徐俊中
- 作品数：12 被引量：32H指数：3
- 供职机构：中国科学技术大学更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：机械工程理学核科学技术电子电信更多>>
- 用于大口径光束变换系统的矢量衍射分析
- 2001年
- 本文首先介绍了一种独特的矢量衍射方法．针对传播波在频域的范围过大的难点，通过引入“有效频域孔径”的概念，成功的将这种方法应用到大口径光束变换系统中．最后利用这种方法对大口径的矩孔和圆孔的夫琅和费衍射重新进行了分析，并讨论了抽样点数选取的问题．
- 徐俊中王炜李永平
- 关键词：矢量衍射
- 用于ICF的四光束并束均匀化的器件设计
- 2001年
- 惯性约束核聚变(ICF)中的均匀照明和极窄焦斑问题一直以来都是实验成败的关键,也是研究中的活跃课题.为了既保证所需光束质量,又在现有装置上提高靶场研究所需功率,一种对多光束进行合并整形的方案是必需的.基于以往多年的经验和实践,现今我们采用几何光学与二元光学位相调制相结合的基本思想,将方向不同、非相干的四束来自驱动器末端的光束,通过我们所设计的光学元件进行并束并加以波面整形,最后出射高强度、高质量的超高斯光束.基本思想是:将四束不同倾角的入射光通过楔形列阵准直平行,出射的四束平行光经由设计好的二维位相片进行波面变换,经过主透镜后在焦平面叠加产生窄焦斑、高功率的平顶超高斯光束.与以往二维位相片的设计不同的是,该设计方案中采用一维位相片设计,经过交叉变换拓展成二维分布.基于上述方法设计的位相片列阵能分别对四束光进行整形.通过对整个光路的计算模拟表明,四光束并束均匀化后叠加效果不仅使光强增加为原来的四倍,而且有利于提高靶场光束均匀化的指标.由此可知,我们所设计的四光束合并均匀化方案,在光束质量和能量上均比单光束有相当大的提高和改善,并且位相片的设计有利于工艺加工制作.(OG23)
- 赵逸琼王炜徐俊中李永平
- 关键词：ICF均匀化
- 离子束旋转刻蚀工艺误差对均匀照明的影响被引量：3
- 2001年
- 介绍一种离子束旋转刻蚀工艺,该工艺可用于制作真正意义上连续位相分布的衍射光学元件。对工艺系统中离子束不均匀度和基片与掩模板中心对准误差对器件性能的影响作了模拟计算,并根据对误差的模拟分析提出了工艺改进方案。
- 徐俊中赵逸琼王炜李永平徐向东周洪军洪义麟李涛傅绍军
- 关键词：误差分析离子束刻蚀衍射光学元件均匀照明
- 用于均匀照明的纯位相元件多元化分析
- 2001年
- 论文通过理论分析探讨了用于均匀照明问题的纯位相元件的通用性问题 ,揭示了纯位相元件的设计与实际应用系统各类参数指标的依赖关系 .并且还研究了刻蚀工艺中的正负片问题 。
- 徐俊中赵逸琼王炜李永平
- 关键词：均匀照明刻蚀工艺衍射光学
- 离子束平动刻蚀工艺衍射光学元件的设计及制作被引量：7
- 2002年
- 提出了一种用于制作二维光束整形衍射光学元件的新方法———离子束平动刻蚀工艺。分别介绍了利用这种新方法设计衍射光学元件的原理、设计过程以及刻蚀工艺系统的构成和掩模板的设计方法。结果表明 ,这种新的工艺方法不拘泥于圆对称系统 ,不但继承了离子束旋转刻蚀工艺的位相真正连续分布的优势 ,而且所制作出的衍射光学元件 ,即使对于半导体激光器所产生的两个方向发散角不同的激光束来说也仍然可以进行整形 ,并最终能得到矩形焦斑。这种工艺方法的理论设计也可以从二维化简为两个一维的设计 。
- 徐俊中赵逸琼王炜李永平徐向东傅绍军
- 关键词：衍射光学元件
- 用于“神光Ⅱ”装置类环形光束整形的纯位相元件的研究
- 2001年
- 我国的"神光Ⅱ"装置为避免输出光束自身类似于自聚焦效应的独特光学特性对激光工作物质的破坏,采用了类环形光束输出.对于类环形光束的均匀化整形问题,我们利用自洽叠代与优化相结合的算法,采取一维圆对称方案,根据"神光Ⅱ"装置的实际波阵面与系统参数,设计了用于类环形光束均匀化整形的大口径连续型纯位相元件.设计中以4～8阶超高斯为外围轮廓,4阶超高斯为中心空洞轮廓,加以20%的随机调制,模拟了实际波阵面.文中详细介绍了纯位相元件的设计原理与方法,分析了该设计对于非理想波阵面的宽容度等问题,并且计算了不同条件下该设计的衍射效率.结果表明,该设计具有大口径(240mm)、高衍射效率(≥95%)、对于实际应用范围内(4～8阶)不同高斯阶数的入射光强均有很强整形能力等特点,满足了ICF系统对于激光驱动光源的苛刻要求,并且位相突变少,基本无突变线,实现了真正意义的连续型位相分布.(PG9)
- 伍源徐俊中王炜付绍军李永平
- 关键词：光束整形
- 一种用于均匀照明的衍射光学元件设计的混合算法被引量：11
- 2002年
- 介绍一种综合迭代法和优化算法两者优势的混合算法 ,并用于设计ICF靶场照明衍射光学元件 ,得出比先前方法更加理想的模拟结果 .其衍射效率达到 97 5 % ,均方误差为 0 0 2 6 。
- 李涛付绍军王炜徐俊中李永平
- 关键词：模拟退火法ICF靶场衍射光学元件均匀照明
- 用于均匀照问题的衍射光学元件研究
- 衍射光学元件（DOE：DiffractiveOpticalElements）,特别是具有连续分布浮雕结构的位相元件,可以实现很多传统光学元件无法完成的功能,是上个世纪后期开始发展起来后类重要光学元件.而均匀照明问题（UI...
- 徐俊中
- 关键词：衍射光学元件
- 文献传递
- 用于分频的闪耀光栅设计及衍射行为研究被引量：14
- 2000年
- 详细地介绍了用于分频的闪耀光栅设计方法 ;推导了影响元件性能的衍射效率公式 ;并研究了纵横向工艺误差对其衍射行为的影响。模拟结果显示在 8%和 5%纵横向相对误差范围内 ,该闪耀光栅具有良好的分色效果。
- 王炜徐俊中李永平李涛傅绍军
- 关键词：闪耀光栅衍射分频
- 用于ICF的四光束并束均匀化器件设计
- 采用几何光学与二元光学位相调制相结合的基本思想,将四束不同倾角的入射光通过楔形列阵准直平行,然后分别经过位相片进行波面变换,最后由主透镜会聚在靶场叠加产生窄焦斑、高功率的平顶超高斯光束.
- 赵逸琼王炜徐俊中李永平
- 关键词：均匀照明光学元件
- 文献传递
