寇云峰
- 作品数：4 被引量：9H指数：2
- 供职机构：浙江工业大学机电工程学院更多>>
- 发文基金：浙江省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程化学工程一般工业技术更多>>
- AlN/CNx复合薄膜的PLD制备及其机械性能的研究
- 本文通过采用脉冲激光沉积（PLD）方法在单晶Si衬底上制备AlN薄膜,以薄膜的本征硬度作为参考指标,通过正交实验来确定制备AlN薄膜的基本工艺参数,并考察沉积气压、衬底温度、激光通量、靶衬间距等工艺参数对AlN薄膜表面形...
- 寇云峰
- 关键词：氮化铝氮化碳机械性能脉冲激光沉积
- 文献传递
- WS_x薄膜的脉冲激光沉积可控制备被引量：2
- 2012年
- 采用脉冲激光沉积法(PLD)在单晶硅基底上制备了WSx固体润滑薄膜。利用X射线能谱仪(EDS)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)对薄膜的成分、形貌和微观结构进行了分析,采用球盘式磨损试验机在大气(相对湿度为50%～55%)环境下评价薄膜的摩擦学特性。结果表明:薄膜中S和W的原子数分数比(简称S/W比)在1.05～3.75之间可控,摩擦系数为0.1～0.2;S/W比高于2.0时薄膜成膜质量和摩擦系数显著恶化。正交试验法得出影响薄膜S/W比的因素主次顺序分别是气压、温度、靶基距和激光通量;最优工艺参数是温度150℃、靶基距45mm、激光通量5J/cm2、气压1Pa,可获得结构致密、成分接近化学计量比的WSx薄膜。
- 张继郑晓华寇云峰宋仁国
- 关键词：WS2脉冲激光沉积固体润滑正交试验
- 基底温度对脉冲激光沉积WS_x薄膜组织结构和摩擦学性能的影响被引量：4
- 2012年
- 采用脉冲激光沉积法(PLD)在不同温度单晶硅基底上制备了WSx固体润滑薄膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)对薄膜的成分、形貌和微观结构进行了分析,采用球-盘式磨损试验机测试了薄膜在大气环境下(相对湿度50%～60%)的摩擦学特性.结果表明:室温下所获得的薄膜为微晶结构;在RT～300℃范围内,随着温度的升高,薄膜表面趋于光滑、致密,且形成晶态WSx的趋势逐渐增大,薄膜与基底间的结合力增大,但薄膜中S和W的含量之比(S/W比)从1.84逐步下降到1.49.薄膜的摩擦系数在RT～200℃范围内与其S/W比呈反比关系,在300℃条件下,薄膜中形成了大量的WS2晶体,摩擦系数最低且耐磨性能也最好.
- 张继郑晓华杨芳儿寇云峰宋仁国
- 关键词：WS2脉冲激光沉积基底温度固体润滑
- 脉冲激光沉积AlN薄膜的工艺优化与机械性能被引量：2
- 2013年
- 采用脉冲激光沉积(PLD)方法在单晶Si衬底上制备AlN薄膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)对薄膜的形貌和微观结构进行了分析;采用显微硬度仪、球-盘式磨损试验机和涂层自动划痕仪测试了薄膜的机械性能.通过正交实验,分析了工艺参数与AlN薄膜硬度之间的关系,得出沉积气压是对薄膜硬度影响大的因素,并研究了沉积气压对AlN薄膜表面形貌、微观结构、沉积速率、硬度、结合力和摩擦性能的影响.实验结果表明:所制备的薄膜均为非晶结构,随着沉积气压的上升,薄膜沉积速率降低,薄膜表面粗糙度降低,摩擦系数变小,当气压由0.1Pa增加到1Pa时,薄膜的硬度和耐磨性提高,但是随着气压进一步增大,其硬度和耐磨性下降.
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- 关键词：氮化铝脉冲激光沉积正交试验
