您的位置: 专家智库 > >

吴彼

作品数:9 被引量:12H指数:2
供职机构:大连理工大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
相关领域:金属学及工艺自动化与计算机技术电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 4篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇金属学及工艺
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 5篇涂层
  • 5篇溅射
  • 5篇磁控
  • 5篇磁控溅射
  • 4篇功率
  • 4篇高功率
  • 3篇纳米复合涂层
  • 2篇电参数
  • 2篇性能研究
  • 2篇真空系统
  • 2篇塑料
  • 2篇泡沫塑料
  • 2篇自动控制
  • 2篇自动控制系统
  • 2篇金属
  • 2篇金属化
  • 2篇金属涂层
  • 2篇抗氧化
  • 2篇控制系统
  • 2篇化学镀

机构

  • 9篇大连理工大学
  • 1篇湖南农业大学

作者

  • 9篇吴彼
  • 8篇雷明凯
  • 7篇朱小鹏
  • 6篇吴志立
  • 3篇李玉阁
  • 2篇孟笛
  • 2篇李昱鹏

传媒

  • 1篇无机材料学报
  • 1篇表面技术
  • 1篇第七届全国青...

年份

  • 1篇2020
  • 3篇2015
  • 3篇2014
  • 2篇2013
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
计算机自动控制的高功率脉冲磁控溅射设备及工艺
一种计算机自动控制的高功率脉冲磁控溅射设备及工艺,属于材料表面工程领域。该设备采用计算机自动控制系统对充气系统、真空系统和电源系统进行控制,高功率脉冲电源控制单元对自建立放电参数模型模块、自学习沉积速率模型模块、峰值电流...
雷明凯朱小鹏吴彼吴志立孟笛
文献传递
泡沫塑料高功率脉冲磁控溅射表面金属化方法
一种泡沫塑料高功率脉冲磁控溅射表面金属化方法,属于材料表面工程技术领域。该方法首先对泡沫塑料表面进行表面封闭、清洗和干燥、去应力预处理,而后装样、抽真空、除气;预溅射清洗泡沫塑料工件和溅射靶材;高功率脉冲磁控溅射沉积金属...
雷明凯朱小鹏李昱鹏吴志立吴彼
高功率调制脉冲磁控溅射放电特性研究
采用四靶闭合场非平衡磁控溅射装置高功率脉冲沉积金属薄膜,研究高功率调制脉冲磁控溅射电源的放电特性。脉冲电源充电电压V、调制脉冲参数τon和τoff对溅射靶峰值电流Ip、峰值电压Vp、峰值功率P和平均功率Pa的影响显著。调...
孟笛吴彼吴志立朱小鹏雷明凯
关键词:放电特性
文献传递
高功率调制脉冲磁控溅射制备TiAlSiN纳米复合涂层抗氧化性能研究
当前TiAlSiN薄膜其热稳定性可超过800℃.本文通过高功率调制脉冲磁控溅射技术在钛合金上制备一系列具有不同N2/Ar流量比的TiAlSiN纳米复合薄膜,研究了800℃低应力下具有不同Al/Si成分比TiAlSiN纳米...
李玉阁吴彼朱小鹏雷明凯
关键词:纳米复合涂层
高功率调制脉冲磁控溅射沉积TiAlSiN纳米复合涂层结构调控与性能研究被引量:11
2015年
采用高功率调制脉冲磁控溅射Al/(Al+Ti)原子比(x)分别为0.25、0.5和0.67的TiAlSi合金靶,溅射功率1~4kW,氮气分压25%,工作气压0.3Pa,在Si(100)和AISI304奥氏体不锈钢基片上沉积了TiAlSiN纳米复合涂层。TiAlSiN涂层中氮含量保持在52.0at%~56.7at%之间,均形成了nc-TiAlN/a-Si3N4/AlN纳米晶/非晶复合结构。随着原子比x增加,非晶含量增加,涂层硬度先升高而后降低。当x=0.5时,硬度最高可达28.7GPa。溅射功率升高可提高溅射等离子体中金属离化程度,促进涂层调幅分解的进行,形成了界面清晰的非晶包裹纳米晶结构,且晶粒尺寸基本保持不变。当x=0.67时,溅射功率由1kW上升到4kW时,硬度由16.4GPa升至21.3GPa。不同靶材成分和溅射功率条件下沉积的TiAlSiN涂层的磨损率为(0.13~6.25)×10^-5mm^3/(N·m),具有优良的耐磨性能。当x=0.67,溅射功率2kW时,nc-TiAlN/a-Si3N4纳米复合涂层具有最优的耐磨性能。
吴志立李玉阁吴彼雷明凯
关键词:微结构
泡沫塑料高功率脉冲磁控溅射表面金属化方法
一种泡沫塑料高功率脉冲磁控溅射表面金属化方法,属于材料表面工程技术领域。该方法首先对泡沫塑料表面进行表面封闭、清洗和干燥、去应力预处理,而后装样、抽真空、除气;预溅射清洗泡沫塑料工件和溅射靶材;高功率脉冲磁控溅射沉积金属...
雷明凯朱小鹏李昱鹏吴志立吴彼
文献传递
计算机自动控制的高功率脉冲磁控溅射设备及工艺
一种计算机自动控制的高功率脉冲磁控溅射设备及工艺,属于材料表面工程领域。该设备采用计算机自动控制系统对充气系统、真空系统和电源系统进行控制,高功率脉冲电源控制单元对自建立放电参数模型模块、自学习沉积速率模型模块、峰值电流...
雷明凯朱小鹏吴彼吴志立孟笛
调制脉冲磁控溅射制备纳米复合钛铝硅氮涂层研究
本文采用闭合场非平衡调制脉冲磁控溅射技术制备纳米复合钛铝硅氮涂层,研究溅射工艺参数如溅射靶材成分、溅射气压和溅射平均功率对涂层结构与性能的影响,分析纳米复合钛铝硅氮涂层成分、结构与性能之间的作用机理与规律,进而选择制定闭...
吴彼
关键词:残余应力
文献传递
高功率调制脉冲磁控溅射沉积TiAlSiN纳米复合涂层对钛合金基体抗氧化性能的影响研究被引量:3
2020年
目的研究Ti6Al4V基TiAlSiN涂层在800℃下的抗循环氧化性能。方法采用高功率调制脉冲磁控溅射技术,通过调节N2/Ar的流量比fN2,在Ti6Al4V合金和Si(100)上沉积了一系列不同Si含量的TiAlSiN涂层。通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜、电子探针、透射电镜和纳米压痕仪,表征了TiAlSiN涂层的成分、相组成、微结构和硬度,并通过X射线衍射仪和扫描电子显微镜,进一步对Ti AlSiN涂层在800℃下循环氧化后的微观结构和形貌进行分析。结果脉冲平均功率为2k W时,fN2由10%增至30%,TiAlSiN涂层的Si含量(以原子数分数计)由6.1%增加至16.4%,涂层中Ti和Al含量则相应地降低。当fN2为10%时,TiAlSiN涂层呈现典型的X射线非晶结构特征,涂层中N含量(以原子数分数计)约为47%;当fN2为30%时,TiAlSiN涂层呈现Ti Al N和非晶相的混合结构。TEM结果表明,涂层中TiAlN晶粒尺寸约为5nm并均匀镶嵌在非晶相上。所有沉积于Si基底上的TiAlSiN涂层均具有相近的纳米硬度、弹性模量及残余应力,分别为17 GPa、225 GPa和–300 MPa。选取fN2为10%和25%,溅射具有不同氮含量和特征微结构的TiAlSiN涂层作为Ti6Al4V合金防护涂层,研究涂层的抗循环氧化性能。在800℃高温循环氧化70h后,TiAlSiN涂层保护的合金样品较原始样品呈现更优异的抗氧化性能,且fN2为25%制备的高Si含量TiAlSiN涂层较fN2为10%制备的涂层具有更为优异的抗循环氧化性能。循环氧化后,TiAlSiN氧化层结构完整致密并呈现柱状晶特征,氧化层由上至下分别形成富α-Al2O3、a-TiO2及r-TiO2三层结构。结论高Si含量的TiAlSiN涂层具有更低的氧化速率,涂层的纳米复合结构和低压缩应力是其抗循环氧化能力提高的主要原因。
李玉阁朱小鹏吴彼雷明凯
关键词:钛合金抗氧化
共1页<1>
聚类工具0