，它适合于半导体晶片等物体的化学机械研磨(CMP)，该研磨垫不受研磨过程中研磨条件改变的影响，能够获得优良的研磨速率、台阶消除能力和均一性，其中使用了一种聚氨酯基泡沫(12)，该泡沫具有微细...
日紫喜诚吾
文献传递
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