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张仲麟

作品数：19 被引量：77H指数：5
供职机构：大连理工大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金教育部科学技术研究重点项目更多>>
相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 13篇期刊文章
  • 4篇专利
  • 1篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 7篇金属学及工艺
  • 5篇理学
  • 4篇一般工业技术
  • 2篇电子电信
  • 1篇机械工程

主题

  • 11篇等离子体
  • 10篇等离子
  • 8篇等离子体源
  • 8篇离子渗
  • 6篇渗氮
  • 6篇离子渗氮
  • 5篇低能离子
  • 4篇等离子体基
  • 4篇不锈
  • 4篇不锈钢
  • 3篇低能离子注入
  • 3篇离子注入
  • 3篇改性
  • 3篇奥氏体
  • 3篇奥氏体不锈钢
  • 2篇氮离子注入
  • 2篇电压
  • 2篇增压
  • 2篇渗硼
  • 2篇渗碳

机构

  • 19篇大连理工大学
  • 2篇大连铁道学院
  • 1篇大连海事大学

作者

  • 19篇张仲麟
  • 14篇雷明凯
  • 11篇袁力江
  • 4篇马腾才
  • 4篇王大庸
  • 2篇刘延伟
  • 2篇郭甲
  • 2篇高峰
  • 2篇赵玉园
  • 2篇朱雪梅
  • 2篇吴桂林
  • 1篇李有宏
  • 1篇黄岩
  • 1篇朱雪梅
  • 1篇刘福利
  • 1篇李绮

传媒

  • 3篇无机材料学报
  • 2篇金属学报
  • 1篇金属热处理
  • 1篇机械工程材料
  • 1篇分析测试学报
  • 1篇摩擦学学报（...
  • 1篇真空
  • 1篇大连理工大学...
  • 1篇中国腐蚀与防...
  • 1篇金属热处理学...
  • 1篇中国机械工程...

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2007
  • 1篇2006
  • 1篇2002
  • 4篇1999
  • 1篇1998
  • 2篇1997
  • 2篇1996
  • 1篇1995
  • 2篇1991
  • 1篇1990
  • 2篇1986
共 19 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
钢的等离子体基低能离子注入的传质机制被引量：6
1999年
等离子体基低能离子注入是一种钢的低温、低压表面改性方法，它包括等离子体源离子渗氮和等离子体源离子渗碳两种工艺等离子体基低能离子注入的主要传质机制是低能离子注入一同步热扩散，即在低脉冲负偏压作用下的离子首先完成不依赖于工艺温度的低能离子注入，然后己注入的原子在较低的工艺温度下发生足够的热扩散等离子体热扩散吸收具有补充的传质作用，但由于工艺温度较低，这种作用很小连续的热扩散过程有利于改善注入吸收条件，等离子体湮没也可以防止已注入原子的反向逸出，二者对传质过程具有促进作用．
雷明凯朱雪梅袁力江张仲麟
关键词：离子注入等离子体低能
离子渗碳供碳动力学的研究被引量：1
1990年
本文探讨了离子渗碳活性碳原子的形成机理及向工件输送的过程,在此基础上导出了供碳速度与电流密度、温度、气体成分和流量等工艺参数间的定量计算关系式。用称重法研究了在试样表面未达到饱和含碳量时,各种工艺参数对试样渗碳后增重的影响规律,很好地验证了上述关系式。该式为合理选择工艺参数和建立渗碳完整的数学模型提供了依据。
赵玉园张仲麟陈淑媛
关键词：离子渗碳工艺参数
等离子体源增强磁控溅射沉积Al_2O_3薄膜研究被引量：15
2002年
采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600℃沉积温度下,Si（100）基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2O3体材料相当.
雷明凯袁力江张仲麟
关键词：等离子体源磁控溅射沉积AL2O3薄膜氧化铝薄膜折射率光学性能
ECR微波等离子体溅射沉积氮化铝的研究被引量：1
1991年
利用自制的ＥＣＲ（电子回旋共振）微波等离子体溅射沉积装置，在氮气分压很低的条件下（２．６× １０－３～２．９ × １０－２Ｐａ）成功地获得了透明绝缘的纯氨化铝膜。电阻率达１０１１ ·ｃｍ，折射率约为 ２．０５，膜的其他各项物理性能均达到了较好的指标．
李绮张仲麟王大庸
关键词：等离子体溅射
合成硼碳氮体系薄膜的XPS研究
1999年
采用 Ｘ 射线光电子谱（ Ｘ Ｐ Ｓ） 分析３００ ～５００‘ Ｃ 等离子体源离子渗氮硼和碳化硼薄膜合成的氮化硼和硼碳氮薄膜利用合成薄膜成分可控的特点， 研究 Ｂ、 Ｃ、 Ｎ 对薄膜的 Ｘ Ｐ Ｓ影响结果表明， Ｘ Ｐ Ｓ分析合成氮化硼薄膜能够确定其化学组成， 但不能确定ｓｐ２ 和ｓｐ３ 型键合结构特性； Ｘ Ｐ Ｓ 分析硼碳氮薄膜能够确定其成分和结构特性在较高的工艺温度下， 等离子体源离子渗氮合成的硼碳氮薄膜具有ｓｐ２ 和ｓｐ３
雷明凯袁力江张仲麟马腾才
关键词：硼碳氮薄膜等离子体源离子渗氮XPS
等离子体基低能离子注入的光谱诊断被引量：1
1998年
采用发射光谱（ＯＥＳ）技术系统地研究了电子回旋共振（ＥＣＲ）微波等离子体基低能离子注入的等离子体特性。结果表明：纯氮气形成的等离子体中的活性粒子主要是Ｎ２和Ｎ＋２，等离子体中电子与气体分子碰撞使Ｎ２产生激发和电离，而使Ｎ２离解的作用很小；氮氩混合气形成的等离子体中，随着氩气分压的增加，Ｎ２和Ｎ＋２的浓度降低，同时氩气对氮分子离解的贡献很小；直接施加于试样的脉冲负偏压对等离子体特性没有明显影响，但存在着一定的溅射作用。
吴桂林雷明凯刘延伟张仲麟马腾才
关键词：离子注入离子渗氮光谱
制冷机环状阀片的氮离子注入改性
1995年
氮离子注入改性有效地增加长行程、高转速活塞式制冷压缩机环状阀片的使用寿命，提高了这类新型制冷机的可靠性。
雷明凯袁力江刘福利张仲麟戴连森
关键词：制冷机阀片离子注入改性压缩机
大面积直流脉冲等离子体基低能离子注入装置
材料表面工程领域中，大面积直流脉冲等离子体基低能离子注入装置，包括金属真空室[5]，低能离子注入电源[14]和真空系统，特征：取消由外界输运等离子体的独立等离子体源，在真空室内安置一金属网罩[6]，等离子体源电源[8]向...
雷明凯郭甲高峰袁力江张仲麟
文献传递
等离子体源离子渗氮 1Cr18Ni9Ti 奥氏体不锈钢磨损特性的试验研究被引量：12
1997年
用等离子体源离子渗氮，即低能（１～３ｋｅＶ）、超大剂量（１０１９～１０２０ｉｏｎｓ／ｃｍ２量级）Ｎ＋注入－同步扩散改性技术，在２８０℃和３８０℃下处理１Ｃｒ１８Ｎｉ９Ｔｉ奥氏体不锈钢，获得了最大深度分别为１．６μｍ和１０．６μｍ，固溶Ｎ的最高原子浓度均约为２５％的Ｎ过饱和面心立方相（γＮ）改性层．销－盘磨损试验表明：在２ｍ／ｓ和较宽负荷范围（等效正应力０．２～２．８ＭＰａ）条件下，高硬度（ＨＫ０．１Ｎ２２００）的γＮ相改性层具有较高的承载能力和较长的耐磨寿命．高度过饱和Ｎ在母相奥氏体中的固溶强化作用，是使等离子体源离子渗氮奥氏体不锈钢耐磨性提高的主要原因．
雷明凯李有宏张仲麟黄岩
关键词：等离子体源离子渗氮奥氏体不锈钢耐磨性
增压吸附式低温渗硼法
本发明是属于一种化学热处理工艺方法。;它是在已有渗硼技术基础上，实现了对精密零件在A<Sub>1</Sub>点以下，特别是在560～620℃范围的低温渗硼。;本发明的特点在于：用增加压力的方法延缓活化剂的较快分解；加入活...
王大庸张仲麟陈秀洁张学成
文献传递
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