兰州大学物理科学与技术学院等离子体与金属材料研究所
- 作品数：25 被引量：214H指数：9
- 相关作者：徐建伟白利峰常敬波余画洋更多>>
- 相关机构：中国科学院兰州化学物理研究所兰州理工大学材料科学与工程学院甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室兰州理工大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金甘肃省自然科学基金教育部“优秀青年教师资助计划”更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学机械工程更多>>
- 弯曲碳纳米管表面包覆偏硼酸锌单晶及其矫直碳管之机理
- 2006年
- 国际上首次在多壁碳纳米管表面生长了偏硼酸锌单晶包覆层．通过SEM,TEM观察,发现包覆后的碳纳米管-偏硼酸锌单晶复合棒直径从几十到几百纳米不等．值得注意的是原本弯曲的碳纳米管在单晶包覆后变直了．结合实验结果,建立了一个二维模型,对晶体在碳管表面成核及生长进行了解释,并探讨了弯曲碳管被矫直的机理．
- 刘金章闫鹏勋岳光辉
- 关键词：多壁碳纳米管单晶过冷度
- 高质量非晶金刚石薄膜的制备研究被引量：1
- 2006年
- 利用自行研制的磁过滤等离子体技术（FCAP），并创造性地对衬底施加低频率周期性负偏压，在室温下的单晶硅表面上制备了高质量的非晶金刚石薄膜。用扫描电子显微镜（SEM），原子力显微镜（AFM），红外吸收光谱（IR），纳米硬度计和摩擦试验仪对制备的非晶金刚石薄膜进行了结构和性能表征。实验结果表明：制备的非晶金刚石薄膜表面十分光滑，表面粗糙度仅为0．1nm；薄膜中sp^3键成份高达70．7％，对应薄膜硬度达到74．8GPa，接近金刚石的硬度；薄膜摩擦系数在0．12-0．16之间。文中也讨论了偏压类型对沉积薄膜结构的影响。
- 闫鹏勋李晓春李春崇二敏刘洋李鑫徐建伟
- 多晶氮化铜薄膜制备及性能研究被引量：12
- 2005年
- 采用反应射频磁控溅射的方法在不同的氮气分压的条件下,在玻璃基底上成功制备了氮化铜(Cu3N)薄膜.XRD显示氮气的气氛影响薄膜的择优生长取向,在低氮气气氛时薄膜择优[111]晶向生长,在高的氮气气氛条件下薄膜的择优生长取向为[100].用Scherrer公式估算出薄膜晶粒的大小在17～26nm之间,实验并研究了薄膜的热稳定性和电学性质.结果表明,薄膜的热稳定性较差,在200℃退火1h后已经完全呈Cu的相,薄膜的电阻率随着填隙原子的数目减少从导体到绝缘体发生不连续的改变.
- 岳光辉闫鹏勋刘金良
- 关键词：热稳定性电阻率
- 纳米结构TiN薄膜的制备与性能研究被引量：6
- 2004年
- 利用自行研制的磁过滤等离子体设备 ,在室温条件下的不锈钢基底上成功地制备了性能良好的纳米结构TiN薄膜。运用原子力显微镜和X射线衍射仪对其结构和形貌进行了表征。利用纳米硬度仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量。结果显示 :沉积的TiN薄膜表面非常平整光滑 ,致密而无缺陷 ;硬度远高于粗晶TiN的硬度 ;TiN晶粒尺寸在 3 0～ 5 0nm ;
- 闫鹏勋吴志国徐建伟张玉娟李鑫张伟伟
- 关键词：TIN薄膜室温条件等离子体性能研究
- 氮化铜薄膜的制备及其物理性能被引量：4
- 2005年
- 氮化铜薄膜的光学性能及其突出的低温热分解特性,使得它在信息存储方面有广阔的应用前景。本文概述了国际上制备多晶态氮化铜薄膜的研究进展及其物理性能,并对其应用前景进行展望。
- 岳光辉闫鹏勋
- 关键词：物理性能热分解特性氮化晶态铜薄膜信息存储
- 脉冲高能量密度等离子体薄膜制备与材料表面改性被引量：6
- 2002年
- 脉冲高能量密度等离子体是一项全新的等离子体材料表面处理和薄膜制备技术 .文章主要介绍了作者近几年来在这方面的研究成果 .从理论和试验上研究了脉冲高能量密度等离子体的产生机制及其物理性质 .研究了脉冲等离子体与材料相互作用的基本物理现象和物理机制 .诊断测量表明 ,脉冲等离子体具有电子温度高 (10—10 0eV)、等离子体密度高 (10 1 4— 10 1 6 cm- 3)、定向速度高 (～ 10 7cm s)、功率大 (10 4 W cm2 )等特点 .在制备薄膜时具有沉积速率高 ,薄膜与基底粘结力强 ,并兼有激光表面处理、电子束处理、冲击波轰击、离子注入、溅射、化学气相沉积等综合性特点 ,可以在室温下合成亚稳态相和其他化合物材料 .在此基础上 ,系统地进行了脉冲等离子体薄膜制备和材料表面改性及其机理的研究 .在室温下的不同材料衬底上成功地沉积了性能良好的较大颗粒立方氮化硼、碳氮化钛、氮化钛、类金刚石、氮化铝等薄膜材料 .沉积薄膜和基底之间存在一个很宽的过渡层 ,因此导致薄膜与基底有很强的粘结力 .
- 阎鹏勋杨思泽
- 关键词：表面处理金属材料
- (Ti_(1-x)Al_x)N硬质涂层的研究进展被引量：9
- 2007年
- TiAlN作为一种三元复合纳米涂层材料,具有非常好的性能。该涂层克服了TiN涂层所存在的一些缺陷,其硬度远远高于TiN涂层,最高可达47GPa,并且具有很好的热稳定性,在700℃高温下仍很稳定,而TiN涂层在500℃时就已被氧化。TiAlN涂层还具有抗磨损,摩擦系数小,热膨胀系数及热传导系数低等特性,这些特性与涂层中Al含量的多少有关,Al含量的改变会导致涂层微观结构的改变,从而使其性能发生变化。氮分压和基底温度对TiAlN涂层的性质有着极其重要影响。本文结合国内外对TiAlN涂层的最新研究进展,对TiAlN涂层的应用,制备方法,结构,抗氧化性及硬度作了简要论述。
- 张飞闫鹏勋陈江涛苗彬彬李冠斌王君
- 关键词：TIALN涂层晶体结构抗氧化性
- 高性能类金刚石碳膜的制备
- 采用中频磁控溅射技术在单晶硅表面制备含铝类金刚石(Al-DLC)薄膜,利用原子力显微镜、X射线光电子能谱仪、纳米压痕仪和微摩擦磨损实验机等考察了薄膜的表面形貌、结构及其摩擦磨损性能。结果表明:所制备的含铝类金刚石薄膜均匀...
- 王云锋王立平张广安王君闫鹏勋薛群基
- 关键词：磁控溅射类金刚石薄膜
- 文献传递
- 阳极弧等离子体制备镍纳米粉的机理研究被引量：7
- 2007年
- 根据金属结晶的热力学和动力学理论,对采用阳极弧放电等离子体方法制备金属纳米粉的生长过程建立了一个近似的理论模型。研究了等离子体的产生、金属的蒸发、晶核的形成和生长机理。对影响纳米粉性能的各种工艺参数进行了理论分析。并利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和相应选区电子衍射(ED)对样品的晶体结构、形貌、粒度及其分布进行表征。结果表明:采用阳极弧等离子体法制备的球形镍纳米粒子纯度高,晶格结构与相应的块体物质相同,为fcc结构的晶态,平均粒度为16nm,粒度范围分布在10nm^40nm。电源功率、电弧电流、气体压力及冷却温度是影响晶核的形成和生长的主要因素。通过适当调整各项工艺参数,可有效地控制粒子的粒度。
- 魏智强夏天东马军张材荣冯旺军闫鹏勋
- 关键词：纳米粉
- 在室温条件下制备高质量纳米结构TiN薄膜研究被引量：8
- 2004年
- 在室温条件下,利用磁过滤等离子体在单晶硅和不锈钢表面上制备了性能优异的纳米结构TiN薄膜.运用原子力显微镜和掠角入射X射线衍射仪对其结构与形貌进行了表征,利用纳米压痕仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量.结果表明:TiN薄膜表面光滑,致密,无柱状晶;TiN晶粒的平均尺寸为50nm,薄膜硬度达50 GPa,是传统CVD和PVD技术沉积氮化钛的两倍多;XRD衍射试验表明,纳米TiN的衍射角都普遍向小角度移动,TiN晶粒沿(111)择优生长.
- 闫鹏勋吴志国徐建伟张玉娟张伟伟刘伟民
- 关键词：TIN
